專利名稱：氨基酸改性的硅烷化合物及制備方法
技術領域：
本發(fā)明涉及新的氨基酸改性的硅烷化合物及其制備方法。這些硅烷化合物可用作油漆添加劑、粘合劑、硅烷偶聯(lián)劑、織物處理劑、表面處理劑等。
背景技術：
含氨基硅烷化合物已知可用作施涂于基材賦予其表面親水性的表面處理劑，以及用作施涂于纖維和織物賦予其親水性能的織物處理劑。示例性化合物包括氨基丙基三甲氧基娃燒、氣基丙基甲基_■甲氧基娃燒、氣基乙基氣基丙基二甲氧基娃燒和氣基乙基氣基丙基甲基二甲氧基硅烷。雖然這些含氨基硅烷化合物可以賦予親水性能，但是它們對于賦予處理過的表面防污和抗真菌性能方面有效性不夠好。
那些不僅能夠賦予親水性，而且能夠賦予處理過的表面防污和抗真菌性能的化合物也是已知的。例如，專利文獻I公開了具有四烷基銨基的硅烷化合物，例如3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基十八烷基二甲基氯化銨。專利文獻I和2公開了包含硫代甜菜堿基團的硅烷化合物，和包含季銨及羧基的硅烷化合物。但是，這些化合物仍然不令人滿意。雖然專利文獻I中描述的含四烷基銨的硅烷化合物可以賦予抗真菌性能，但是它們不能賦予令人滿意的防污性能，因為處理過的基材或織物表面由于四烷基銨基團而帶靜電正電荷，使得灰塵和碎屑由于靜電吸附而沉積在表面上。因為專利文獻2和3中描述的含硫代甜菜堿的硅烷化合物和專利文獻3中描述的含四烷基銨和羧基的硅烷化合物在分子中形成兩性離子，所以與用含四烷基銨的硅烷化合物處理相比，處理過的基材或織物表面帶較少的靜電電荷。由于磺酸基是強酸，含硫代甜菜堿的硅烷化合物具有朝向負電荷側的偏壓，以及由于四烷基銨基團，含四烷基銨和羧基的硅燒化合物具有朝向正電荷側的偏壓。由于相對于電中性的這種偏壓，不能獲得令人滿意的防污性能。引文列表專利文獻I JP-A S63-500991(ff0 87/06470)專利文獻2 JP-A H05-222064專利文獻3:W0 1995/10523 (USP 5936703)

發(fā)明內容
本發(fā)明目的是提供能夠賦予令人滿意的防污和親水性能的氨基酸改性的硅烷化合物及其制備方法。發(fā)明人已經發(fā)現(xiàn)某種氨基酸改性的硅烷化合物顯示改善的親水性和防污性能，因為其沒有電荷偏壓。當該化合物用作表面處理劑或織物處理劑時，處理過的表面保持電中性，因為電荷被弱酸性氨基和弱堿性羧基抵消。因此，由電荷引起的表面吸附減到最小。這確保了改善的親水性和防污性能。一方面，本發(fā)明提供一種具有通式(I)的氨基酸改性的硅烷化合物
權利要求
1.一種具有通式(I)的氨基酸改性的硅烷化合物
2.權利要求I所述的硅烷化合物，其中在式⑴中，R^R4和R5各自為氫，R6為氫或羧基，a為I, b為3,并且n為O、I或2。
3.權利要求2所述的硅烷化合物，其為N-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基-丙氨酸、N- (3-甲基二甲氧基甲硅烷基丙基)-0-丙氨酸、N- (3-三乙氧基甲硅烷基丙基)-P -丙氨酸、N-(3-甲基二乙氧基甲硅烷基丙基-丙氨酸、N-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)天冬氨酸、N-(3-甲基二甲氧基甲硅烷基丙基)天冬氨酸、N-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)天冬氨酸或N-(3-甲基二乙氧基甲硅烷基丙基)天冬氨酸。
4.一種制備叔利要求I所述的氨基酸改性的硅烷化合物的方法，包括具有通式(2)的甲硅烷基保護的氨基酸改性的硅烷化合物的去三有機基甲硅烷基化反應
全文摘要
具有弱酸性氨基和弱堿性羧基的新的氨基酸改性的硅烷化合物可用作表面處理劑或織物處理劑。
文檔編號C07F7/18GK102702246SQ20121010529
公開日2012年10月3日 申請日期2012年2月10日 優(yōu)先權日2011年2月10日
發(fā)明者久保田透, 本間孝之, 殿村洋一 申請人:信越化學工業(yè)株式會社