專利名稱：金屬帶軋制裝置及軋制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及靶材制造領(lǐng)域，具體的，本發(fā)明涉及金屬帶的軋制裝置及方法。
背景技術(shù)：
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition ；PVD)是半導(dǎo)體芯片和TFT-LCD生產(chǎn)過(guò)程中最關(guān)鍵的工藝之一，PVD用濺射金屬靶材是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)及TFT-IXD制備加工過(guò)程中最重要的原材料之一，其中，用作濺射靶材的金屬料件需要經(jīng)過(guò)一定的塑性變形加工工藝，才能實(shí)現(xiàn)金屬料件的組織結(jié)構(gòu)控制，從而制作出符合塑性變形工藝要求的金屬濺射靶材。塑性變形工藝有多種，常見的有自由鍛、模鍛、板料沖壓、擠壓、拉拔、軋制等。傳統(tǒng)的靶材加工是將多種塑性變形工藝進(jìn)行結(jié)合，所述塑性變形加工工藝包括切斷、自由鍛、沖壓、軋制等多道工序，其中，軋制廣泛應(yīng)用于金屬材料的塑形變形加工，特別是金屬帶的加工。參照?qǐng)D1，現(xiàn)有工藝中金屬帶的軋制主要通過(guò)圖1中的裝置軋制而成，其中軋輥101和 102上下相對(duì)設(shè)置、且旋轉(zhuǎn)方向相反，金屬帶105通過(guò)送料平臺(tái)103送入軋制裝置中的軋輥 101和102之間，經(jīng)過(guò)軋輥101和102的多次軋制，制成固定尺寸的金屬帶。然而，當(dāng)利用圖1中裝置軋制長(zhǎng)度較長(zhǎng)(大于3米)、寬度較小(小于100mm)、厚度較薄(IOmm以下)的金屬帶時(shí)，所制造的金屬帶易在水平方向產(chǎn)生S彎或拱形彎，厚度較薄的產(chǎn)品產(chǎn)生這兩種變形時(shí)，很難校正，從而造成軋制后的產(chǎn)品在彎曲度較大的地方無(wú)法加工到要求尺寸，降低了成材率，浪費(fèi)資源，增加成本。現(xiàn)有工藝主要通過(guò)銦焊料焊接的方法制造長(zhǎng)度較長(zhǎng)、寬度和厚度較小的金屬帶， 但是由于銦的價(jià)格昂貴、使用量大，導(dǎo)致所制造的金屬帶成本高。因此，需要提供一種軋制長(zhǎng)度較長(zhǎng)、寬度和厚度較小的金屬帶的裝置和方法，以減少軋制金屬帶時(shí)因成材率不高導(dǎo)致的資源浪費(fèi)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問(wèn)題是現(xiàn)有技術(shù)軋制長(zhǎng)度較、寬度和厚度較小的金屬帶時(shí)，所得到的金屬帶在水平方向易產(chǎn)生變形，導(dǎo)致軋制所形成的金屬帶成材率不高、資源浪費(fèi)。為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種金屬帶軋制裝置，包括對(duì)稱設(shè)置的上下兩個(gè)軋輥，上軋輥和下軋輥之間形成有縫隙；送料平臺(tái)，與所述上下軋輥之間縫隙相對(duì)，所述送料平臺(tái)上表面與下軋輥的最高位置處于同一平面，用以運(yùn)送所要軋制的金屬料件至所述上下兩個(gè)軋輥之間，所述送料平臺(tái)上表面設(shè)置有兩側(cè)邊平直的墊塊，所述墊塊的延伸方向與軋輥輥軸方向不平行?？蛇x的，所述墊塊的材質(zhì)為鋼?？蛇x的，所述墊塊的長(zhǎng)度范圍為300至500毫米。可選的，所述墊塊的厚度范圍為100至200毫米?？蛇x的，所述墊塊距軋輥進(jìn)料面的最小距離為10至100毫米?？蛇x的，所述墊塊的延伸方向與軋輥輥軸方向的夾角為90°。
可選的，所述墊塊的個(gè)數(shù)為一個(gè)或兩個(gè)，當(dāng)所述墊塊的個(gè)數(shù)為兩個(gè)時(shí)，兩個(gè)墊塊相
互平行。相應(yīng)的，本發(fā)明還提供了一種與以上金屬帶軋制裝置對(duì)應(yīng)的金屬帶軋制方法，包括提供金屬料件；將金屬料件緊貼金屬帶軋制裝置中墊塊的側(cè)邊送入上下兩個(gè)軋輥之間進(jìn)行多道次的軋制工藝，制成金屬帶?？蛇x的，所述軋制工藝為冷軋。可選的，所述每一道次的軋制工藝具體包括調(diào)節(jié)上下兩個(gè)軋輥間的輥距，所述輥距為單次軋制目標(biāo)量；將金屬料件緊貼送料平臺(tái)上墊塊的側(cè)邊送入上下兩個(gè)軋輥之間；通過(guò)上下兩個(gè)軋輥的轉(zhuǎn)動(dòng)，將所述金屬料件進(jìn)行軋制，送出符合所述軋制目標(biāo)量的金屬料件或金屬帶?？蛇x的，所述每一道次軋制工藝中的單次軋制目標(biāo)量相同或不同，金屬料件的總軋制目標(biāo)量為所述多道次軋制工藝中各道次軋制工藝的單次軋制目標(biāo)量之和?？蛇x的，當(dāng)所述每一道次軋制工藝中的單次軋制目標(biāo)量不同時(shí)，多道次軋制工藝中的各單次軋制目標(biāo)量依次遞減。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明通過(guò)在現(xiàn)有金屬帶軋制裝置的送料平臺(tái)上設(shè)置兩側(cè)邊平直的墊塊，并使金屬料件緊貼墊塊側(cè)邊送入金屬帶軋制裝置的上下兩個(gè)軋輥之間，使金屬料件的延伸方向與軋輥進(jìn)料面的夾角在整個(gè)軋制過(guò)程中保持一致， 進(jìn)而改善所生產(chǎn)金屬帶的直線度，減少金屬帶水平方向上的變形，提高金屬帶的成材率、降低浪費(fèi)。


圖1為現(xiàn)有工藝中金屬帶軋制裝置的示意圖；圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例金屬帶軋制裝置的示意圖；圖3為本發(fā)明金屬帶軋制方法的流程示意圖；圖4為圖3中每道次的軋制工藝的流程示意圖；圖5為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例金屬帶軋制裝置的示意圖。
具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
做詳細(xì)的說(shuō)明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施，因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。正如背景技術(shù)部分所述，利用現(xiàn)有金屬帶軋制裝置軋制金屬料件時(shí)，所生產(chǎn)的金屬帶易在水平方向上產(chǎn)生S彎或拱形彎，當(dāng)厚度較薄的產(chǎn)品產(chǎn)生這兩種變形時(shí)，很難校正， 從而造成軋制后的產(chǎn)品在彎曲度較大的地方無(wú)法加工到要求尺寸，降低了成材率，浪費(fèi)資源。針對(duì)上述問(wèn)題，發(fā)明人提供了一種金屬帶軋制裝置以及軋制方法，通過(guò)在現(xiàn)有金屬帶軋制裝置的送料平臺(tái)上設(shè)置兩側(cè)邊平直的墊塊，并使金屬料件緊貼墊塊的一個(gè)側(cè)邊送入金屬帶軋制裝置的上下兩個(gè)軋輥之間，使金屬料件的延伸方向與軋輥進(jìn)料面的夾角在整個(gè)軋制過(guò)程中保持一致，進(jìn)而改善所生產(chǎn)金屬帶的直線度，減少金屬帶水平方向上的變形， 提高金屬帶的成材率、降低浪費(fèi)。參考圖2，示出了本發(fā)明金屬帶軋制裝置，包括對(duì)稱設(shè)置的上下兩個(gè)軋輥201和 202，上軋輥201和下軋輥202之間形成有縫隙；與上軋輥201和下軋輥202之間縫隙相對(duì)的送料平臺(tái)203，所述送料平臺(tái)203上表面與下軋輥202的最高位置處于同一平面；所述送料平臺(tái)203上表面設(shè)置有兩側(cè)邊平直的墊塊207，所述墊塊207的延伸方向與軋輥輥軸方向AA的夾角為90°。其中，所述送料平臺(tái)203運(yùn)送所要軋制的金屬料件205至所述上軋輥 201和下軋輥202之間。在其它實(shí)施例中，所述墊塊207的延伸方向與軋輥輥軸方向AA的夾角可為大于 0°小于180°的任意角度。在具體的實(shí)施例中，墊塊207的材質(zhì)為鋼，長(zhǎng)度L范圍為300至500毫米，厚度H 范圍為100至200毫米，所述墊塊207距軋輥進(jìn)料面209的最小距離為10至100毫米。需要說(shuō)明的是，所述軋輥進(jìn)料面209為上軋輥201和下軋輥202的公共切面，所述軋輥進(jìn)料面 209在上軋輥201和下軋輥202輥軸的同一側(cè)、且位于設(shè)置有送料平臺(tái)203的上軋輥201和下軋輥202 —側(cè)。墊塊207的兩個(gè)側(cè)邊(如圖2中金屬料件205緊貼的第一側(cè)邊211以及同一墊塊207上與第一側(cè)邊211相對(duì)的側(cè)邊)與所述送料平臺(tái)203上表面垂直。與圖2中金屬帶軋制裝置對(duì)應(yīng)的金屬帶軋制方法的流程示意圖如圖3所示。假設(shè)所提供的金屬料件的厚度為50mm，通過(guò)金屬帶軋制裝置軋制，所期望得到金屬帶的厚度為 8mm，即金屬料件的總軋制目標(biāo)量為42mm，那么利用圖2中金屬帶軋制裝置軋制金屬帶時(shí)包括步驟S10，提供厚度為50mm金屬料件；步驟S20，將金屬料件緊貼金屬帶軋制裝置中墊塊的一側(cè)邊送入上下兩個(gè)軋輥之間進(jìn)行多道次的軋制工藝，制成金屬帶。所述軋制工藝為冷軋，圖3中每一道次的軋制工藝的流程示意圖如圖4所示，包括步驟S201，調(diào)節(jié)上下兩個(gè)軋輥間的輥距，所述輥距為單次軋制目標(biāo)量；步驟S202，將金屬料件緊貼送料平臺(tái)上墊塊的一側(cè)邊送入上下兩個(gè)軋輥之間；步驟S203，通過(guò)上下兩個(gè)軋輥的轉(zhuǎn)動(dòng)，將所述金屬料件進(jìn)行軋制，送出符合所述軋制目標(biāo)量的金屬料件或金屬帶。本實(shí)施例中，設(shè)定圖2中上軋輥201和下軋輥202之間的輥距固定為6mm，即每經(jīng)過(guò)一道次軋制，得到的金屬料件厚度比軋制之前減薄6mm。那么，利用圖2中金屬帶軋制裝置進(jìn)行7道次軋制，金屬料件共減薄42mm，得到的金屬帶的厚度為8mm。在另一實(shí)施例中，在軋制金屬帶過(guò)程中，各道次軋制目標(biāo)量不同，即每道次軋制工藝中上軋輥201和下軋輥202之間的輥距不相同。如分6道次將厚度為50mm的金屬料件軋制成8mm的金屬帶，且這6道次的軋制目標(biāo)量依次遞減，即將第1至6道次上軋輥201和下軋輥202之間的輥距依次設(shè)置為12mm、10mm、8mm、6mm、4mm和2mm。金屬料件經(jīng)過(guò)6道次軋制工藝，其厚度共減薄42mm，得到的金屬帶的厚度為8mm。在另一個(gè)實(shí)施例中，還可以在金屬帶軋制裝置的送料平臺(tái)上設(shè)置兩個(gè)相互平行的墊塊，兩個(gè)墊塊之間的間隔為各道次送入金屬帶軋制裝置的金屬料件寬度。含有兩個(gè)墊塊的金屬帶軋制設(shè)備如圖5所示，包括對(duì)稱設(shè)置的上下兩個(gè)軋輥301和302，上軋輥301和下軋輥302之間形成有縫隙；與上軋輥301和下軋輥302之間縫隙相對(duì)的送料平臺(tái)303，所述送料平臺(tái)303上表面與下軋輥302的最高位置處于同一平面；所述送料平臺(tái)303上表面設(shè)置有兩個(gè)兩側(cè)邊平直的墊塊307，所述墊塊307的延伸方向與軋輥輥軸方向CC的夾角為 90°。其中，所述送料平臺(tái)303運(yùn)送所要軋制的金屬料件305至所述上軋輥301和下軋輥 302之間。在其它實(shí)施例中，所述墊塊307的延伸方向與軋輥輥軸方向CC的夾角可為大于 0°且小于180°的任意角度。在具體的實(shí)施例中，墊塊307的材質(zhì)為鋼，長(zhǎng)度L范圍為300至500毫米，厚度H 范圍為100至200毫米，兩個(gè)墊塊307之間的間隔為金屬料件305的寬度，所述墊塊307距軋輥進(jìn)料面309的最小距離為10至100毫米。需要說(shuō)明的是，所述軋輥進(jìn)料面309為上軋輥301和下軋輥302的公共切面，所述軋輥進(jìn)料面309在上軋輥301和下軋輥302輥軸的同一側(cè)、且位于設(shè)置有送料平臺(tái)303的上軋輥301和下軋輥302 —側(cè)。兩個(gè)墊塊307的四個(gè)側(cè)邊(同圖5中墊塊307上第一側(cè)邊 311、與第一側(cè)邊311在同一墊塊上且與第一側(cè)邊311相對(duì)的側(cè)邊、第二側(cè)邊313以及與第二側(cè)邊313在同一墊塊上且與第二側(cè)邊313相對(duì)的側(cè)邊)均與所述送料平臺(tái)303上表面垂直。金屬料件305置于兩個(gè)墊塊307之間，并緊貼第一側(cè)邊311和與第二側(cè)邊313在同一墊塊上且與第二側(cè)邊313相對(duì)的側(cè)邊進(jìn)入軋制裝置中上軋輥301和下軋輥302之間，完成各道次軋制工藝。利用圖5中金屬帶軋制裝置軋制金屬料件305時(shí)，金屬料件305兩側(cè)緊貼兩側(cè)墊塊307的側(cè)邊，以保證金屬帶軋制過(guò)程中金屬料件305的延伸方向與軋輥進(jìn)料面309的夾角保持一致。其它與圖5中金屬帶軋制裝置對(duì)應(yīng)的金屬帶軋制方法同與圖2中金屬帶軋制裝置對(duì)應(yīng)的金屬帶軋制方法類似，在此不做贅述。綜上，本發(fā)明通過(guò)在現(xiàn)有金屬帶軋制裝置的送料平臺(tái)上設(shè)置兩側(cè)邊平直的墊塊， 并使金屬料件緊貼墊塊的側(cè)邊送入金屬帶軋制裝置的上下兩個(gè)軋輥之間，使金屬料件的延伸方向與軋輥進(jìn)料面的夾角在整個(gè)軋制過(guò)程中保持一致，進(jìn)而改善所生產(chǎn)金屬帶的直線度，減少金屬帶水平方向上的變形，提高金屬帶的成材率、降低浪費(fèi)。本發(fā)明雖然已以較佳實(shí)施例公開如上，但其并不是用來(lái)限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，都可以利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做出可能的變動(dòng)和修改，因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾，均屬于本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種金屬帶軋制裝置，包括對(duì)稱設(shè)置的上下兩個(gè)軋輥，上軋輥和下軋輥之間形成有縫隙；送料平臺(tái)，與所述上下軋輥之間縫隙相對(duì)，所述送料平臺(tái)上表面與下軋輥的最高位置處于同一平面，用以運(yùn)送所要軋制的金屬料件至所述上下兩個(gè)軋輥之間，其特征在于， 所述送料平臺(tái)上表面設(shè)置有兩側(cè)邊平直的墊塊，所述墊塊的延伸方向與軋輥輥軸方向不平行。
2.如權(quán)利要求1所述金屬帶軋制裝置，其特征在于，所述墊塊的材質(zhì)為鋼。
3.如權(quán)利要求1所述金屬帶軋制裝置，其特征在于，所述墊塊的長(zhǎng)度范圍為300至500毫米。
4.如權(quán)利要求1所述金屬帶軋制裝置，其特征在于，所述墊塊的厚度范圍為100至200毫米。
5.如權(quán)利要求1所述金屬帶軋制裝置，其特征在于，所述墊塊距軋輥進(jìn)料面的最小距離為10至100毫米。
6.如權(quán)利要求1所述金屬帶軋制裝置，其特征在于，所述墊塊的延伸方向與軋輥輥軸方向的夾角為90°。
7.如權(quán)利要求1所述金屬帶軋制裝置，其特征在于，所述墊塊的個(gè)數(shù)為一個(gè)或兩個(gè)。
8.如權(quán)利要求7所述金屬帶軋制裝置，其特征在于，當(dāng)所述墊塊的個(gè)數(shù)為兩個(gè)時(shí)，兩個(gè)墊塊相互平行。
9.一種利用權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述金屬帶軋制裝置的金屬帶軋制方法，包括提供金屬料件；將金屬料件緊貼金屬帶軋制裝置中墊塊的側(cè)邊送入上下兩個(gè)軋輥之間進(jìn)行多道次的軋制工藝，制成金屬帶。
10.如權(quán)利要求9所述金屬帶軋制方法，其特征在于，所述軋制工藝為冷軋。
11.如權(quán)利要求9所述金屬帶軋制方法，其特征在于，所述每一道次的軋制工藝具體包括調(diào)節(jié)上下兩個(gè)軋輥間的輥距，所述輥距為單次軋制目標(biāo)量； 將金屬料件緊貼送料平臺(tái)上墊塊的側(cè)邊送入上下兩個(gè)軋輥之間； 通過(guò)上下兩個(gè)軋輥的轉(zhuǎn)動(dòng)，將所述金屬料件進(jìn)行軋制，送出符合所述軋制目標(biāo)量的金屬料件或金屬帶。
12.如權(quán)利要求11所述金屬帶軋制方法，其特征在于，所述每一道次軋制工藝中的單次軋制目標(biāo)量相同或不同，金屬料件的總軋制目標(biāo)量為所述多道次軋制工藝中各道次軋制工藝的單次軋制目標(biāo)量之和。
13.如權(quán)利要求12所述金屬帶軋制方法，其特征在于，當(dāng)所述每一道次軋制工藝中的單次軋制目標(biāo)量不同時(shí)，多道次軋制工藝中的各單次軋制目標(biāo)量依次遞減。c
全文摘要
一種金屬帶軋制裝置，包括對(duì)稱設(shè)置的上下兩個(gè)軋輥，上軋輥和下軋輥之間形成有縫隙；送料平臺(tái)，與所述上下軋輥之間縫隙相對(duì)，所述送料平臺(tái)上表面與下軋輥的最高位置處于同一平面，用以運(yùn)送所要軋制的金屬料件至所述上下兩個(gè)軋輥之間，所述送料平臺(tái)上表面設(shè)置有兩側(cè)邊平直的墊塊，所述墊塊的延伸方向與軋輥輥軸方向不平行。本發(fā)明還提供一種金屬帶軋制方法，包括提供金屬料件；將金屬料件緊貼金屬帶軋制裝置中墊塊的側(cè)邊送入上下兩個(gè)軋輥之間進(jìn)行多道次的軋制工藝，制成金屬帶。本發(fā)明中金屬帶軋制裝置及軋制方法有效的改善了所生產(chǎn)金屬帶的直線度，減少金屬帶水平方向上的變形，提高金屬帶的成材率、降低浪費(fèi)。
文檔編號(hào)B21B39/16GK102172617SQ20111004222
公開日2011年9月7日 申請(qǐng)日期2011年2月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月22日
發(fā)明者姚力軍, 潘杰, 王學(xué)澤, 袁海軍 申請(qǐng)人:寧波江豐電子材料有限公司