專利名稱：真空成膜裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及在真空狀態(tài)下使多個基材成膜的真空成膜裝置。
背景技術：
近年來，應用薄膜制造各種制品。作為應用薄膜的制品，例如舉出使用于汽車用燈的反射器的例子。在真空成膜裝置所具備的真空槽內(nèi)保持基材，并且使蒸發(fā)源等的成膜單元工作以在基材上形成薄膜，以此可以制造該反射器。更具體的是，反射器是在該基材上層疊反射光的反射膜、和用于保護該反射膜的保護膜而制成的。像這樣在由金屬材料(例如鋁)構成的反射膜上層疊保護膜，以此可以抑制反射膜隨著時間的劣化。作為像這樣利用于反射器的制造的真空成膜裝置，公開了在真空槽的門的內(nèi)表面?zhèn)染邆涑赡卧盎谋３旨⑶倚纬蔀樵撻T關閉時該成膜單元及基材保持件配置在真空槽的內(nèi)側(cè)空間內(nèi)的結(jié)構的真空成膜裝置(例如專利文獻1、2)。例如，專利文獻1、2中公開的真空成膜裝置形成為在一個真空槽上設置左右對稱的門，在該門上安裝基材保持件等的結(jié)構，并且在關閉一方的門而對設置于該門上的基材實施成膜處理的期間，在另一方的門上可以執(zhí)行基材的拆裝等。現(xiàn)有技術文獻:
專利文獻1:國際公開第2009/084408號冊；
專利文獻2:日本特許第4246570號公報。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題:
但是，上述的現(xiàn)有技術中存在成膜處理所需的時間長的問題。更具體的是，專利文獻1、2的真空成膜裝置形成為在關閉一方的門(第一門)而對設置于該門上的基材實施成膜處理的期間(批量處理時間的數(shù)分鐘期間)，另一方的門(第二門)處于暴露在真空槽外部的空氣(外部空氣)中的狀態(tài)。在這里，運行真空成膜裝置，例如進行如上所述的反射器的制造時，門的形成真空槽內(nèi)壁的一部分的一側(cè)的面(真空槽內(nèi)壁側(cè)面)，即設置有基材的一側(cè)的面被成膜物質(zhì)所覆蓋。該門的真空槽內(nèi)壁側(cè)面被成膜物質(zhì)所覆蓋時變成非常容易吸附水分的狀態(tài)，并且與該面暴露在外部空氣中的時間相對應地水分吸附量增大。像這樣門的真空槽內(nèi)壁側(cè)面吸附水分時，水分的排出需要時間，并且批量處理時間長。因此，為了抑制水分的吸附量，需要減小被成膜物質(zhì)所覆蓋的門的真空槽內(nèi)壁側(cè)面暴露在外部空氣中的時間。但是，在專利文獻1、2的真空成膜裝置中，在關閉第一門進行成膜處理的期間，第二門暴露在外部空氣中并且吸附水分。而 且，完成對設置于第一門上的基材的成膜處理時，打開該門并執(zhí)行已成膜的基材的拆裝等，同時關閉第二門，執(zhí)行設置于該門上的基材的成膜處理。此時，第二門已吸附較多的水分，因此使成膜處理時間更進一步加長。
又，門的表面積依賴于基材的治具尺寸、以及配置于門上的基材數(shù)量等，而表面積越大，水分的吸附量越増大。像這樣，在專利文獻1、2公開的真空成膜裝置中，由于是在門上配置基材等的結(jié)構，因此批量處理時間的數(shù)分鐘期間一方的門暴露在外部空氣中，水分吸附量増大。又，為了有效地配置基材，門的表面積増大，結(jié)果是水分吸附量増大。因此，在專利文獻1、2公開的真空成膜裝置中，需要將吸附的水分排出的時間，從而成膜處理所需的時間加長。本發(fā)明是鑒于上述問題點而形成的，其目的在于提供減少水分的排出所需時間以能夠抑制成膜處理所需時間的真空成膜裝置。解決問題的手段:
根據(jù)本發(fā)明的真空成膜·裝置是為了解決上述問題而在真空狀態(tài)下對多個基材成膜的真空成膜裝置，具備:用于支持所述基材的多個支持部；支持并搬運所述多個支持部的搬運單元；和具有用于搬入及搬出所述搬運単元的開ロ部以及用于開閉該開ロ部的門部，且用于形成真空狀態(tài)的真空槽；所述搬運単元支持所述多個支持部以使所述多個支持部在向所述真空槽的搬運方向上直列地配置；所述開ロ部根據(jù)所述搬運單元的尺寸而形成。在這里，基材是指成為成膜對象的構件，例如舉出以特定的形狀成型的成型體等的例子。根據(jù)上述結(jié)構，由于真空槽具備開ロ部及門部，因此通過該開ロ部，支持支持部的搬運單元可以向該真空槽搬入，或者可以從真空槽搬出。又，搬運單元在搬運方向上直列地配置并支持多個支持部，因此該搬運單元的尺寸取決于所支持的各支持部的尺寸。即，將搬運單元與搬運方向垂直地切割時的截面積與ー個支持部的尺寸相對應。在這里，開ロ部的開ロ尺寸是根據(jù)搬運單元的尺寸而形成的。即，開ロ部的開ロ尺寸是能夠使支持于搬運単元的ー個支持部從真空槽進出的尺寸，更具體的是，成為將搬運単元與搬運方向垂直地切割時的截面積。又，用于開閉該開ロ部的門部的尺寸也與開ロ部的開ロ尺寸一起盡可能減小。即，盡可能減小門部的表面積。但是，門部的真空槽內(nèi)壁側(cè)面由在基材成膜處理時所產(chǎn)生的成膜物質(zhì)覆蓋，從而處于非常容易吸附水分的狀態(tài)。根據(jù)本發(fā)明的真空成膜裝置中，門部的真空槽內(nèi)壁側(cè)面暴露于外部空氣中的時間僅僅是搬運單元進出真空槽的期間。即，如專利文獻1、2中公開的真空成膜裝置那樣，不在成膜處理時間的期間變成門部(門)暴露在外部空氣中的狀態(tài)，而能夠降低水分吸附量。此外，如上所述盡可能減小門部的表面積，因此可以降低門部吸附的水分量。像這樣，根據(jù)本發(fā)明的真空成膜裝置中，可以抑制門部吸附的水分量。因此，根據(jù)本發(fā)明的真空成膜裝置發(fā)揮減少水分排出所需的時間而抑制成膜處理所花費的時間的效果。又，根據(jù)本發(fā)明的真空成膜裝置在上述結(jié)構中，所述搬運単元也可以形成為具備加熱蒸發(fā)成膜材料，用于在支持于所述支持部的基材上形成膜的ー個以上的蒸發(fā)源；所述支持部及所述蒸發(fā)源在所述搬運方向上直列地配置，且在該支持部之間配設該蒸發(fā)源的結(jié)構。根據(jù)上述結(jié)構，由于多個支持部在搬運方向上直列地配置，因此對于搬運單元可以在搬運方向上直列地配置支持部。又，在支持部之間具備蒸發(fā)源，因此在形成真空狀態(tài)的真空槽內(nèi)，通過蒸發(fā)方法可以在由夾著蒸發(fā)源的支持部所支持的基材上成膜。又，根據(jù)本發(fā)明的真空成膜裝置在上述結(jié)構中，所述支持部也可以形成為旋轉(zhuǎn)自如地支持基材的結(jié)構。根據(jù)上述結(jié)構，由于支持部旋轉(zhuǎn)自如地支持基材，因此成膜處理時使基材旋轉(zhuǎn)，從而在整個基材上能夠均勻地實施成膜處理。又，根據(jù)本發(fā)明的真空成膜裝置在上述結(jié)構中，也可以具備裝載所述搬運單元，并且在水平面上在與所述搬運方向不同的方向上能移動該搬運單元的移動臺。根據(jù)上述結(jié)構，由于具備移動臺，因此可以通過該移動臺將搬運單元移動至另一個地點，同時將新的搬運單元移動至真空槽的前面，而向真空槽搬運。即，可以有效地進行向真空槽搬入的搬運單元的切換。又，根據(jù)本發(fā)明的真空成膜裝置在上述結(jié)構中，所述門部也可以形成為相對于所述開口部左右移動，從而開閉該開口部的結(jié)構。又，根據(jù)本發(fā)明的真空成膜裝置在上述結(jié)構中，所述門部也可以形成為一邊的側(cè)部通過鉸鏈與所述真空槽接合，并且以該鉸鏈為軸畫出弧形地開閉所述開口部的結(jié)構。發(fā)明效果: 本發(fā)明如以上所述地那樣構成，從而發(fā)揮減少水分排出所需的時間而能夠抑制成膜處理花費的時間的效果。


圖1是示出根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置的概略結(jié)構的一個示例的俯視 圖2是根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置中與真空排氣處理相關的結(jié)構的一個示例的
框 圖3是根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置中與真空排氣處理相關的結(jié)構的一個示例的框 圖4是示意性地示出根據(jù)本實施形態(tài)的變形例的基材單元中基材的配置的一個示例的 圖5是示意性地示出根據(jù)本實施形態(tài)的變形例的基材單元中基材的配置的一個示例的圖。
具體實施例方式以下，參照

本發(fā)明的優(yōu)選的實施形態(tài)。另外，以下在所有附圖中對于相同或者相對應的構成構件標以相同的參考符號并省略其說明。(真空成膜裝置的結(jié)構)
首先，參照圖1說明根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100的結(jié)構。圖1是示出根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100的概略結(jié)構的一個示例的俯視圖。在本實施形態(tài)中，舉例說明使用作為基材20的構成前照燈的反射器的樹脂成型體，并且在真空中，在該基材20的表面上依次進行由鋁的蒸發(fā)膜構成的反射膜、和由合成樹脂構成的保護膜的成膜的批量式成膜裝置。如圖1所示，真空成膜裝置100是具備真空槽1、基材單元(搬運単元)2、排氣單元
4、共通基座5以及搬運基座6而構成的結(jié)構。真空槽I是用于在其內(nèi)部形成比周圍的壓力低的狀態(tài)(真空)的氣密容器，并且本實施形態(tài)中形成為大致立方體。但是，真空槽I的形狀并不限于這樣的立方體，只要是能夠形成希望的真空狀態(tài)的形狀即可。又，真空槽I具有能夠使基材單元2進出的搬入ロ(開ロ部)10、及用于執(zhí)行該搬入ロ 10的開閉的搬入ロ門(門部)11。在本實施形態(tài)中，搬入ロ門11設置為拉門，相對于搬入ロ 10左右滑動以此能夠進行開閉。又，關閉搬入ロ門11時，在搬入ロ 10和搬入ロ門11的接觸部上安裝有密封構件(不圖示)以確保密閉性。另外，盡管搬入ロ門11為拉門，但是并不限于此，也可以是搬入ロ門11的ー邊的側(cè)部通過鉸鏈與真空槽I接合，并且能夠?qū)⒃撱q鏈為軸畫出弧形地開閉的鉸鏈門。在本實施形態(tài)中，在真空槽I中設置有搬入ロ 10的一側(cè)稱為正面，與其相対的面稱為背面，與正面連接的左右的面分別稱為左側(cè)面、右側(cè)面，以及將上部的面稱為上表面。此外，真空槽I如圖1所示在其外觀形狀的左側(cè)面上具備等離子體放電電極12。該等離子體放電電極12是在通過等離子體聚合對配置在真空槽I內(nèi)的基材20進行成膜吋，用于使等離子體放電的電極。排氣單元4是用于對真空槽I的內(nèi)部進行真空排氣的単元，其具備輔助真空泵(羅茨泵(roots pump)31及油旋轉(zhuǎn)泵32)和高真空泵(油擴散泵33及冷講(cool trap)34)而構成。又，為了控制這些各種泵和真空槽I 之間的空氣的流通，而具備主閥13、粗抽(roughingvacuum)閥 14、前級管道閥(fore line valve) 15、排氣閥(vent valve) 16 以及閘閥(gatevalve) 17。另外，在圖1中，因考慮到紙面的大小有限，未圖示閘閥17及冷阱34。下面詳述關于與真空排氣處理相關的真空槽1、該排氣単元4以及包含圖1中設置于真空槽I的上表面的主閥13的其他閥的說明。另外,上述的真空槽I及排氣單元4 一起支持于共通基座5?；膯卧?是通過基材支持體(支持部)23保持基材20的部件，并且裝載在設置于搬運基座6上的移動臺25上，從而能夠與該移動臺25 —起移動，或者能夠在設置于移動臺25上的軌道(第二軌道52)上移動。即，在搬運基座6的表面上，在與向基材單元2的真空槽I的搬運方向垂直的方向(換入方向)上設置有第一軌道51。而且，通過由第一軌道51引導使移動臺25移動，可以使裝載在移動臺25上的基材單元2向換入方向，即相對于搬入ロ 10左右移動。此外，在移動臺25上沿著搬運方向(搬入方向或者搬出方向)設置有第二軌道52。又，在真空槽I的內(nèi)部也設置有軌道以與該第二軌道52連接，基材單元2通過在該第二軌道52和真空槽I內(nèi)的軌道(真空槽軌道53)上移動，可以從真空槽I進出。另外，在本實施形態(tài)中，移動臺25形成為在與搬運方向垂直的方向上移動的結(jié)構，但是移動方向并不限于此，只要在與搬運方向不同的方向上移動以使裝載在移動臺25上的不同基材單元2能分別交替地向真空槽I搬入及搬出即可。如上所述,可移動的基材單元2如圖1所示具備保持基材20的基材支持體(支持部)23、配置在基材支持體23之間的蒸發(fā)源21、支持基材支持體23及蒸發(fā)源21的支持基座24。基材支持體23具有從支持基座24向垂直方向、向上延伸的桿形的軸部，在該軸部上可以安裝基材20。在本實施形態(tài)中，如圖1所示，形成為用一個基材支持體23能夠固定兩個基材20的結(jié)構。又，基材單元2配置在真空槽I內(nèi)的適當位置時，電力供給至不圖示的驅(qū)動馬達，可以以基材支持體23的軸部為中心使基材20旋轉(zhuǎn)(自轉(zhuǎn))。蒸發(fā)源21在真空中加熱蒸發(fā)成膜材料(蒸發(fā)材料),從而使其附著在基材20上。蒸發(fā)源21由從支持基座24向垂直方向、向上延伸的兩個蒸發(fā)用電阻加熱電極28、和在該垂直方向上以一定間隔橋接在蒸發(fā)用電阻加熱電極28之間的、用于蒸發(fā)蒸發(fā)材料的細絲(f ilament)27構成。在本實施形態(tài)中，作為蒸發(fā)材料，盡管使用鋁或者其合金，但是并不限于此。支持基座24可以支持并固定基材支持體23及蒸發(fā)源21，并且可以由設置于移動臺25上的第二軌道52及設置于真空槽I內(nèi)的真空槽軌道53引導而移動。即，在支持基座24的側(cè)部設置有與第二軌道52及真空槽軌道53的寬度相對應的多個車輪，并且可以通過該車輪在第二軌道52及真空槽軌道53上移動。借助于此，基材單元2可以在搬運方向上從真空槽I進出。(真空成膜裝置中與真空排氣處理相關的結(jié)構)
根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100形成為在真空狀態(tài)的真空槽I內(nèi)，在基材20上進行鋁膜、保護膜等成膜的結(jié)構。因此，根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100形成為在真空槽I內(nèi)配置有基材20時，執(zhí)行真空排氣處理以使該真空槽I內(nèi)部達到真空的結(jié)構。以下，參照圖2、圖3說明與該真空排氣處理相關的結(jié)構。圖2、圖3是根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100中與真空排氣處理相關的結(jié)構的一個示例的框圖。如圖2及圖3所示,排氣單元4形成為具備輔助真空泵(羅茨泵31及油旋轉(zhuǎn)泵32)和高真空泵(油擴散泵33及冷 阱34)的結(jié)構。又，為了控制這些各種泵和真空槽I之間的空氣的流通，具備主閥13、粗抽閥14、前級管道閥15、排氣閥16以及閘閥17。更具體的是，主閥13設置于形成在真空槽I和油擴散泵33的排氣口之間的排氣通路中，并且控制該排氣通路的開閉。粗抽閥14在執(zhí)行粗抽排氣時控制真空槽I和輔助真空泵(羅茨泵31及油旋轉(zhuǎn)泵32)之間的配管的開閉。又，前級管道閥15控制油擴散泵33和輔助真空泵(尤其是羅茨泵31)之間的配管的開閉。排氣閥16控制連通真空槽I和外部空氣而設置的配管的開閉。閘閥17控制真空槽I和冷阱34之間的配管的開閉。根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100形成為為了將真空槽I內(nèi)部由大氣壓排氣至真空，而分為粗抽排氣和高真空排氣以階段性地進行排氣的結(jié)構。首先，通過連續(xù)運行油旋轉(zhuǎn)泵32及羅茨泵31的輔助真空泵，直至從大氣壓達到高真空泵的工作壓力為止進行排氣。另外，油旋轉(zhuǎn)泵32是形成為轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)一次的期間將被油密封的空間排空的結(jié)構的真空泵。又，羅茨泵31安裝在真空槽I和油旋轉(zhuǎn)泵32之間，也發(fā)揮加壓泵(booster pump)的功能。在該粗抽排氣的階段，主閥13、前級管道閥15、排氣閥16以及閘閥17被關閉，僅粗抽閥14處于打開狀態(tài)。而且，通過油旋轉(zhuǎn)泵32和羅茨泵31進行排氣(粗抽排氣)，直至真空槽I內(nèi)部從大氣壓達到高真空泵的工作壓力為止。真空槽I內(nèi)部達到高真空泵的工作壓力時，如圖3所示打開狀態(tài)的粗抽閥14被關閉，取而代之，打開主閥13、前級管道閥15以及閘閥17。借助于此，真空槽I和油擴散泵33連通，并且油擴散泵33和輔助真空泵(羅茨泵31及油旋轉(zhuǎn)泵32)連通。此外，真空槽I和冷阱34連通。而且，連續(xù)運行油擴散泵33、輔助真空泵(羅茨泵31及油旋轉(zhuǎn)泵32)以及冷阱34，以此真空排氣至達到規(guī)定的真空域。另外，油擴散泵33加熱油以形成蒸汽，并且從狹窄的間隙噴射該蒸汽，通過油分子一起帶走氣體分子以工作。又，冷阱34捕集存在于真空槽I內(nèi)的水蒸汽。真空槽I內(nèi)部達到規(guī)定的真空度時，進行對基材20的成膜處理。在根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100中，為了在基材20上形成反射膜而采用真空蒸發(fā)方法。S卩，使用配置在基材支持體23之間的蒸發(fā)源21在固定于基材支持體23的基材20上形成反射膜。另夕卜，此時基材20在真空槽I內(nèi)以基材支持體23的軸部為中心自轉(zhuǎn)，借助于此在基材20的表面均勻地形成反射膜。反射膜形成后，在該反射膜上形成保護膜。在該保護膜的形成エ序中，通過等離子體聚合法在基材20的表面形成樹脂膜。此時，基材20也在真空槽I內(nèi)自轉(zhuǎn)而在基材20的表面均勻地形成保護膜(樹脂膜)。像這樣，完成對基材20的規(guī)定的成膜處理時，主閥13、前級管道閥15以及閘閥17被關閉，而排氣閥16被打開。借助于此，真空槽I內(nèi)的壓カ能夠返回到大氣壓。之后，打開搬入ロ門11，從真空槽I搬出完成處理的基材單元2，取而代之搬入另外準備的基材單元2。像這樣，通過搬入ロ門11的開閉，進行基材單元2的更換。(基材單元的搬入及搬出處理)
接著，再次參照圖1說明關于上述 基材單元2的與搬入及搬出處理相關的結(jié)構。在基材單元2上，沿著向真空槽I的搬運方向，分別直列地配置有兩個夾著蒸發(fā)源21的基材支持體23。該基材単元2形成為如上所述裝載在設置于移動臺25上的第二軌道52上，并且由該第二軌道52引導而能夠向真空槽I進出的結(jié)構。借助于此，作業(yè)人員可以向真空槽I搬入基材單元2，或者搬出容納于真空槽I內(nèi)的基材單元2。又，移動臺25裝載在設置于搬運基座6上的第一軌道51上。該第一軌道51設置為在與第二軌道52在水平面上大致垂直的方向上延伸。因此，移動臺25能夠在與搬運方向大致垂直的方向(換入方向)上在搬運基座6的表面上移動。在這里，本實施形態(tài)中，在搬運基座6的表面上設置有移動臺25，并且在移動臺25上分別裝載有兩個基材単元2。因此，在兩個基材單元2中，使一方向換入方向滑動以到達對應于搬入ロ 10的位置。而且，之后，可以沿著搬運方向向真空槽I內(nèi)搬入該經(jīng)滑動的基材單元2。此外，將成膜處理后的基材單元2從真空槽I移動至移動臺25上的規(guī)定位置，并且用搬運基座6使移動臺25向換入方向滑動，從而這次是使未成膜處理的基材單元2位于對應于搬入ロ 10的位置。通過形成這樣的結(jié)構，可以在對一方的基材單元2實施成膜處理的過程中，從另一方的成膜處理后的基材單元2上拆卸基材20，并且換成未成膜處理的新的基材20。在這里，在基材單元2中，兩個基材支持體23沿著對于真空槽I的搬運方向，夾著蒸發(fā)源21分別配置。即，按照基材支持體23、蒸發(fā)源21、基材支持體23的順序在搬運方向上直列地配置。因此，俯視基材單元2時，搬運方向為較長方向且與搬運方向垂直的方向的基材單元2的寬度與基材支持體23所具有的尺寸相對應。因此，搬入口 10的開口寬度(開口尺寸)只要與基材單元2的基材支持體23的尺寸寬度相對應即可，例如，如上所述的專利文獻1、2，不需要使真空槽I的與基材單元2相對的一側(cè)的整個面開口。因此，堵塞該搬入口 10的搬入口門11的表面積也與將真空槽I的與基材單元2相對的一側(cè)的整個面開口并作為搬入口 10的結(jié)構相比減小。即，在根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100中，可以減小搬入口門11的表面積，從而可以降低搬入口門11的背面(真空槽內(nèi)壁側(cè)面)吸附水分的量。又，搬入口門11的背面接觸到外部空氣的時間僅僅是搬入及搬出基材單元2所需的時間。即，與專利文獻1、2那樣在實施配備在一方的門上的基材20的成膜處理的期間，另一方的門一直暴露在外部空氣中的結(jié)構相比，減少搬入口門11暴露于外部空氣的時間。因此，可以降低搬入口門11吸附水分的量。又，在本實施形態(tài)中，如圖1所示向真空槽I搬入及搬出基材單元2時，搬入口門11形成為相對于搬入口 10向左側(cè)移動的結(jié)構。因此，在真空槽I的左側(cè)側(cè)面上需要確保相當于該搬入口門11的寬度的空間，以使該搬入口門11能夠移動。但是，與上述例如專利文獻1、2那樣使真空槽I的與基材單元2相對的一側(cè)的整個面開口的結(jié)構相比，為了移動搬入口門11而預先應確保的空間減少。更具體的是，假設搬入口門11的寬度為真空槽I的寬度的約一半，則在相同的設置面積上設置根據(jù)本實施形態(tài) 的真空成膜裝置100、和與其相同的尺寸且具有與專利文獻
1、2相同的結(jié)構的門的真空成膜裝置的情況下，前者是能夠設置約1.5倍數(shù)量的裝置。此外，如圖1所示真空槽I的搬入口 10形成在真空槽I的正面的左半部分的結(jié)構的情況下，使搬入口門11向正面的右側(cè)滑動時，為了搬入口門11的移動而預先應確保的空間進一步減少。像這樣根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100中，能夠減少為了搬入口門11的移動而預先應確保的空間，因此可以提高其設置場所的自由度。又，與專利文獻1、2中公開的真空成膜裝置相比能夠密集地配置。又，在根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100中，由于與搬入口門11的開閉機構相關的結(jié)構、以及與基材單元2的移動相關的結(jié)構是如上所述非常簡單的機構，因此也可以使基材20的成膜處理容易實現(xiàn)自動化。(變形例I)
以下，參照圖4及圖5說明根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100的變形例。圖4及圖5是示意性地示出根據(jù)本實施形態(tài)的變形例的基材單元2中基材20的配置的一個示例的圖。根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100所具備的基材單元2形成為如圖1所示具備兩個基材支持體23，并且一個蒸發(fā)源21配置在這些基材支持體23之間的結(jié)構。但是，基材支持體23及蒸發(fā)源21的個數(shù)并不限于此。例如，如圖4所示，也可以形成為具備三個基材支持體23和兩個蒸發(fā)源21，并且三個基材支持體23在一方向(搬運方向)上配置且各個基材支持體23之間配設有蒸發(fā)源21的結(jié)構。而且，支持于基材支持體23的各基材20也可以形成為在成膜處理時以基材支持體23的軸為中心自轉(zhuǎn)的結(jié)構。此外，如圖5所示，也可以形成為對于各基材支持體23在同一平面上具備多個基材20的結(jié)構。而且，也可以形成為在每個基材支持體23上形成的該基材20群之間，即，在不同的兩個基材支持體23之間分別設置有蒸發(fā)源21的結(jié)構。更具體的是，在各基材支持體23上，在以該中心軸為中心位于相同圓周上的位置設置有在與中心軸相同的方向上延伸的多個自轉(zhuǎn)軸(圖5的示例中為四個自轉(zhuǎn)軸)。而且，形成為在該自轉(zhuǎn)軸上分別設置有基材20的安裝治具(不圖示)，通過該治具在各自轉(zhuǎn)軸上安裝基材20的結(jié)構。各基材20形成為在成膜處理時以各基材支持體23的中心軸作為旋轉(zhuǎn)軸公轉(zhuǎn)，同時以自轉(zhuǎn)軸為中心旋轉(zhuǎn)的結(jié)構。像這樣，在搬運方向上直列地排列基材支持體23的結(jié)構更加能夠減少基材單元2的寬度(或者，與搬運方向垂直地切割的截面)，其結(jié)果是能夠減小搬入ロ 10的開ロ尺寸以及開閉該搬入ロ 10的搬入ロ門11的尺寸，在降低搬入ロ門11吸附的水分量的方面較好。(變形例2)
又，根據(jù)本實施形態(tài)的真空成膜裝置100形成為在搬運基座6上設置有移動臺25，通過在換入方向上左右移動，在一方的基材單元2進行成膜處理的期間，在另一方的基材單元2上進行基材20的拆裝的結(jié)構。但是，并不限于該結(jié)構，也可以形成為搬運基座6為在一方向上移動的皮帶輸送機，將裝載安裝有基材20的基材單元2的移動臺25在該皮帶輸送機上以規(guī)定間隔排列，并且依次進行成膜處理的結(jié)構。S卩，通過搬運基座6將裝載基材單元2的移動臺25搬運到搬入ロ 10的前面吋，搬入口門11被打開，基材單元2搬入到真空槽I內(nèi)。而且，對基材單元2實施成膜處理而從真空槽I搬出時，新的基材單元2搬運到搬入ロ 10的前面，并且成膜處理后的基材單元2向搬運基座6的移動目的地移動。像這樣，也可以形成為使基材單元2以規(guī)定間隔排列于在一定方向上移動的搬運基座上，并且依次實施成膜處理的結(jié)構。從上述說明，本領域技術人員對本發(fā)明的較多的改良和其他實施形態(tài)等是清楚的。因此，上述說明應該僅作為示例解釋，并且是以向本領域技術人員教導實施本發(fā)明的最優(yōu)選的形態(tài)為目的提供的。在不脫離本發(fā)明的精神的范圍內(nèi)，可以實質(zhì)性地改變其結(jié)構和/或功能的具體內(nèi)容。エ業(yè)應用性:
本發(fā)明的真空成膜裝置作為對汽車、家電部件裝飾、光學用途的樹脂以及玻璃部件等進行金屬膜、保護膜等成膜的裝置是有用的。符號說明:
1真空槽；
2基材單元(搬運単元)；
4排氣單元；
5共通基座；
6搬運基座；
10搬入ロ(開ロ部)；11搬入口門(門部)；
12等離子體放電電極；
13主閥；
14粗抽閥；
15前級管道閥；
16排氣閥；
17閘閥；
20基材；
21蒸發(fā)源；
23基材支持體(支持部)；
24支持基座；
25移動臺；
27細絲；
28蒸發(fā)用電阻加熱電極；
31羅茨泵；
32油旋轉(zhuǎn)泵；
33油擴散泵；
34冷阱；
51第一軌道；
52第二軌道；
53真空槽軌道；
100真空成膜裝置。
權利要求
1.一種真空成膜裝置，是在真空狀態(tài)下對多個基材成膜的真空成膜裝置，具備: 用于支持所述基材的多個支持部； 支持并搬運所述多個支持部的搬運單元；和 具有用于搬入及搬出所述搬運単元的開ロ部以及用于開閉該開ロ部的門部，且用于形成真空狀態(tài)的真空槽； 所述搬運単元支持所述多個支持部以使所述多個支持部在向所述真空槽的搬運方向上直列地配置； 所述開ロ部根據(jù)所述搬運單元的尺寸而形成。
2.根據(jù)權利要求1所述的真空成膜裝置，其特征在干， 所述搬運単元具備加熱蒸發(fā)成膜材料，用于在支持于所述支持部的基材上形成膜的一個以上的蒸發(fā)源； 所述支持部及所述蒸發(fā)源在所述搬運方向上直列地配置，且在該支持部之間配設該蒸發(fā)源。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的真空成膜裝置，其特征在于，所述支持部旋轉(zhuǎn)自如地支持基材。
4.根據(jù)權利要求1至3中任意一項所述的真空成膜裝置，其特征在干，具備裝載所述搬運單元，并且在水平面上在與所述搬運方向不同的方向上能移動該搬運單元的移動臺。
5.根據(jù)權利要求1至4中任意一項所述的真空成膜裝置，其特征在于，所述門部相對于所述開ロ部左右移動，從而開閉該開ロ部。
6.根據(jù)權利要求1至4中任意一項所述的真空成膜裝置，其特征在于，所述門部形成為一邊的側(cè)部通過鉸鏈與所述真空槽接合，并且以該鉸鏈為軸畫出弧形地開閉所述開ロ部。
全文摘要
本發(fā)明的真空成膜裝置(100)是在真空狀態(tài)下對多個基材(20)成膜的成膜裝置，具備用于支持基材的多個基材支持體(23)；支持并搬運多個基材支持體(23)的基材單元(2)；和具有用于搬入及搬出該基材單元(2)的搬入口(10)以及用于開閉該搬入口(10)的搬入口門(11)，且用于形成真空狀態(tài)的真空槽(1)?；膯卧?2)支持多個基材支持體(23)以使其在向真空槽(1)的搬運方向上直列地配置；搬入口(10)根據(jù)基材單元(2)的尺寸而形成。借助于此，真空成膜裝置(100)減少水分排出所需的時間而能夠抑制成膜處理花費的時間。
文檔編號C23C14/24GK103097569SQ20118004287
公開日2013年5月8日 申請日期2011年8月30日 優(yōu)先權日2011年8月30日
發(fā)明者天久勇人 申請人:新明和工業(yè)株式會社