一種旋轉(zhuǎn)靶及濺射裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種旋轉(zhuǎn)靶及濺射裝置，旋轉(zhuǎn)靶包括相對(duì)而置的上擋板和下?lián)醢?、位于上擋板與下?lián)醢逯g的支撐體以及多段相互緊密連接且包覆在支撐體外表面的旋轉(zhuǎn)靶材，由于各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在支撐體的旋轉(zhuǎn)軸的投影為線段，而不是點(diǎn)，這樣在旋轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，可以使各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在基板上的投影來(lái)回移動(dòng)，而不會(huì)使各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫始終對(duì)應(yīng)基板的同一位置，從而使在基板上制備的薄膜的表面更均勻且性能一致，使旋轉(zhuǎn)靶的鍍膜質(zhì)量得到優(yōu)化。
【專利說(shuō)明】一種旋轉(zhuǎn)靶及濺射裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種旋轉(zhuǎn)靶及濺射裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，低成本、大面積、高效率地制備薄膜逐漸成為鍍膜領(lǐng)域的發(fā)展方向，與之相應(yīng)的是對(duì)大尺寸、高質(zhì)量的濺射靶材的需求。
[0003]與傳統(tǒng)的平面靶相比，旋轉(zhuǎn)靶可以進(jìn)行360°的旋轉(zhuǎn)，可以使旋轉(zhuǎn)靶的利用率達(dá)到80%，而平面靶的利用率僅為20%至30%。并且，采用旋轉(zhuǎn)靶的濺射設(shè)備中的氣體分布均勻，可以使制備的薄膜具有較好的均勻性。同時(shí)，旋轉(zhuǎn)靶還可以實(shí)現(xiàn)較高的濺射速率。為了實(shí)現(xiàn)大面積地制備薄膜，現(xiàn)有的旋轉(zhuǎn)靶是由多段旋轉(zhuǎn)靶材拼接而成的，如圖1a所示，包括:上擋板101、下?lián)醢?02、兩擋板之間的支撐體103以及固定在支撐體103上的多段圓筒狀的旋轉(zhuǎn)靶材104。
[0004]對(duì)采用上述結(jié)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)靶濺射得到的薄膜進(jìn)行1-V曲線測(cè)量，圖1b和圖1c分別為基板上與拼接處對(duì)應(yīng)的薄膜和與非拼接處對(duì)應(yīng)的薄膜的1-V曲線。在各旋轉(zhuǎn)靶材旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中，由于各旋轉(zhuǎn)靶材之間的拼接處始終對(duì)應(yīng)基板的同一位置，從比較圖1b和圖1c可以看出，基板上與拼接處對(duì)應(yīng)的薄膜的性能和與非拼接處對(duì)應(yīng)的薄膜的性能存在差別，致使上述結(jié)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)靶的鍍膜質(zhì)量較差。
[0005]因此，如何優(yōu)化旋轉(zhuǎn)靶的結(jié)構(gòu)使利用其制備出的膜層的質(zhì)量更優(yōu)，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供一種旋轉(zhuǎn)靶及濺射裝置，用以優(yōu)化旋轉(zhuǎn)靶的結(jié)構(gòu)使利用其制備出的膜層的質(zhì)量更優(yōu)。
[0007]因此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種旋轉(zhuǎn)靶，包括:相對(duì)而置的上擋板和下?lián)醢?，位于所述上擋板與所述下?lián)醢逯g的支撐體，以及多段相互緊密連接且包覆在所述支撐體外表面的旋轉(zhuǎn)靶材，
[0008]各所述旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸的投影為線段。
[0009]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶，由于各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在支撐體的旋轉(zhuǎn)軸的投影為線段，而不是點(diǎn)，這樣在旋轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，可以使各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在基板上的投影來(lái)回移動(dòng)，而不會(huì)使各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫始終對(duì)應(yīng)基板的同一位置，從而使在基板上制備的薄膜的表面更均勻且性能一致，使旋轉(zhuǎn)靶的鍍膜質(zhì)量得到優(yōu)化。
[0010]較佳地，為了使各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在基板上移動(dòng)的區(qū)域之間沒(méi)有重疊，從而保證在基板上制備的薄膜的均勻性，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶中，所有投影在所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸上的所述線段均互不重疊。
[0011]進(jìn)一步地，為了使各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在基板上的投影在整張基板上來(lái)回移動(dòng)，以使基板上不存在沒(méi)有被各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫覆蓋的區(qū)域，從而保證在基板上制備的薄膜的均勻性，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶中，投影在所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸上的相鄰的兩條所述線段相互連接。
[0012]較佳地，為了方便各旋轉(zhuǎn)靶材之間緊密連接，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶中，除位于所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸兩端的所述接縫，其他各所述接縫均圍成一橢圓形的截面。
[0013]進(jìn)一步地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶中，各所述截面與所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸的夾角均相同。
[0014]最佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶中，各所述截面相互平行。
[0015]一般地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶中，各段所述旋轉(zhuǎn)靶材的材料均相同。
[0016]具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶中，所述旋轉(zhuǎn)靶材的材料為氧化物或金屬。
[0017]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種濺射裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶。
[0018]具體地，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述濺射裝置為磁控濺射裝置或反應(yīng)濺射裝置。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0019]圖1a為現(xiàn)有技術(shù)中旋轉(zhuǎn)靶的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖1b和圖1c分別為現(xiàn)有技術(shù)中旋轉(zhuǎn)靶在拼接處對(duì)應(yīng)的薄膜和非拼接處對(duì)應(yīng)的薄膜的1-V曲線；
[0021]圖2a_圖2g分別為本發(fā)明實(shí)施例提供的旋轉(zhuǎn)靶的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的旋轉(zhuǎn)靶及濺射裝置的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。
[0023]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種旋轉(zhuǎn)靶，如圖2a_圖2g所示，包括:相對(duì)而置的上擋板1和下?lián)醢?，位于上擋板I與下?lián)醢?之間的支撐體3，以及多段相互緊密連接且包覆在支撐體3外表面的旋轉(zhuǎn)靶材4 ；
[0024]各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5在支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6的投影a為線段。
[0025]其中，圖2b_圖2g分別為本發(fā)明實(shí)施例提供的六種旋轉(zhuǎn)靶的結(jié)構(gòu)示意圖，且對(duì)旋轉(zhuǎn)靶的觀察角度相同；圖2a和圖2b所示的旋轉(zhuǎn)靶的結(jié)構(gòu)相同但觀察角度不同。具體地，如圖2a-圖2f所示，支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6可以垂直于上擋板I和下?lián)醢?，或者，如圖2g所示，支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6可以與上擋板I和下?lián)醢?不垂直，只需保證支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6與基板的表面相互平行即可，在此不做限定。
[0026]并且，圖2a_圖2g均以圓筒狀的旋轉(zhuǎn)靶材4為例進(jìn)行說(shuō)明，這樣勻速旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)靶材4就可以實(shí)現(xiàn)均勻?yàn)R射；或者，也可以將旋轉(zhuǎn)靶材4設(shè)置為橢圓筒狀或?yàn)槠渌螤?，通過(guò)改變旋轉(zhuǎn)靶材4的旋轉(zhuǎn)速度以實(shí)現(xiàn)均勻?yàn)R射的目的，在此不做限定。
[0027]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶，由于各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5在支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6的投影a為線段，而不是點(diǎn)，這樣在旋轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，可以使各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5在基板上的投影來(lái)回移動(dòng)，而不會(huì)使各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5始終對(duì)應(yīng)基板的同一位置，從而使在基板上制備的薄膜的表面更均勻且性能一致，使旋轉(zhuǎn)靶的鍍膜質(zhì)量得到優(yōu)化。[0028]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶在具體實(shí)施時(shí)，如圖2a_圖2e所示，所有投影在支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6上的線段可以互不重疊，這樣可以使各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5在基板上移動(dòng)的區(qū)域之間沒(méi)有重疊，從而保證在基板上制備的薄膜的均勻性；或者，如圖2f所示，投影在支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6上的相鄰的兩條線段之間也可以相互重疊，每間隔一個(gè)接縫投影在支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6上的線段相互連接，這樣，各旋轉(zhuǎn)靶材旋轉(zhuǎn)一周，各接縫在基板上的投影來(lái)回移動(dòng)兩回，也可以實(shí)現(xiàn)在基板上制備的薄膜的均勻性，在此不做限定。
[0029]進(jìn)一步地，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶在具體實(shí)施時(shí)，如圖2a_圖2d所示，投影在支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6上的相鄰的兩條線段可以相互連接，這樣可以使各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5可以在整張基板上移動(dòng)，以使基板上不存在沒(méi)有被各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5覆蓋的區(qū)域，從而保證在基板上制備的薄膜的均勻性；或者，如圖2e所示，也可以使投影在支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6上的相鄰的兩條線段相互靠近的兩端之間存在一定的距離，在此不做限定。
[0030]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶在具體實(shí)施時(shí)，各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5可以為平滑的曲線，圖2a-圖2g均是以各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5為平滑的曲線為例進(jìn)行說(shuō)明的，這樣可以便于各旋轉(zhuǎn)靶材4之間緊密連接。由于各旋轉(zhuǎn)靶材4為圓筒狀的靶材，且各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5在支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6的投影a為線段，因此，如圖2a-圖2c、圖2f和圖2g所示，除位于支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6兩端的接縫501和接縫502，其他各接縫503均會(huì)圍成一橢圓形的截面。當(dāng)然，在如圖2d和圖2e所示的旋轉(zhuǎn)靶中，位于支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6兩端的接縫501和接縫502也可以圍成橢圓形的截面，在此不做限定。
[0031]當(dāng)然，各旋轉(zhuǎn)靶材4的接縫5也可以為鋸齒狀或波浪線狀等形狀，在此不做限定。
[0032]進(jìn)一步地，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶在具體實(shí)施時(shí)，如圖2a-圖2c和圖2e_圖2g所示，各截面與支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6的夾角Θ可以均相同，這樣可以簡(jiǎn)化旋轉(zhuǎn)靶的制作工藝，提高生產(chǎn)效率；或者，如圖2d所示，各截面與支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6的夾角Θ也可以不同，在此不做限定。
[0033]進(jìn)一步地，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶在具體實(shí)施時(shí)，如圖2a、圖2b和圖2e-2g圖所示，可以將各截面設(shè)置為相互平行，特別地，在如圖2a和圖2b所示的旋轉(zhuǎn)靶中，除位于支撐體3的旋轉(zhuǎn)軸6兩端的旋轉(zhuǎn)靶材401和旋轉(zhuǎn)靶材402，其他各旋轉(zhuǎn)靶材403的形狀一致，且尺寸相同，這樣可以進(jìn)一步地簡(jiǎn)化旋轉(zhuǎn)靶的制作工藝，提高生產(chǎn)效率；或者，如圖2c和圖2d所示，也可以將各截面設(shè)置為不相互平行，在此不做限定。
[0034]在如圖2a和圖2b所示的旋轉(zhuǎn)靶中，可以根據(jù)支撐體3的高度H和每個(gè)旋轉(zhuǎn)靶材403的高度h設(shè)置旋轉(zhuǎn)靶中旋轉(zhuǎn)靶材的數(shù)量n，設(shè)置的旋轉(zhuǎn)靶材的數(shù)量η應(yīng)該大于[H/h]。其中，[H/h]為對(duì)H/h做取整函數(shù)，即[H/h]為不大于H/h的最大整數(shù)。
[0035]一般地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶中，各段旋轉(zhuǎn)靶材4采用相同的材料制備。
[0036]具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶中，旋轉(zhuǎn)靶材的材料可以為氧化物，例如，氧化銦鎵鋅(IGZ0)或氧化銦錫(ΙΤ0)等，或者，旋轉(zhuǎn)靶材的材料也可以為金屬，例如，銀(Ag)或鋁(Al)等，在此不做限定。
[0037]基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種濺射裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶。一般在實(shí)際的濺射裝置中，會(huì)并排設(shè)置多個(gè)本發(fā)明實(shí)施例提供的上述旋轉(zhuǎn)靶，該濺射裝置的實(shí)施可以參見(jiàn)上述旋轉(zhuǎn)靶的實(shí)施例，重復(fù)之處不再贅述。[0038]一般地，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述濺射裝置可以為磁控濺射裝置或反應(yīng)濺射裝置，也可以為其他濺射裝置，在此不做限定。
[0039]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種旋轉(zhuǎn)靶及濺射裝置，旋轉(zhuǎn)靶包括相對(duì)而置的上擋板和下?lián)醢?、位于上擋板與下?lián)醢逯g的支撐體以及多段相互緊密連接且包覆在支撐體外表面的旋轉(zhuǎn)靶材，由于各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在支撐體的旋轉(zhuǎn)軸的投影為線段，而不是點(diǎn)，這樣在旋轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，可以使各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在基板上的投影來(lái)回移動(dòng)，而不會(huì)使各旋轉(zhuǎn)靶材的接縫始終對(duì)應(yīng)基板的同一位置，從而使在基板上制備的薄膜的表面更均勻且性能一致，使旋轉(zhuǎn)靶的鍍膜質(zhì)量得到優(yōu)化。
[0040]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣， 倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種旋轉(zhuǎn)靶，包括:相對(duì)而置的上擋板和下?lián)醢澹挥谒錾蠐醢迮c所述下?lián)醢逯g的支撐體，以及多段相互緊密連接且包覆在所述支撐體外表面的旋轉(zhuǎn)靶材，其特征在于: 各所述旋轉(zhuǎn)靶材的接縫在所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸的投影為線段。
2.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)靶，其特征在于，所有投影在所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸上的所述線段均互不重疊。
3.如權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)靶，其特征在于，投影在所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸上的相鄰的兩條所述線段相互連接。
4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的旋轉(zhuǎn)靶，其特征在于，除位于所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸兩端的所述接縫，其他各所述接縫均圍成一橢圓形的截面。
5.如權(quán)利要求4所述的旋轉(zhuǎn)靶，其特征在于，各所述截面與所述支撐體的旋轉(zhuǎn)軸的夾角均相同。
6.如權(quán)利要求5所述的旋轉(zhuǎn)靶，其特征在于，各所述截面相互平行。
7.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的旋轉(zhuǎn)靶，其特征在于，各段所述旋轉(zhuǎn)靶材的材料均相同。
8.如權(quán)利要求7所述的旋轉(zhuǎn)靶，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)靶材的材料為氧化物或金屬。
9.一種濺射裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的旋轉(zhuǎn)靶。
10.如權(quán)利要求9所述的濺射裝置，其特征在于，所述濺射裝置為磁控濺射裝置或反應(yīng)濺射裝置。
【文檔編號(hào)】C23C14/34GK103789735SQ201410039981
【公開(kāi)日】2014年5月14日 申請(qǐng)日期:2014年1月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月27日
【發(fā)明者】王東方 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司