技術(shù)總結(jié)
公開了一種接近式曝光裝置，包括：裝載臺；保持器，安裝到所述裝載臺上，用于保持所述掩模板；真空罩，設(shè)置在所述掩模板的上方，用于在所述掩模板的上方形成密封空間；以及泵送機構(gòu)，連接到所述真空罩，以從所述真空罩抽吸空氣，用于在所述掩模板的上方形成負(fù)壓狀態(tài)。本公開的接近式曝光裝置，通過泵送機構(gòu)在真空罩中形成負(fù)壓狀態(tài)，抵消重力對掩模板的作用，防止掩模板由于重力作用而撓曲變形所導(dǎo)致的曝光精度下降。

技術(shù)研發(fā)人員：蔣盛超;余世榮;孟慶勇
受保護的技術(shù)使用者：合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
文檔號碼：201710187193
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.23
技術(shù)公布日：2017.05.31