專利名稱：涂布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及涂布裝置，使設(shè)有供給涂布液的狹縫狀排出口的涂布用涂布頭相對 于被涂布體相對移動，將涂布液從所述排出口供給到被涂布體的表面，尤其，其特 征在于，即使在使用高粘度的涂布液的場合，也可將這種高粘度的涂布液較薄地且 平滑而均勻地涂布在被涂布體的表面上。
背景技術(shù)：
以往，在制造等離子顯示板、有機電致發(fā)光顯示板、液晶顯示板等時，在玻璃 基板、樹脂薄膜、金屬箔等各種被涂布體的表面上利用涂布裝置涂布各種涂布液。
作為這種涂布裝置，例如，如圖l所示使用如下結(jié)構(gòu)將前端設(shè)有狹縫狀 排出口 11的涂布用涂布頭IO置于離板狀的被涂布體1表面隔有規(guī)定間隔的間 隙Gp的位置， 一邊使該涂布用涂布頭IO相對于所述被涂布體1進行移動，一 邊將涂布液2從該涂布用涂布頭10的狹縫狀排出口 11供給到所述被涂布體1 的表面，將涂布液2涂布在被涂布體1的表面上。
近年來，研究了如下一種情況當(dāng)像上述那樣將涂布液2涂布在被涂布體 1的表面上時，為降低涂布液2等的成本而減少涂布液2中所含有的溶劑量， 并減薄涂布在被涂布體1表面上的涂布液2的厚度。
這里，如上所述，當(dāng)減少涂布液2中所含有的溶劑量時，該涂布液2的粘 度就高，這樣，當(dāng)為了將如此高粘度的涂布液2像上述那樣較薄地涂布在被涂 布體1的表面上而提高涂布用涂布頭10的移動速度時，供給到被涂布體1表 面上的涂布液2就會被涂布用涂布頭10拉伸，由此產(chǎn)生涂布不均或發(fā)生斷液 的問題。
另外，為抑制上述那種涂布不均和斷液的情況，在減小涂布用涂布頭10與 被涂布體l表面之間的間隙Gp的場合，如圖2所示，從排出口 ll供給到被涂 布體1表面上的涂布液2就會回流到涂布用涂布頭10的移動方向相反側(cè)的部 分，以此形態(tài)涂布在被涂布體1表面上，存在涂布在被涂布體1表面上的涂布 液2的表面就會產(chǎn)生凹凸的問題。
近年來，還提出了如下的方案當(dāng)將涂布液從上述那樣的涂布用涂布頭涂布在由架設(shè)在支承輥上進行移動的條板所構(gòu)成的被涂布體上時，如日本專利公
報2003 — 236434號公報所揭示的那樣，相對于所述涂布用涂布頭在由條板構(gòu) 成的被涂布體的移動方向上游側(cè)設(shè)置減壓室，利用該減壓室使涂布液從涂布用 涂布頭供給到被涂布體上的上游側(cè)部分成為減壓狀態(tài)，控制供給到被涂布體上 的涂布液的圓形部分(日文匕一，部分)，抑制涂布不均的發(fā)生等。
但是，如圖3所示，在涂布用涂布頭10的移動方向下游側(cè)設(shè)置減壓室3， 通過調(diào)整閥3a利用減壓泵3b將該減壓室3內(nèi)減壓到規(guī)定壓力，當(dāng)將涂布液2 從涂布用涂布頭IO供給到被涂布體1表面上的下游側(cè)部分成為減壓狀態(tài)時， 若該減壓室3的下端與被涂布體1的表面之間的間隙的間隔s變大，則外部大 氣通過該間隙而進入減壓室3內(nèi)，就不可能適當(dāng)?shù)貙⑼坎家?供給到被涂布體 1表面的下游側(cè)部分予以減壓，尤其像上述那樣在將高粘度的涂布液2較薄地 涂布在被涂布體1表面上的場合，仍然有發(fā)生涂布不均等問題。
另一方面，在為抑制外部大氣通過減壓室3的下端與被涂布體1的表面之 間的間隙進入減壓室3內(nèi)而將該間隙的間隔s做得非常小的場合，有如下問題 因涂布用涂布頭10移動時的振動或被涂布體1的表面凹凸等而使該減壓室3 的下端與被涂布體1的表面接觸，會損傷被涂布體1的表面。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的在于提供如下一種涂布裝置以解決上述那樣的問題，使前端設(shè) 有供給涂布液的狹縫狀排出口的涂布用涂布頭相對于被涂布體相對移動，將涂 布液從所述排出口供給到被涂布體的表面。
艮P，在本發(fā)明中，其目的是即使在使用了高粘度的涂布液的場合，也能將 這種高粘度的涂布液較薄地且平滑而均勻地涂布在被涂布體的表面上。
為解決上述那樣的問題，本發(fā)明的涂布裝置，使前端設(shè)有供給涂布液的狹 縫狀排出口的涂布用涂布頭相對于被涂布體相對移動，將涂布液從所述排出口 供給到被涂布體的表面，在將涂布液從所述排出口供給到被涂布體的位置附近 設(shè)置有使氣體噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)部分的氣體噴出裝置，使 氣體從該氣體噴出裝置傾斜地噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)。
這里，為了利用所述氣體噴出裝置而在供給涂布液的位置附近使氣體穩(wěn)定 地噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)部分，最好將該氣體噴出裝置安裝在 所述涂布用涂布頭上。
另外，在所述涂布裝置中，最好將所述氣體噴出裝置的氣體噴出口形成為 沿所述狹縫狀排出口的全長連續(xù)的狹縫狀。
在如上所述使氣體從氣體噴出裝置傾斜地向涂布用涂布頭的移動方向下游
側(cè)噴出時，最好相對垂直于所述被涂布體的方向以10。 70。的范圍將氣體傾斜
地噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)，以20。 40。的范圍將氣體傾斜噴出 則更好。
在本發(fā)明的涂布裝置中，當(dāng)如上所述一邊使涂布用涂布頭相對于被涂布體 相對移動一邊將涂布液從設(shè)在涂布用涂布頭前端上的狹縫狀排出口供給到被 涂布體的表面時，由于在供給涂布液的位置附近的涂布用涂布頭的移動方向下 游側(cè)部分，使氣體從氣體噴出裝置傾斜地噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游 側(cè)，因此，在供給涂布液的位置附近，涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)部分的 空氣由所述氣體吸引而成為減壓狀態(tài)。由此，可適當(dāng)?shù)乜刂乒┙o到被涂布體上 的涂布液的圓形部分，且即使被涂布體的表面存在塵埃等，該塵埃等也可因所 述氣體而從被涂布體的表面上除去。
其結(jié)果，能以適當(dāng)?shù)臓顟B(tài)且均勻地將涂布液涂布在塵埃等被除去后的被涂 布體的表面上，即使在使用了高粘度的涂布液的場合，也能將這種高粘度的涂 布液較薄地且平滑而均勻地涂布在被涂布體的表面上。
另外，若將所述氣體噴出裝置的氣體噴出口形成為沿涂布用涂布頭前端的 狹縫狀排出口的全長連續(xù)的狹縫狀，則可利用從所述氣體噴出口噴出的氣體適 當(dāng)?shù)貙乃雠懦隹诠┙o涂布液的被涂布體表面上的塵埃等除去，并且，涂布 用涂布頭的移動方向下游側(cè)部分的空氣沿涂布用涂布頭的排出口的全長均勻 地被吸引而成為均勻的減壓狀態(tài)。
其結(jié)果，以更加均勻的狀態(tài)將涂布液供給到被涂布體的表面，能更加均勻 地將涂布液涂布在被涂布體的表面上，即使在使用了高粘度的涂布液的場合， 也能將這種高粘度的涂布液較薄地且平滑而均勻地涂布在被涂布體的表面上。
另外，當(dāng)如上所述使氣體從氣體噴出裝置傾斜地向涂布用涂布頭的移動方 向下游側(cè)噴出時，若相對垂直于被涂布體的方向以10。 70。的范圍將氣體傾斜 地向涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)噴出時，在供給涂布液的位置附近，涂布 用涂布頭的移動方向下游側(cè)部分的空氣由所述氣體適當(dāng)吸引而成為減壓狀態(tài)， 涂布液以適當(dāng)?shù)臓顟B(tài)被供給到被涂布體的表面。尤其，若以20。 40。的范圍使 所述氣體傾斜噴出，則即使減少噴出的氣體量，也可獲得適當(dāng)?shù)臏p壓狀態(tài)。
本發(fā)明的目的、優(yōu)點及特征通過下述的描述、附圖和本發(fā)明實施例可得到 理解。


圖1是表示在以往的涂布裝置中將涂布液涂布在被涂布體表面上的狀態(tài)的 大致說明圖。圖2是表示在以往的涂布裝置中當(dāng)減小涂布用涂布頭與被涂布體的表面之 間的間隙時供給到被涂布體表面的涂布液從排出口回流到涂布用涂布頭的移 動方向相反側(cè)部分的狀態(tài)的大致說明圖。
圖3是表示在涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)設(shè)置減壓室的以往的涂布裝 置中將涂布液涂布在被涂布體的表面上的狀態(tài)的大致說明圖。
圖4是表示在本發(fā)明的一實施形態(tài)的涂布裝置中將涂布液涂布在被涂布體 表面上的狀態(tài)的大致說明圖。
圖5是在該實施形態(tài)的涂布裝置中從設(shè)置了氣體噴出裝置的涂布用涂布頭 的移動方向下游側(cè)開始的大致側(cè)視圖。
圖6是表示該實施形態(tài)的涂布裝置中將涂布液涂布在被涂布體的表面上的 狀態(tài)的放大說明圖。
具體實施例方式
下面，根據(jù)附圖具體說明本發(fā)明的實施形態(tài)的涂布裝置。本發(fā)明的涂布裝 置不限定于下面的實施形態(tài)，在不改變發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)可作適當(dāng)變更實施。
在本實施形態(tài)的涂布裝置中，如圖4所示，將前端設(shè)有狹縫狀排出口 11的 涂布用涂布頭10置于離板狀的被涂布體l表面隔有規(guī)定間隔的間隙Gp的位置。
并且， 一邊使該涂布用涂布頭IO相對于所述被涂布體1相對移動， 一邊從 該涂布用涂布頭10的狹縫狀排出口 11將涂布液2供給到所述被涂布體1的表 面，將涂布液2涂布在被涂布體1的表面上。
這里，在該實施形態(tài)的涂布裝置中，如圖4及圖5所示，如上所述，在將 涂布液2涂布在被涂布體1的表面上時的涂布用涂布頭IO的移動方向下游側(cè)， 沿涂布用涂布頭10的長度方向安裝有氣體噴出裝置20,高壓氣體就會通過壓 力調(diào)整閥22而從氣體供給泵21供給到該氣體噴出裝置20。
另外，使氣體噴射噴嘴23從該氣體噴出裝置20向從所述涂布用涂布頭10 的排出口 11供給涂布液2的被涂布體1的表面?zhèn)妊由斐?，并將該氣體噴射噴 嘴23的前端部折彎成朝向涂布用涂布頭10的移動方向下游側(cè)，在該氣體噴射 噴嘴23的前端設(shè)置有狹縫狀的氣體噴出口 23a。并且，使高壓氣體從該氣體噴 出口 23a傾斜地噴出到涂布用涂布頭10的移動方向下游側(cè)。該氣體噴射噴嘴 23前端的狹縫狀的氣體噴出口 23a沿所述涂布用涂布頭IO前端的狹縫狀排出 口 11的全長連續(xù)形成。
并且，在該實施形態(tài)的涂布裝置中，當(dāng)將涂布液涂布在被涂布體1的表面 上時，如上所述， 一邊使涂布用涂布頭10相對于被涂布體1移動， 一邊將涂 布液2從該涂布用涂布頭IO的狹縫狀排出口 ll供給到所述被涂布體1的表面。如此，在距離涂布液2被供給到被涂布體1的表面位置的、涂布用涂布頭10
的移動方向下游側(cè)附近，利用所述氣體噴出裝置20將高壓氣體從氣體噴射噴 嘴23前端的狹縫狀的氣體噴出口 23a傾斜地噴出到涂布用涂布頭10的移動方 向下游側(cè)。
如此，當(dāng)使高壓氣體從氣體噴射噴嘴23前端的狹縫狀的氣體噴出口 23a傾 斜地向涂布用涂布頭10的移動方向下游側(cè)噴出時，存在于被涂布體1表面的 塵埃等因該高壓氣體而從被涂布體1的表面上除去，且如圖6所示，距離供給 涂布液2位置的涂布用涂布頭10的移動方向下游側(cè)附近的空氣如上所述由噴 出的高壓氣體吸引而成為減壓狀態(tài)，由此，可適當(dāng)?shù)乜刂乒┙o到被涂布體1的 涂布液2的圓形部分2a。
并且，通過如此適當(dāng)?shù)乜刂乒┙o到被涂布體1的涂布液2的圓形部分2a， 即使在使用了高粘度的涂布液2的場合，也可增大涂布用涂布頭10前端的狹 縫狀排出口 11與被涂布體1的表面之間的間隙Gp，將如此的高粘度的涂布液 2較薄地且平滑而均勻地涂布在被涂布體1的表面上。
這里，當(dāng)如此將涂布液2從涂布用涂布頭10前端的狹縫狀排出口 11供給 到被涂布體1的表面而將涂布液2涂布在被涂布體1的表面上時，例如在將粘 度為10000cps左右的高粘度的涂布液2涂布在被涂布體1的表面上而成為10 3(Him范圍內(nèi)的規(guī)定膜厚d的場合，以往技術(shù)中若涂布用涂布頭IO前端的狹縫 狀排出口 11與被涂布體1的表面的間隙Gp變大，則會發(fā)生涂布不均或斷液的 情況，而若減小所述間隙Gp，則如前述的圖2所示，從排出口ll供給到被涂 布體1表面的涂布液2成為回流到涂布用涂布頭10的移動方向相反側(cè)的狀態(tài)， 涂布在被涂布體1表面上的涂布液2的表面就會產(chǎn)生凹凸，難以將上述那樣的 高粘度的涂布液2較薄地且均勻地涂布在被涂布體1的表面上。
對此，如上述的實施形態(tài)所示的涂布裝置那樣，當(dāng)使高壓氣體從氣體噴射 噴嘴23前端的狹縫狀噴出口 23a傾斜地向涂布用涂布頭IO的移動方向下游側(cè) 噴出時，即使將涂布用涂布頭IO前端的狹縫狀排出口 11與被涂布體1的表面 的間隙Gp相對于規(guī)定的膜厚d設(shè)定在1.2SGp/d《2.0的范圍，也不會發(fā)生涂布 不均或斷液的情況，可將高粘度的涂布液2較薄地且平滑而均勻地涂布在被涂 布體1的表面上。
在上述的實施形態(tài)的涂布裝置中，雖然是使涂布用涂布頭IO相對于被涂布 體1移動，但也可將該涂布用涂布頭10固定而使被涂布體1移動。
盡管本發(fā)明通過實施例作了描述，但本技術(shù)人員作各種改變和變化是顯而 易見的。
因此，除非這種改變和變化脫離本發(fā)明范圍，否則它們被解釋為包含在本發(fā)明中。
權(quán)利要求
1. 一種涂布裝置，使前端設(shè)有供給涂布液的狹縫狀排出口的涂布用涂布頭相對于被涂布體相對移動，將涂布液從所述排出口供給到被涂布體的表面，其特征在于，在將涂布液從所述排出口供給到被涂布體的位置附近設(shè)置有使氣體噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)部分的氣體噴出裝置，使氣體從該氣體噴出裝置傾斜地噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)。
2. 如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述氣體噴出裝置安裝在 所述涂布用涂布頭上。
3. 如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述氣體噴出裝置的氣體 噴出口形成為沿所述狹縫狀排出口的全長連續(xù)的狹縫狀。
4. 如權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于，所述氣體噴出裝置的氣體 噴出口形成為沿所述狹縫狀排出口的全長連續(xù)的狹縫狀。
5. 如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，當(dāng)使氣體從所述氣體噴出 裝置傾斜地向涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)噴出時，相對垂直于被涂布體的 方向以10。 70。的范圍將所述氣體傾斜地噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游 側(cè)。
6. 如權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于，當(dāng)使氣體從所述氣體噴出 裝置傾斜地向涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)噴出時，相對垂直于被涂布體的 方向以10。 70。的范圍將所述氣體傾斜地噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游
7. 如權(quán)利要求3所述的涂布裝置，其特征在于，當(dāng)使氣體從所述氣體噴出 裝置傾斜地向涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)噴出時，相對垂直于被涂布體的 方向以10。 70。的范圍將所述氣體傾斜地噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游 側(cè)。
全文摘要
一種涂布裝置，使涂布用涂布頭(10)相對于被涂布體(1)相對移動，將涂布液(2)從設(shè)在涂布用涂布頭前端上的狹縫狀排出口(11)供給到被涂布體的表面，在從所述排出口將涂布液供給到被涂布體的位置附近設(shè)置有使氣體噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)部分的氣體噴出裝置(20)，使氣體從該氣體噴出裝置傾斜地噴出到涂布用涂布頭的移動方向下游側(cè)。采用本發(fā)明，當(dāng)使涂布用涂布頭相對于被涂布體相對移動而從設(shè)在涂布用涂布頭前端上的狹縫狀排出口將涂布液供給到被涂布體的表面時，即使使用了高粘度的涂布液，也可將該涂布液較薄地且平滑而均勻地涂布在被涂布體的表面上。
文檔編號B05C5/02GK101204691SQ20071012804
公開日2008年6月25日 申請日期2007年6月22日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月15日
發(fā)明者澤田英之, 肥田充弘 申請人:中外爐工業(yè)株式會社