本發(fā)明屬于玻璃生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃及制備方法。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有技術(shù)中的low-e玻璃生產(chǎn)工藝是在優(yōu)質(zhì)浮法基片上鍍制以ag為功能層，包含介質(zhì)層和其它金屬層的多層膜系。若按照功能層銀的層數(shù)來進(jìn)行劃分，low-e玻璃可以分為單銀low-e玻璃、雙銀low-e玻璃、三銀low-e玻璃。目前，單銀、雙銀都是建筑玻璃領(lǐng)域比較成熟的節(jié)能方案,三銀節(jié)能玻璃節(jié)能效果優(yōu)于雙銀和單銀，但三銀玻璃膜層結(jié)構(gòu)復(fù)雜，工藝控制難度大，因而成本較高。近年來市場(chǎng)上真正能夠量產(chǎn)三銀的廠家不多，且可供選擇的三銀品種也不如雙銀、單銀豐富。

隨著市場(chǎng)逐漸成熟，同質(zhì)化競(jìng)爭(zhēng)日趨明顯，客戶對(duì)幕墻的外觀顏色的要求也越來越高，但是對(duì)于市場(chǎng)上大多數(shù)的low-e雙銀而言，其普遍存在側(cè)面小角度變色的情況，且膜面(色調(diào)重)、透過色(發(fā)黃/發(fā)綠)視覺效果較差，整體感官渾濁不夠清透，另一方面客戶對(duì)顏色的偏好朝中性色方向發(fā)展，市面上少量的中性色高清膜系產(chǎn)品受到客戶的追捧，各企業(yè)均開展有對(duì)雙銀顏色的改良研發(fā)工作。

現(xiàn)有的技術(shù)存在如下缺點(diǎn)：

1)目前雖有雙銀中性色產(chǎn)品，但總體仍不夠清透，存在透過色發(fā)黃/發(fā)綠的問題。

2)目前的雙銀產(chǎn)品多數(shù)存在小角度變色的現(xiàn)象，且膜面色調(diào)重，影響裝飾效果。

3)雙銀產(chǎn)品總體生產(chǎn)成本仍然較高，民用市場(chǎng)推廣缺乏動(dòng)力。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有的技術(shù)存在的上述問題，提供一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃及制備方法，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是如何提高玻璃的清透性能。

本發(fā)明的目的可通過下列技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述低輻射玻璃包括玻璃基片層和位于玻璃基片層一側(cè)的鍍膜層，所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外依次復(fù)合有十個(gè)膜層，其中第一層為znsno/zno或兩者的混合層，第二層為ag層，第三層cu層，第四層為nicr層,第五層為fe2o3層,第六層為znsno/zno或兩者的混合層,第七層為ag層,第八層為nicr層，第九層為fe2o3層，第十層為sinx層。

其中第一層為第一電介質(zhì)組合層，第二層為低輻射功能層，第三層為第一阻擋保護(hù)層，第四層為透過色改善層，第六層為第二電介質(zhì)組合層，第七層為低輻射功能層，第八層為第二阻擋保護(hù)層，第九層為透過色改善層，第十層為第三電介質(zhì)層。通過添加、優(yōu)化膜層材料，在第八層和第十層之間設(shè)置fe2o3層，有效調(diào)節(jié)380-550nm波段透過率，改善low-e雙銀透過色及膜面顏色，使其更加清透。

一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，本加工方法包括如下步驟：

1)、磁控濺射鍍膜層；

a、磁控濺射第一層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶4～6個(gè)；靶材配置為鋅錫(znsn)/鋅鋁(znal)，或者是鋅錫(znsn)和鋅鋁(znal)的混合物；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10^-3mbar；鍍膜厚度為：45～55nm；

b、磁控濺射第二層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶或直流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為ag；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：2.0～3.5nm；

c、磁控濺射第三層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為cu；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：0.5～2nm；

d、磁控濺射第四層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為nicr；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：1.5～2.5nm；

e、磁控濺射第五層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為fe2o3；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10^-3mbar；鍍膜厚度為：1.0～2.0nm；不銹鋼旋轉(zhuǎn)靶濺射的fe2o3層不僅能夠改善透過性能，而且其價(jià)格低廉，能夠大幅度的降低玻璃的制備成本。

f、磁控濺射第六層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶6～8個(gè)；靶材料為鋅錫(znsn)/鋅鋁(znal)，或者是鋅錫(znsn)、鋅鋁(znal)靶混合使用；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10^-3mbar；鍍膜厚度為：65～75nm；

g、磁控濺射第七層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶或直流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為ag；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：15～20nm；

h、磁控濺射第八層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為nicr；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：1.4～3.1nm；

i、磁控濺射第九層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為fe2o3；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10^-3mbar；鍍膜厚度為：0.5～2.0nm；不銹鋼旋轉(zhuǎn)靶濺射的fe2o3層不僅能夠改善透過性能，而且其價(jià)格低廉，能夠大幅度的降低玻璃的制備成本。

j、磁控濺射第十層：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為sinx；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:1.14；濺射氣壓為3～5×10^-3mbar；鍍膜厚度為：45～50nm；

2)、鍍膜層厚度控制在180～205nm之間。

本發(fā)明獲得的有益效果為：

1、制得的玻璃6mm單片透過率為40-55％，玻面外觀顏色清新靚麗，色彩純一；透過色a*∈[-1.5，0]，b*∈[-1.0，0]；膜面顏色a*∈[-5.0,0]，b*∈[-2.0，2.0]，玻面多角度(10°—75°)色差△a*＜2.5。

2、引入成本較低的不銹鋼靶材，降低生產(chǎn)成本。

附圖說明

圖1是本發(fā)明中高清中性色低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，a、玻璃基片層；1、第一層；2、第二次；3、第三層；4、第四層；5、第五層；6、第六層；7、第七層；8、第八層；9、第九層；10、第十層。

具體實(shí)施方式

以下是本發(fā)明的具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步的描述，但本發(fā)明并不限于這些實(shí)施例。

如圖1所示，高清中性色低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基片層a和位于玻璃基片層a一側(cè)的鍍膜層，所述鍍膜層自玻璃基片層a向外依次復(fù)合有十個(gè)膜層，其中第一層1為znsno/zno或兩者的混合層，第二層2為ag層，第三層3cu層，第四層4為nicr層,第五層5為fe2o3層,第六層6為znsno/zno或兩者的混合層,第七層7為ag層,第八層8為nicr層，第九層9為fe2o3層，第十層10為sinx層。

其中第一層1為第一電介質(zhì)組合層，第二層2為低輻射功能層，第三層3為第一阻擋保護(hù)層，第四層4為透過色改善層，第六層6為第二電介質(zhì)組合層，第七層7為低輻射功能層，第八層8為第二阻擋保護(hù)層，第九層9為透過色改善層，第十層10為第三電介質(zhì)層。通過添加、優(yōu)化膜層材料，在第八層8和第十層10之間設(shè)置fe2o3層，有效調(diào)節(jié)380-550nm波段透過率，改善low-e雙銀透過色及膜面顏色，使其更加清透。

一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，本加工方法包括如下步驟：

1)、磁控濺射鍍膜層；

a、磁控濺射第一層1：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶4～6個(gè)；靶材配置為鋅錫(znsn)/鋅鋁(znal)，或者是鋅錫(znsn)和鋅鋁(znal)的混合物；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10^-3mbar；鍍膜厚度為：45～55nm；

b、磁控濺射第二2：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶或直流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為ag；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：2.0～3.5nm；

c、磁控濺射第三層3：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為cu；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：0.5～2nm；

d、磁控濺射第四層4：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為nicr；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：1.5～2.5nm；

e、磁控濺射第五層5：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為fe2o3；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：1.0～2.0nm；不銹鋼旋轉(zhuǎn)靶濺射的fe2o3層不僅能夠改善透過性能，而且其價(jià)格低廉，能夠大幅度的降低玻璃的制備成本。

f、磁控濺射第六6：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶6～8個(gè)；靶材配置為鋅錫(znsn)/鋅鋁(znal)，或者是鋅錫(znsn)和鋅鋁(znal)的混合物；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10^-3mbar；鍍膜厚度為：65～75nm；

g、磁控濺射第七層7：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶或直流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為ag；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：15～20nm；

h、磁控濺射第八層8：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為nicr；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10^-3mbar；鍍膜厚度為：1.4～3.1nm；

i、磁控濺射第九層9：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為fe2o3；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10^-3mbar；鍍膜厚度為：0.5～2.0nm；不銹鋼旋轉(zhuǎn)靶濺射的fe2o3層不僅能夠改善透過性能，而且其價(jià)格低廉，能夠大幅度的降低玻璃的制備成本。

j、磁控濺射第十層10：

靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材料為sinx；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:1.14；濺射氣壓為3～5×10^-3mbar；鍍膜厚度為：45～50nm；

2)、鍍膜層厚度控制在180～205nm之間。

其效果為：1、制得的玻璃6mm單片透過率為40-55％，玻面外觀顏色清新靚麗，色彩純一；透過色a*∈[-1.5，0]，b*∈[-1.0，0]；膜面顏色a*∈[-5.0,0]，b*∈[-2.0，2.0]，玻面多角度(10°—75°)色差△a*＜2.5。

2、引入成本較低的不銹鋼靶材，降低生產(chǎn)成本，

本文中所描述的具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明精神作舉例說明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，但并不會(huì)偏離本發(fā)明的精神或者超越所附權(quán)利要求書所定義的范圍。