本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種曝光機(jī)。

背景技術(shù)：

在顯示技術(shù)領(lǐng)域，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)與有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板顯示器已經(jīng)逐步取代CRT顯示器，廣泛的應(yīng)用于液晶電視、手機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理、數(shù)字相機(jī)、計(jì)算機(jī)屏幕或筆記本電腦屏幕等。

在LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低溫多晶硅)LCD和AMOLED(Active-matrix Organic Light-Emitting Diode，有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管顯示器件)的制造過(guò)程中，會(huì)多次利用構(gòu)圖工藝。具體為，在涂有光刻膠的基板上方放置掩膜，然后利用曝光機(jī)對(duì)基板進(jìn)行曝光，具體的，曝光機(jī)通過(guò)開(kāi)啟超高壓水銀燈發(fā)出UV紫外光線，將掩膜上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的基板表面上，基于掩膜的圖案，光刻膠會(huì)有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用顯影液對(duì)光刻膠進(jìn)行顯影，即可去除光刻膠被曝光的部分，保留光刻膠未被曝光的部分(正性光刻膠)，或者去除光刻膠未被曝光的部分，保留光刻膠被曝光的部分(負(fù)性光刻膠)，從而使光刻膠形成所需的圖形。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1所示，曝光機(jī)包括用于承載基板50的曝光平臺(tái)(Plate Stage)11、設(shè)于曝光平臺(tái)兩側(cè)的導(dǎo)軌12、及設(shè)于所述曝光平臺(tái)11上方的照明系統(tǒng)13，及設(shè)于照明系統(tǒng)13與曝光平臺(tái)11之間的掩膜14，所述曝光平臺(tái)11與導(dǎo)軌12滑動(dòng)連接，所述曝光平臺(tái)11可沿所述導(dǎo)軌12往復(fù)移動(dòng)，曝光過(guò)程中，基板50放置于曝光機(jī)的曝光平臺(tái)50上；由于基板50上光刻膠在曝光過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生揮發(fā)，因此曝光室的頂棚上通常會(huì)設(shè)有過(guò)濾裝置，通過(guò)產(chǎn)生向上的氣流，將光刻膠的揮發(fā)物等雜質(zhì)進(jìn)行排出，但是頂棚上設(shè)置的過(guò)濾裝置的過(guò)濾效果并不明顯，如圖1所示的曝光機(jī)為投影式的曝光機(jī)，掩膜14下方還設(shè)有光學(xué)鏡組15，該照明系統(tǒng)13、掩膜14、及光學(xué)鏡組15共同構(gòu)成了投影系統(tǒng)18，對(duì)于投影式的曝光機(jī)，投影系統(tǒng)18產(chǎn)生包含圖案信息的出射光對(duì)其下方的基板50進(jìn)行曝光；那么該光刻膠的揮發(fā)物在向上排出的過(guò)程中很容易在光學(xué)鏡組15上凝結(jié)霧化，從而容易造成產(chǎn)品Mura，嚴(yán)重時(shí)造成極小線寬曝光異常。另外曝光平臺(tái)11在導(dǎo)軌12中作往復(fù)滑動(dòng)以搬運(yùn)基板50的過(guò)程中，曝光平臺(tái)11與導(dǎo)軌12之間也會(huì)產(chǎn)生摩擦，因而不可避免地會(huì)產(chǎn)生摩擦屑等雜質(zhì)顆粒(Particle)，同樣頂棚上設(shè)置的過(guò)濾裝置并不能夠有效將其排出，那么這些雜質(zhì)顆粒會(huì)影響曝光制程的環(huán)境，導(dǎo)致產(chǎn)品良率的下降。

因此，有必要提供一種曝光機(jī)，以解決上述問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種曝光機(jī)，設(shè)有過(guò)濾裝置，過(guò)濾效果良好，能夠?yàn)槠毓庵瞥烫峁┝己玫钠毓猸h(huán)境，進(jìn)而提高了產(chǎn)品良率。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種曝光機(jī)，包括用于承載基板的曝光平臺(tái)、設(shè)于曝光平臺(tái)兩側(cè)的平臺(tái)導(dǎo)軌、及設(shè)于所述平臺(tái)導(dǎo)軌上的偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置；

每一過(guò)濾裝置包括過(guò)濾腔體，所述過(guò)濾腔體面向曝光平臺(tái)的一側(cè)面上設(shè)有進(jìn)氣口，背向曝光平臺(tái)的一側(cè)面上設(shè)有排放口；

所述偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置對(duì)稱(chēng)分布于所述曝光平臺(tái)兩側(cè)；所述偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置通過(guò)在曝光平臺(tái)兩側(cè)形成負(fù)壓而產(chǎn)生向曝光平臺(tái)外的氣流，從而將廢物排出。

每一過(guò)濾裝置還包括設(shè)于過(guò)濾腔體內(nèi)的濾芯。

每一過(guò)濾裝置的排放口連接至真空負(fù)壓管路，從而在曝光平臺(tái)兩側(cè)形成負(fù)壓。

每一過(guò)濾裝置通過(guò)真空負(fù)壓管路與用于對(duì)廢物進(jìn)行集中處理的廠務(wù)相連通，從而通過(guò)真空負(fù)壓管路將廢物輸送到廠務(wù)。

每一過(guò)濾裝置中，所述進(jìn)氣口與排放口在過(guò)濾腔體的相對(duì)兩側(cè)面上前后交錯(cuò)設(shè)置，所述濾芯在前后方向上對(duì)應(yīng)位于所述進(jìn)氣口與排放口之間。

可選地，所述曝光機(jī)還包括設(shè)于所述曝光平臺(tái)上方的照明系統(tǒng)、及設(shè)于所述照明系統(tǒng)與曝光平臺(tái)之間的掩膜，所述照明系統(tǒng)用于提供一光束，所述掩膜具有圖案信息，所述掩膜用于產(chǎn)生包含該圖案信息的出射光對(duì)其下方的基板進(jìn)行曝光。

可選地，所述曝光機(jī)為投影式曝光機(jī)，還包括投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)包括設(shè)于所述曝光平臺(tái)上方的照明系統(tǒng)、設(shè)于所述照明系統(tǒng)與曝光平臺(tái)之間光學(xué)鏡組、及設(shè)于照明系統(tǒng)與光學(xué)鏡組之間的掩膜；所述照明系統(tǒng)用于提供一光束，所述掩膜具有圖案信息，所述投影系統(tǒng)用于產(chǎn)生包含該圖案信息的出射光對(duì)其下方的基板進(jìn)行曝光。

所述曝光平臺(tái)與所述平臺(tái)導(dǎo)軌滑動(dòng)連接，所述曝光平臺(tái)通過(guò)沿平臺(tái)導(dǎo)軌往復(fù)運(yùn)動(dòng)對(duì)基板進(jìn)行傳輸。

所述曝光平臺(tái)包括承載部、及設(shè)于承載部?jī)蓚?cè)并連接于平臺(tái)導(dǎo)軌側(cè)面的滑動(dòng)部。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供的曝光機(jī)，包括用于承載基板的曝光平臺(tái)、設(shè)于曝光平臺(tái)兩側(cè)的平臺(tái)導(dǎo)軌、及設(shè)于所述平臺(tái)導(dǎo)軌上的偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置；所述偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置通過(guò)在曝光平臺(tái)兩側(cè)形成負(fù)壓而產(chǎn)生向曝光平臺(tái)外的氣流以將廢物排出，與現(xiàn)有技術(shù)在曝光室頂棚設(shè)置過(guò)濾裝置而產(chǎn)生向上的氣流將廢物排出的方式相比，本發(fā)明的曝光機(jī)，通過(guò)在平臺(tái)導(dǎo)軌上設(shè)置過(guò)濾裝置，產(chǎn)生接近水平的氣流而將廢物排出，能夠有效避免光刻膠產(chǎn)生的揮發(fā)物在向上流動(dòng)過(guò)程中凝結(jié)在基板上方的光學(xué)器件上而降低曝光精度的問(wèn)題，且過(guò)濾裝置與曝光制程中的廢物發(fā)生源距離較近，能夠有效將光刻膠產(chǎn)生的揮發(fā)物、以及曝光平臺(tái)在平臺(tái)導(dǎo)軌滑動(dòng)過(guò)程中所產(chǎn)生的摩擦屑等雜質(zhì)顆粒隨該接近水平的氣流排出，過(guò)濾效果良好，能夠?yàn)槠毓庵瞥烫峁┝己玫钠毓猸h(huán)境，進(jìn)而提高了產(chǎn)品良率。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖，通過(guò)對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式詳細(xì)描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其他有益效果顯而易見(jiàn)。

附圖中，

圖1為現(xiàn)有一種曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明的曝光機(jī)為接觸式曝光機(jī)時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明的曝光機(jī)為投影式曝光機(jī)時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖及過(guò)濾裝置的俯視放大示意圖。

具體實(shí)施方式

為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。

請(qǐng)參閱圖2，本發(fā)明提供一種曝光機(jī)，包括用于承載基板500的曝光平臺(tái)110、設(shè)于曝光平臺(tái)110兩側(cè)的平臺(tái)導(dǎo)軌120、及設(shè)于所述平臺(tái)導(dǎo)軌120上的偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置160；

每一過(guò)濾裝置160包括過(guò)濾腔體161，所述過(guò)濾腔體161面向曝光平臺(tái)110的一側(cè)面上設(shè)有進(jìn)氣口162，背向曝光平臺(tái)110的一側(cè)面上設(shè)有排放口163；

所述偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置160對(duì)稱(chēng)分布于所述曝光平臺(tái)110兩側(cè)；所述偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置160通過(guò)在曝光平臺(tái)110兩側(cè)形成負(fù)壓而產(chǎn)生向曝光平臺(tái)110外的氣流，從而將廢物排出。

本發(fā)明的曝光機(jī)，與現(xiàn)有技術(shù)在曝光室頂棚設(shè)置過(guò)濾裝置而產(chǎn)生向上的氣流將廢物排出的方式相比，通過(guò)在平臺(tái)導(dǎo)軌120上設(shè)置過(guò)濾裝置160，產(chǎn)生接近水平的氣流而將廢物排出，能夠有效避免光刻膠產(chǎn)生的揮發(fā)物在向上流動(dòng)過(guò)程中凝結(jié)在基板500上方的光學(xué)器件上而降低曝光精度的問(wèn)題，且過(guò)濾裝置160與曝光制程中的廢物發(fā)生源距離較近，能夠有效將光刻膠產(chǎn)生的揮發(fā)物、以及曝光平臺(tái)110在平臺(tái)導(dǎo)軌120滑動(dòng)過(guò)程中所產(chǎn)生的摩擦屑等雜質(zhì)顆粒隨該接近水平的氣流排出，過(guò)濾效果良好，能夠?yàn)槠毓庵瞥烫峁┝己玫钠毓猸h(huán)境，進(jìn)而提高了產(chǎn)品良率。

具體地，在本實(shí)施例中，所述過(guò)濾裝置160的數(shù)量為兩個(gè)，該兩個(gè)過(guò)濾裝置160對(duì)稱(chēng)分布于所述曝光平臺(tái)110兩側(cè)。

具體地，每一過(guò)濾裝置160還包括設(shè)于過(guò)濾腔體161內(nèi)的濾芯164。

具體地，每一過(guò)濾裝置160的排放口163連接至真空負(fù)壓管路170，從而在曝光平臺(tái)110兩側(cè)形成負(fù)壓，進(jìn)而產(chǎn)生向基板500兩側(cè)流動(dòng)的氣流，通過(guò)過(guò)濾裝置160中的濾芯164，將光刻膠產(chǎn)生的揮發(fā)物及摩擦屑等顆粒過(guò)濾掉。

具體地，每一過(guò)濾裝置160通過(guò)真空負(fù)壓管路170與用于對(duì)廢物進(jìn)行集中處理的廠務(wù)相連通，從而通過(guò)真空負(fù)壓管路170將廢物輸送到廠務(wù)，即最終光刻膠產(chǎn)生的揮發(fā)物及摩擦屑等顆粒通過(guò)真空負(fù)壓管路170被排出到廠務(wù)。

具體地，每一過(guò)濾裝置160中，所述進(jìn)氣口162與排放口163在過(guò)濾腔體161的相對(duì)兩側(cè)面上前后交錯(cuò)設(shè)置，所述濾芯164在前后方向上對(duì)應(yīng)位于所述進(jìn)氣口162與排放口163之間。

具體地，所述曝光平臺(tái)110與所述平臺(tái)導(dǎo)軌120滑動(dòng)連接，所述曝光平臺(tái)110通過(guò)沿平臺(tái)導(dǎo)軌120往復(fù)運(yùn)動(dòng)對(duì)基板500進(jìn)行傳輸。

具體地，所述曝光平臺(tái)110包括承載部111、及設(shè)于承載部111兩側(cè)并連接于平臺(tái)導(dǎo)軌120側(cè)面的滑動(dòng)部112。

具體地，如圖2所示，本發(fā)明的曝光機(jī)可以為接觸式曝光機(jī)，還包括設(shè)于所述曝光平臺(tái)110上方的照明系統(tǒng)130、及設(shè)于所述照明系統(tǒng)130與曝光平臺(tái)110之間的掩膜140，所述照明系統(tǒng)130用于提供一光束，所述掩膜140具有圖案信息，所述掩膜140用于產(chǎn)生包含該圖案信息的出射光對(duì)其下方的基板500進(jìn)行曝光?；蛘?，

如圖3所示，本發(fā)明的曝光機(jī)也可以為投影式曝光機(jī)，還包括投影系統(tǒng)180，所述投影系統(tǒng)180包括設(shè)于所述曝光平臺(tái)110上方的照明系統(tǒng)130、設(shè)于所述照明系統(tǒng)130與曝光平臺(tái)110之間光學(xué)鏡組150、及設(shè)于照明系統(tǒng)130與光學(xué)鏡組150之間的掩膜140；所述照明系統(tǒng)130用于提供一光束，所述掩膜140具有圖案信息，所述投影系統(tǒng)180用于產(chǎn)生包含該圖案信息的出射光對(duì)其下方的基板500進(jìn)行曝光。

綜上所述，本發(fā)明提供的曝光機(jī)，包括用于承載基板的曝光平臺(tái)、設(shè)于曝光平臺(tái)兩側(cè)的平臺(tái)導(dǎo)軌、及設(shè)于所述平臺(tái)導(dǎo)軌上的偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置；所述偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置通過(guò)在曝光平臺(tái)兩側(cè)形成負(fù)壓而產(chǎn)生向曝光平臺(tái)外的氣流以將廢物排出，與現(xiàn)有技術(shù)在曝光室頂棚設(shè)置過(guò)濾裝置而產(chǎn)生向上的氣流將廢物排出的方式相比，本發(fā)明的曝光機(jī)，通過(guò)在平臺(tái)導(dǎo)軌上設(shè)置過(guò)濾裝置，產(chǎn)生接近水平的氣流而將廢物排出，能夠有效避免光刻膠產(chǎn)生的揮發(fā)物在向上流動(dòng)過(guò)程中凝結(jié)在基板上方的光學(xué)器件上而降低曝光精度的問(wèn)題，且過(guò)濾裝置與曝光制程中的廢物發(fā)生源距離較近，能夠有效將光刻膠產(chǎn)生的揮發(fā)物、以及曝光平臺(tái)在平臺(tái)導(dǎo)軌滑動(dòng)過(guò)程中所產(chǎn)生的摩擦屑等雜質(zhì)顆粒隨該接近水平的氣流排出，過(guò)濾效果良好，能夠?yàn)槠毓庵瞥烫峁┝己玫钠毓猸h(huán)境，進(jìn)而提高了產(chǎn)品良率。

以上所述，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明后附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。