技術編號：11077227
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及電子半導體技術領域，尤其涉及一種用于清潔高溫壓頭的磨石、清潔裝置及清潔控制方法。背景技術高溫壓頭在持續(xù)壓合操作過程中，其表面會粘附一層膠狀類異物。如圖1所示，目前多采取間隔一段時間，使用的長條狀或方塊狀的磨石10對高溫壓頭20的端面進行摩擦清潔，但上述磨石10難以將摩擦作用力集中在高溫壓頭端面的待清潔區(qū)域，清潔效果較差。并且，上述磨石10反復摩擦使用后的表面會形成凹陷，高溫壓頭與磨石相互移動時會產生側向摩擦作用力，減小了高溫壓頭端面的接觸壓力，難以清除黏附較為頑固的膠狀物，進而使得高溫...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。