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一種低輻射鍍膜玻璃的制作方法

文檔序號:11751741閱讀:222來源:國知局

本實用新型涉及建筑裝飾材料技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種低輻射鍍膜玻璃。



背景技術(shù):

隨著低輻射鍍膜玻璃在建筑上的廣泛應(yīng)用,市場上對高透,低傳熱系數(shù)的鍍膜產(chǎn)品需求量越來越大,而傳統(tǒng)的低輻射鍍膜玻璃無法完全滿足該性能要求,因此需要開發(fā)新型膜系結(jié)構(gòu)的鍍膜產(chǎn)品。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本實用新型的主要目的是提供一種低輻射鍍膜玻璃,旨在提供一種銅紅色的低輻射鍍膜玻璃。

為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提出的一種低輻射鍍膜玻璃,所述低輻射鍍膜包括玻璃基片以及鍍在所述玻璃基片表面的鍍膜層,所述鍍膜層自所述玻璃基片向外依次包括SixNy鍍層、ZnO鍍層、AlxO y鍍層以及TiOy鍍層。

優(yōu)選地,所述鍍膜層還包括ZnAlO氧化鋅鋁鍍層。

本實用新型的技術(shù)方案通過SixNy鍍層、ZnO鍍層、AlxO y鍍層以及TiOy鍍層的復(fù)合膜層結(jié)構(gòu)的設(shè)計及運用,形成了水晶透雙銀低輻射鍍膜中空玻璃產(chǎn)品,解決了目前雙銀低輻射鍍膜玻璃透射率偏低的難題。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。

本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例,參照附圖做進一步說明。

具體實施方式

下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。

需要說明,本實用新型實施例中所有方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運動情況等,如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時,則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。

另外,在本實用新型中涉及“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。另外,各個實施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合,但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ),當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實現(xiàn)時應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在,也不在本實用新型要求的保護范圍之內(nèi)。

本實用新型提出一種低輻射鍍膜玻璃。

參照圖1,圖1為本實用新型低輻射鍍膜玻璃一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

在本實用新型實施例中,所述低輻射鍍膜包括玻璃基片1以及鍍在所述玻璃基片1表面的鍍膜層,所述鍍膜層自所述玻璃基片1向外依次包括SixNy鍍層2、ZnO鍍層3、AlxO y鍍層4以及TiOy鍍層5。

優(yōu)選地,所述鍍膜層還包括ZnAlO氧化鋅鋁鍍層。

在具體實施例中,采用交流脈沖電源濺射技術(shù),直接濺射氧化鈦陶瓷靶鍍制氧化鈦薄膜,提高濺射工藝的穩(wěn)定性,達到大幅度地提高濺射效率和鍍膜速度。

本實用新型的技術(shù)方案通過SixNy鍍層2、ZnO鍍層3、AlxO y鍍層4以及TiOy鍍層5的復(fù)合膜層結(jié)構(gòu)的設(shè)計及運用,形成了水晶透雙銀低輻射鍍膜中空玻璃產(chǎn)品,解決了目前雙銀低輻射鍍膜玻璃透射率偏低的難題。

以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例,并非因此限制本實用新型的專利范圍,凡是在本實用新型的發(fā)明構(gòu)思下,利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換,或直接/間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域均包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。

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