1.一種真空貼膜機(jī)，其特征在于：包括座體(1)、真空吸附組件及滑軌組件；所述的滑軌組件設(shè)于所述的座體(1)上；所述的真空吸附組件滑動(dòng)配合在所述的滑軌組件上；所述的座體(1)上設(shè)有產(chǎn)品固定座(3)，所述的產(chǎn)品固定座(3)位于滑軌組件沿滑動(dòng)方向的一側(cè)；所述的真空吸附組件靠近所述的產(chǎn)品固定座(3)的一端設(shè)有保護(hù)膜吸附面(4.2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空貼膜機(jī)，其特征在于：所述的真空吸附組件包括吸附體(4)、真空發(fā)生器(5)及開關(guān)(6)；所述的吸附體(4)滑動(dòng)配合在所述的滑軌組件上；所述的保護(hù)膜吸附面(4.2)設(shè)于所述的吸附體(4)靠近所述的產(chǎn)品固定座(3)的一端上；所述的吸附體(4)內(nèi)設(shè)有氣流通道(4.3)，所述的氣流通道(4.3)的一端貫通所述的保護(hù)膜吸附面(4.2)，所述的氣流通道(4.3)的另一端貫通所述的吸附體(4)的側(cè)壁；所述的氣流通道(4.3)的另一端通過管道與真空發(fā)生器(5)的進(jìn)氣端相連接；所述的真空發(fā)生器(5)的出氣端通過管道與所述的開關(guān)(6)相連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空貼膜機(jī)，其特征在于：所述的滑軌組件包括滑軌座(2)，所述的滑軌座(2)的上側(cè)設(shè)有第一滑軌(7)；所述的吸附體(4)的下表面設(shè)有滑塊(8)，所述的滑塊(8)上設(shè)有第一滑槽(8.1)；所述的吸附體(4)設(shè)于所述的滑軌座(2)的上方，所述的滑塊(8)滑動(dòng)配合在所述的第一滑軌(7)上且所述的第一滑槽(8.1)與所述的第一滑軌(7)相配合。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空貼膜機(jī)，其特征在于：所述的滑軌座(2)靠近所述的產(chǎn)品固定座(3)的一端的上側(cè)設(shè)有限位凸臺(tái)(9)且所述的限位凸臺(tái)(9)位于所述的第一滑軌(7)的一端的外側(cè)；所述的限位凸臺(tái)(9)的上表面高于所述的第一滑軌(7)的上表面且低于所述的吸附體(4)的下表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空貼膜機(jī)，其特征在于：所述的限位凸臺(tái)(9)的上側(cè)設(shè)有滑動(dòng)方向與所述的第一滑軌(7)的滑動(dòng)方向一致的第二滑軌(10)，所述的吸附體(4)的下表面設(shè)有第二滑槽(4.4)；所述的吸附體(4)的一端位于所述的限位凸臺(tái)(9)的上方且所述的第二滑槽(4.4)與所述的第二滑軌(10)相配合。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空貼膜機(jī)，其特征在于：所述保護(hù)膜吸附面(4.2)設(shè)于所述的吸附體(4)的一端的端面上，所述的保護(hù)膜吸附面(4.2)為弧形面；所述的保護(hù)膜吸附面(4.2)的中部及兩側(cè)部均設(shè)有所述的氣流通道(4.3)的吸附口。
7.所述的產(chǎn)品固定座(3)包括底座(3.1)，所述的底座(3.1)上設(shè)有凸臺(tái)(3.2)，所述的凸臺(tái)(3.2)與所述的產(chǎn)品(10)的下端口相匹配；所述的凸臺(tái)(3.2)的側(cè)壁上設(shè)有與所述的產(chǎn)品(10)的內(nèi)壁上的凸起(10.1)相對(duì)應(yīng)的凹槽(3.3)。