專利名稱：涂布方法
涂布方法
本申請以日本專利申請?zhí)?006—337687號為優(yōu)先權。 技術領域 ' 本發(fā)明涉及涂布方法， 一邊將涂布液從設在涂布用涂布頭的噴嘴部前端面的狹 縫狀排出口供給到被涂布體的表面， 一邊使該涂布用涂布頭相對于被涂布體相對移 動，將涂布液涂布在被涂布體的表面上。尤其具有如下特征即使在所述涂布液使 用了低粘度的涂布液的場合，也可防止發(fā)生沿移動方向的條紋不均情況，并可抑制 涂布開始位置的涂布液的膜厚變厚的情況。
背景技術：
以往，在制造液晶顯示板、等離子顯示板、有機電致發(fā)光顯示板等時，利用涂 布裝置將各種涂布液涂布在玻璃基板、樹脂薄膜、金屬箔等各種被涂布體的表面上。
這里，作為這種涂布裝置，例如使用圖l所示那樣的涂布裝置。
在該涂布裝置中，將設在涂布用涂布頭IO的唇部前端面上的狹縫狀排出口 11置于離板狀的被涂布體1的表面隔有所需間隔的位置。并且，利用供給泵4 將收容于涂布液供給箱3內的涂布液2供給到該涂布用涂布頭10的總管12， 一邊將該涂布液2從所述狹縫狀排出口 11供給到所述被涂布體1的表面，一 邊使該涂布用涂布頭10沿一定方向在所述被涂布體1上移動，將涂布液2涂 布在被涂布體的表面上。
這里，如上所述，當將涂布液2從狹縫狀排出口 ll供給到所述被涂布體l 的表面時，特別在使用低粘度的涂布液2時，如圖2(A)、 (B)所示，因排出不 均等，剛從排出口 11排出后的涂布液2的下端部分成為起伏狀態(tài)，如此，若 在涂布液2的下端部分起伏不均的狀態(tài)下將涂布液供給到被涂布體1的表面， 則會發(fā)生涂布液2最初接觸的部分和不接觸的部分。并且在該狀態(tài)下，如上所 述，若使涂布用涂布頭10移動而將涂布液2涂布在被涂布體1的表面上，則 會有發(fā)生涂得太少或涂布不均等的問題。
因此，在以往技術中，使涂布液2從所述排出口 ll繼續(xù)排出，在使涂布液 2充分與被涂布體1的表面接觸后，如上所述，使涂布用涂布頭IO移動而將涂 布液2涂布在被涂布體1的表面上(參照日本特開2002—113411號公報)。
但是，即使在這種場合，在涂布液2最初接觸的部分和然后接觸的部分，涂布液2的狀態(tài)不相同，會發(fā)生沿涂布用涂布頭10的移動方向的條紋不均情
況，且如圖1所示，在供給涂布液2從開始涂布的位置到規(guī)定范圍的涂布開始 部分13，存在著供給在被涂布體1的表面上的涂布液2的膜厚變厚的問題。
另外，在以往的技術中，提出了如下的技術方案為了將低粘度的涂布液
均勻地涂布在被涂布體的表面上，在上述那樣的涂布用涂布頭中，適當設定設
在噴嘴部前端面上的狹縫狀排出口的形狀等(參照日本特開2000—153205號公 報)。
但是，如上所述，即使在使設在噴嘴部前端面上的狹縫狀排出口的形狀改 變的場合，如上所述從排出口排出的涂布液也會成為不均勻的狀態(tài)，無法解決 上述那樣的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的就是解決上述那樣的問題，即解決在一邊將涂布液從設在涂 布用涂布頭的噴嘴部前端面上的狹縫狀排出口供給到被涂布體的表面、 一邊使 該涂布用涂布頭相對于被涂布體相對移動而將涂布液涂布在被涂布體的表面 上時的上述那樣的問題。
也就是說，本發(fā)明的涂布方法的目的是，即使在使用了低粘度的涂布液的 場合，也可防止涂布時發(fā)生沿移動方向的條紋不均情況，并可抑制涂布開始位 置的涂布液的膜厚變厚的情況。
為實現(xiàn)上述那樣的目的，本發(fā)明的涂布方法是一邊將涂布液從設在涂布用 涂布頭的噴嘴部前端面上的狹縫狀排出口供給到被涂布體的表面， 一邊使該涂 布用涂布頭相對于被涂布體相對移動，將涂布液涂布在被涂布體的表面上，其 特點是，具有如下工序從所述涂布用涂布頭的排出口將涂布液排出并將涂布 液保持在涂布用涂布頭的前端面上的工序；待機至如此保持在涂布用涂布頭的 前端面上的涂布液變得均勻的工序；使所述涂布用涂布頭下降而使保持在涂布 用涂布頭的前端面上的涂布液與被涂布體的表面接觸的工序； 一邊使規(guī)定量的 涂布液從所述排出口排出一邊使涂布用涂布頭上升至離被涂布體隔有所需間 隔的涂布開始位置的工序。
這里，上述的涂布方法所使用的涂布液的種類不特別限定，如上所述在使 用低粘度的涂布液進行涂布的場合是有效的，在使用小于等于50cps的涂布液 的場合，又比使用了小于等于20cps的涂布液的場合有效。
另外，如上所述，當將涂布液從排出口排出并使其保持在涂布用涂布頭的 前端面上時，最好將從排出口排出的涂布液的量控制在能以表面張力保持在涂 布用涂布頭的前端面上的范圍。.另外，如上所述，在將涂布液從排出口排出并使其保持在涂布用涂布頭的 前端面上時，若保持在涂布用涂布頭的前端面上的涂布液的量較少，則如上所 述會使涂布用涂布頭下降，使保持在前端面上的涂布液與被涂布體的表面接觸 時的涂布用涂布頭與被涂布體的間隔d變得非常小，有可能因被涂布體表面的 凹凸而使涂布用涂布頭的前端與被涂布體接觸。另一方面，若保持在涂布用涂 布頭的前端面上的涂布液的量較多而使所述間隔d接近于涂布開始位置的涂布 用涂布頭與被涂布體的間隔D，則保持在涂布用涂布頭的前端面上的涂布液容 易灑落在被涂布體的表面上，同時，保持在涂布用涂布頭的前端面上的涂布液 到達均勻化的待機時間變長。因此，使涂布用涂布頭下降并使保持在前端面上
的涂布液與被涂布體的表面接觸時的涂布用涂布頭與被涂布體的間隔d相對于 涂布開始位置的涂布用涂布頭與被涂布體的間隔D最好控制在0.6 0.9的范 圍。
另外，如上所述，在使涂布用涂布頭下降而使保持在其前端面上的涂布液 與被涂布體的表面接觸后，當一邊將規(guī)定量的涂布液從所述排出口排出一邊使 涂布用涂布頭上升到離被涂布體隔有所需間隔D的涂布開始位置時，若從排出 口排出的涂布液的量較少，則涂布液有可能在涂布用涂布頭與被涂布體之間被 斷開。另一方面，若從排出口排出的涂布液的量較多，則從涂布開始位置至規(guī) 定范圍使被供給到被涂布體表面的涂布液的膜厚變厚。因此，最好將在上升至 涂布開始位置時從排出口排出的涂布液的量在涂布液于涂布用涂布頭與被涂 布體之間不被斷開的范圍內控制成少量。
在本發(fā)明的涂布方法中，如上所述，將涂布液以保持在涂布用涂布頭的前 端面上的范圍從涂布用涂布頭的排出口排出，在使如此排出并被保持在涂布用 涂布頭的前端面上的涂布液均勻化后，使該涂布用涂布頭下降而使保持在其前 端面上的涂布液與被涂布體的表面接觸，因此，保持在涂布用涂布頭的前端面 上的涂布液就會同時與被涂布體的表面接觸。
并且，如上所述，在使保持在涂布用涂布頭的前端面上的涂布液與被涂布 體的表面接觸狀態(tài)下， 一邊從所述排出口排出規(guī)定量的涂布液一邊使涂布用涂 布頭上升到離被涂布體隔有所需間隔的涂布開始位置，因此，涂布液不會在涂 布用涂布頭與被涂布體之間斷開，涂布用涂布頭被適當?shù)匾龑У酵坎奸_始位 置。
此外，在該狀態(tài)下，如上所述，當一邊從設在涂布用涂布頭的噴嘴部前端 面上的狹縫狀排出口將涂布液供給到被涂布體的表面、 一邊使涂布用涂布頭相 對于被涂布體相對移動而將涂布液涂布在被涂布體的表面上時，可防止發(fā)生沿 移動方向的條紋不均情況，并可抑制涂布開始位置的涂布液的膜厚變厚的情況。
本發(fā)明的目的、優(yōu)點及特征通過下述的描述、附圖和本發(fā)明實施例可得到理解。


圖1是表示在以往例子的涂布裝置中、 一邊將涂布液從設在涂布用涂布頭 的前端面上的狹縫狀排出口供給到被涂布體的表面一邊使涂布用涂布頭向一 定方向移動而將涂布液涂布在被涂布體的表面上的狀態(tài)的大致說明圖。
圖2是表示以往例子中、涂布液從涂布用涂布頭的排出口以不均勻的狀態(tài) 排出的狀態(tài)以及不均勻狀態(tài)的涂布液被供給到被涂布體的表面的狀態(tài)的大致 說明圖。
圖3是表示在本發(fā)明一實施形態(tài)的涂布方法中、在使保持在涂布用涂布頭 的前端面上的涂布液與被涂布體的表面接觸后使該涂布用涂布頭上升到離被 涂布體隔有所需間隔的涂布開始位置而將涂布液涂布在被涂布體的表面上的
工序的正面?zhèn)鹊拇笾抡f明圖。
圖4是表示在該實施形態(tài)的涂布方法中、在使保持在涂布用涂布頭的前端 面上的涂布液與被涂布體的表面接觸后使該涂布用涂布頭上升到離被涂布體 隔有所需間隔的涂布開始位置的工序的側面?zhèn)鹊拇笾抡f明圖。
具體實施例方式
下面，根據附圖具體說明本發(fā)明的實施形態(tài)的涂布方法。本發(fā)明的涂布方 法不限定于下述的實施形態(tài)，在不變更本發(fā)明宗旨的范圍內，可作適當變更實 施。
在本實施形態(tài)中，如圖3(A) (D)所示，利用供給泵4將收容于涂布液供給 箱3內的涂布液引導到涂布用涂布頭IO的總管12中，使涂布液2從設在涂布 用涂布頭10的噴嘴部前端面上的狹縫狀排出口 11排出。并且，由控制裝置5 對從該排出口 11排出的涂布液2的量進行控制。
并且，在本實施形態(tài)的涂布方法中，在使涂布液2從所述涂布用涂布頭10 的排出口 11排出而將涂布液2涂布在板狀的被涂布體1的表面上的作業(yè)開始 時，首先，如圖3(A)所示，在離開板狀的被涂布體l表面的位置，由控制裝置 5對從涂布用涂布頭IO的排出口 11排出的涂布液2的量進行控制，在將能以 表面張力保持在涂布用涂布頭10前端面上的量的涂布液2從排出口 ll排出后 停止涂布液2的排出，使該涂布液2保持在涂布用涂布頭10的前端面上。這 里，在如此使排出口 11排出的涂布液2保持在涂布用涂布頭IO的前端面上的 最初階段，如圖4(A)所示會使保持在涂布用涂布頭10的前端面上的涂布液2的下端部分成為起伏狀態(tài)，造成厚度不均勻。
接著，在該狀態(tài)下，若使涂布用涂布頭IO待機，則如上所述，在厚度不均勻的狀態(tài)下被保持在涂布用涂布頭10的前端面上的涂布液2的厚度逐漸被均 勻化，如圖4(B)所示，保持在涂布用涂布頭10的前端面上的涂布液2成為一 定的厚度。
并且，在如此被保持在涂布用涂布頭10的前端面上的涂布液2成為一定厚 度的狀態(tài)下，如圖3(B)所示，使該涂布用涂布頭10下降而使保持在其前端面 上的涂布液2與被涂布體1的表面接觸。這里，若如此使保持在涂布用涂布頭 10的前端面上的涂布液2與被涂布體1的表面接觸，則如圖4(C)所示，保持在 涂布用涂布頭10的前端面上的涂布液2在所述狹縫狀的排出口 11的整個長度 上同時與被涂布體1的表面接觸。另外，在使如此被保持在涂布用涂布頭10 的前端面上的涂布液2與被涂布體1表面接觸的狀態(tài)下，涂布用涂布頭10與 被涂布體1的間隔d由保持在涂布用涂布頭10的前端面上的涂布液2的量來 決定。
另外，如上所述，若在使保持在涂布用涂布頭10的前端面上的涂布液2與 被涂布體1的表面接觸狀態(tài)下進行待機，則可更均勻地使涂布液2與被涂布體 1的表面接觸，是較佳的方法。
接著，如上所述，在使保持在涂布用涂布頭10的前端面上的涂布液2與被 涂布體1的表面接觸狀態(tài)下，如圖3(C)所示， 一邊由所述控制裝置5對排出口 11排出的涂布液2的量進行控制， 一邊使所述涂布用涂布頭10上升到離被涂 布體1隔有所需間隔D的涂布開始位置。這里，若如此一邊由控制裝置5對排 出口 11排出的涂布液2的量進行控制， 一邊使所述涂布用涂布頭IO上升到離 被涂布體1隔有所需間隔D的涂布開始位置，則如圖4(D)所示，涂布液2不會 在涂布用涂布頭10與被涂布體1之間斷開，在涂布用涂布頭10與被涂布體1 之間連續(xù)有涂布液2的狀態(tài)下，涂布用涂布頭10就被適當?shù)匾龑У揭?guī)定的涂 布開始位置。
并且在如此將涂布用涂布頭10引導到規(guī)定的涂布開始位置后，利用所述控 制裝置5將從涂布用涂布頭10的排出口 11排出的涂布液2的量控制成為規(guī)定 的涂布量，如圖3(D)所示，從該排出口 11將涂布液2排出而供給到被涂布體1 的表面，同時，如上所述在隔開所需間隔D的狀態(tài)下使該涂布用涂布頭10沿 一定方向在被涂布體1上移動，就可將涂布液2涂布在被涂布體1的表面上。
若如此將涂布液2涂布在被涂布體1的表面上，則可防止發(fā)生沿涂布用涂 布頭10的移動方向的條紋不均情況，并可抑制涂布開始部分13上的涂布液2 的膜厚變厚的情況。
盡管本發(fā)明通過實施例作了描述，但本技術人員作各種改變和變化是顯而 易見的。
因此，除非這種改變和變化脫離本發(fā)明范圍，否則它們被解釋為包含在本 發(fā)明中。
權利要求
1. 一種涂布方法，一邊將涂布液從設在涂布用涂布頭的噴嘴部前端面上的狹縫狀排出口供給到被涂布體的表面，一邊使該涂布用涂布頭相對于被涂布體相對移動，將涂布液涂布在被涂布體的表面上，其特征在于，具有如下工序從所述涂布用涂布頭的排出口將涂布液排出并將涂布液保持在涂布用涂布頭的前端面上的工序；待機至如此保持在涂布用涂布頭的前端面上的涂布液變得均勻的工序；使所述涂布用涂布頭下降而使保持在涂布用涂布頭的前端面上的涂布液與被涂布體的表面接觸的工序；一邊使規(guī)定量的涂布液從所述排出口排出一邊使涂布用涂布頭上升至離被涂布體隔有所需間隔的涂布開始位置的工序。
2. 如權利要求1所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布液的粘度小于等 于50cps。
3. 如權利要求1所述的涂布方法，其特征在于，在使涂布液從所述涂布用 涂布頭的排出口排出并使其保持在涂布用涂布頭的前端面上時，將排出口排出 的涂布液的量控制在能保持在涂布用涂布頭的前端面上的范圍。
4. 如權利要求1所述的涂布方法，其特征在于，在將使所述涂布用涂布頭 下降而使保持在前端面上的涂布液與被涂布體的表面接觸時的涂布用涂布頭 與被涂布體之間的間隔設為d、將涂布開始位置的涂布用涂布頭與被涂布體之 間的間隔設為D時，d/D的數(shù)值是0.6 0.9的范圍。
5. 如權利要求2所述的涂布方法，其特征在于，在將使所述涂布用涂布頭 下降而使保持在前端面上的涂布液與被涂布體的表面接觸時的涂布用涂布頭 與被涂布體之間的間隔設為d、將涂布開始位置的涂布用涂布頭與被涂布體之 間的間隔設為D時，d/D的數(shù)值是0.6 0.9的范圍。
6. 如權利要求1所述的涂布方法，其特征在于，在一邊如上所述使規(guī)定量 的涂布液從排出口排出一邊使涂布用涂布頭上升到離被涂布體隔有所需間隔 的涂布開始位置時，將從所述排出口排出的涂布液的量在涂布液于涂布用涂布 頭與被涂布體之間不被斷開的范圍內控制成少量。
7. 如權利要求2所述的涂布方法，其特征在于，在一邊如上所述使規(guī)定量的涂布液從排出口排出一邊使涂布用涂布頭上升到離被涂布體隔有所需間隔 的涂布開始位置時，將從所述排出口排出的涂布液的量在涂布液于涂布用涂布 頭與被涂布體之間不被斷開的范圍內控制成少量。
全文摘要
一種涂布方法，一邊使涂布液(2)從設在涂布用涂布頭(10)的前端面上的狹縫狀排出口(11)供給到被涂布體(1)一邊使涂布用涂布頭移動，將涂布液涂布在被涂布體的表面上，此時使從涂布用涂布頭的排出口排出的涂布液保持在涂布用涂布頭的前端面上，在待機至如此保持的涂布液均勻后，使涂布用涂布頭下降而使保持的涂布液與被涂布體的表面接觸，然后，一邊將規(guī)定量的涂布液從排出口排出一邊使涂布用涂布頭上升到被涂布體隔有所需間隔(D)的涂布開始位置。采用本發(fā)明，在一邊使涂布液從狹縫狀排出口排出一邊使涂布用涂布頭移動而將涂布液涂布在被涂布體的表面上時，可防止發(fā)生沿移動方向的條紋不均情況，并可抑制涂布開始位置的涂布液的膜厚變厚的情況。
文檔編號B05D1/26GK101204696SQ20071012804
公開日2008年6月25日 申請日期2007年6月22日 優(yōu)先權日2006年12月15日
發(fā)明者見村史章, 魏志丹 申請人:中外爐工業(yè)株式會社