本發(fā)明屬于激光加工技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及利用雙光束干涉制備具有復(fù)合周期的微米-納米跨尺度多級(jí)結(jié)構(gòu),通過(guò)在制備過(guò)程中改變雙光束干涉的曝光角來(lái)同時(shí)獲得復(fù)合周期和多級(jí)微納結(jié)構(gòu),以實(shí)現(xiàn)對(duì)結(jié)構(gòu)色仿生和表面浸潤(rùn)性調(diào)控的應(yīng)用。
技術(shù)背景
在微納加工領(lǐng)域,多級(jí)結(jié)構(gòu)一般指由不同尺度大小的微米、納米結(jié)構(gòu)復(fù)合而成的層級(jí)式結(jié)構(gòu)。多級(jí)結(jié)構(gòu)的功能性主要依賴于層級(jí)間的尺度差異,即不同級(jí)別的結(jié)構(gòu)之間,尺度相差越大功能性越突出;據(jù)此,此類結(jié)構(gòu)一般具有比表面積大、對(duì)光散射能力強(qiáng)、光場(chǎng)聚焦效果好等綜合優(yōu)勢(shì)。多級(jí)結(jié)構(gòu)在微納器件方面有廣泛且重要的應(yīng)用,包括太陽(yáng)能電池、浸潤(rùn)性響應(yīng)智能表面、納米光子器件等。
目前,多級(jí)結(jié)構(gòu)的制備通常采用“自下而上”微納加工方法,即按照結(jié)構(gòu)尺度由大到小進(jìn)行分層疊加式加工。而且,根據(jù)每一級(jí)的尺度和結(jié)構(gòu)的不同往往需要結(jié)合多種加工手段,包括光刻、電子束刻蝕、離子束刻蝕以及多種合成納米結(jié)構(gòu)(納米棒、納米金字塔、納米樹(shù)等)的化學(xué)自組裝等方法。上述制備多級(jí)結(jié)構(gòu)的現(xiàn)有技術(shù)普遍步驟繁瑣且產(chǎn)率低,而且對(duì)于層級(jí)間的尺度差異的調(diào)控很有限。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的方法。采用雙光束干涉技術(shù)進(jìn)行曝光,其主要原理是通過(guò)將光源激光進(jìn)行分束,并使分束后的兩束光在光刻膠表面相遇干涉并曝光,獲得的結(jié)構(gòu)具有衍射圖樣的周期性。這樣制備的結(jié)構(gòu)尺度與結(jié)構(gòu)周期一致,由兩束光的夾角(即曝光角)所決定,且具有很大的尺度調(diào)控范圍(微米到納米量級(jí))。本發(fā)明通過(guò)改變雙光束干涉加工中的曝光角對(duì)同一樣品進(jìn)行依次曝光,可獲得具有復(fù)合周期的微米-納米跨尺度多級(jí)結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)級(jí)別從大到小依次為第1、第2、……、第N級(jí),對(duì)應(yīng)每級(jí)結(jié)構(gòu)周期依次為Λ1、Λ2、……、ΛN(N為整數(shù),2≤N≤3)。
本發(fā)明通過(guò)如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的方法,具體步驟如下:
(1)、激光光路搭建與調(diào)試;
首先,依據(jù)半反半透鏡結(jié)合反射鏡的分光方式搭建雙光束干涉光路,使激光歷經(jīng)“擴(kuò)束-等光程分束-聚焦干涉”的光路,并確保沿光路激光經(jīng)過(guò)每個(gè)鏡子的中心位置;然后,對(duì)光路進(jìn)行調(diào)試,依次調(diào)節(jié)半反半透鏡和反射鏡的高度和與水平、豎直兩個(gè)方向的夾角,直至分束后的兩束光同時(shí)處于水平面內(nèi),且沿光屏法線左右對(duì)稱入射至光屏,即令兩束光入射角完全相等;
(2)、光刻膠準(zhǔn)備;
首先,將襯底依次置于丙酮、乙醇和去離子水中進(jìn)行超聲清洗,所用時(shí)間為10-30min,并用氮?dú)獯蹈纱?;然后,將光刻膠旋涂至襯底,所用轉(zhuǎn)速為1000-5000r/min,所用勻膠時(shí)間為10-20s,所得光刻膠平膜厚度為10-50μm;最后,將光刻膠平膜置于烘箱中進(jìn)行前烘,所用溫度為95-120℃,所用時(shí)間為30-120s;
(3)、變角度曝光制備多級(jí)結(jié)構(gòu);包括決定曝光角和按結(jié)構(gòu)級(jí)別依次曝光;
首先,依據(jù)所需多級(jí)結(jié)構(gòu)的第1級(jí)周期Λ1和半反半透鏡與光屏之間的距離Y,決定雙光束干涉加工的曝光角2θ1和對(duì)應(yīng)的兩個(gè)反光鏡M1和M2的位置坐標(biāo)X1和X2(以半反半透鏡中心為原點(diǎn)),并將兩反光鏡移動(dòng)至相應(yīng)位置;然后,用磁鐵塊將步驟(2)準(zhǔn)備的光刻膠平膜固定在光屏中央,并調(diào)節(jié)光屏前后位置使兩束光聚焦在光刻膠平膜上表面,且兩束光光點(diǎn)會(huì)聚在平膜樣品中心位置;隨后,調(diào)節(jié)光闌使兩束重疊的光斑擴(kuò)至最大,并將激光鎖模,對(duì)樣品進(jìn)行曝光;接著,依據(jù)具體的結(jié)構(gòu)將樣品在光屏上(豎直平面內(nèi))轉(zhuǎn)過(guò)一個(gè)角度φ,同時(shí)按照所需多級(jí)結(jié)構(gòu)的第2至第N級(jí)周期(Λ2-ΛN)分別決定對(duì)應(yīng)的曝光角和二反光鏡位置坐標(biāo),其中,N為整數(shù),2≤N≤3,并作相應(yīng)調(diào)節(jié),依次對(duì)樣品完成每級(jí)結(jié)構(gòu)的曝光;最后,將曝光完畢的光刻膠平膜置于光刻膠專用顯影液中進(jìn)行顯影,所用顯影時(shí)間為2s-5min,最終獲得所需具有復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步地,步驟(1)所述雙光束干涉光路的光源為連續(xù)激光或脈沖激光,波長(zhǎng)范圍為紫外波段的266-355nm。
進(jìn)一步地,步驟(2)所述的襯底為蓋玻片或硅片,所用光刻膠為BP212或SU-8紫外光刻膠。
進(jìn)一步地,步驟(3)所述變角度曝光是指按照多級(jí)結(jié)構(gòu)依次改變兩束光會(huì)聚在光屏上所夾的曝光角2θ并進(jìn)行曝光,曝光角范圍為2-80°;所用曝光角數(shù)值由多級(jí)結(jié)構(gòu)中的每級(jí)周期所決定,具體依據(jù)公式其中θ角為對(duì)稱入射到光屏上的兩束光與法線夾角,λ為所用激光波長(zhǎng),Λi為多級(jí)結(jié)構(gòu)中每一級(jí)的周期;光路中半反半透鏡到光屏的距離Y為40-60cm;改變曝光角大小所調(diào)節(jié)的兩個(gè)反射鏡位置,M1的位置坐標(biāo)X1為(-0.7)-(-50.3)cm,M2的位置坐標(biāo)X2為0.6-30.2cm;每次曝光所用樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角φ為0-90°,所用曝光時(shí)間為0.5-2s,所用激光功率為20-50mW/cm2;多級(jí)結(jié)構(gòu)周期為200nm-10μm,結(jié)構(gòu)深度為50nm-2μm。
本發(fā)明還提供了具有復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)在表面浸潤(rùn)性調(diào)節(jié)和仿生結(jié)構(gòu)色方面的應(yīng)用,即分別利用從微米到納米的跨尺度多級(jí)結(jié)構(gòu)和復(fù)合周期,來(lái)獲得超輸水表面和模仿昆蟲(chóng)翅膀的結(jié)構(gòu)色。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):
(1)、利用變角度曝光,僅通過(guò)雙光束干涉一種加工技術(shù)即得到多級(jí)結(jié)構(gòu),突破了現(xiàn)有技術(shù)必須結(jié)合多種方法制備多級(jí)結(jié)構(gòu)的局限性;
(2)、基于雙光束干涉的變角度曝光對(duì)結(jié)構(gòu)周期(尺度)具有很大的調(diào)控范圍(200nm-10μm),由此獲得的多級(jí)結(jié)構(gòu)具有跨尺度特性,即隨尺度隨結(jié)構(gòu)級(jí)別從微米跨越至納米,獲得了不同級(jí)別間較大的尺度差異;
(3)、從加工能力來(lái)說(shuō),基于雙光束干涉的變角度曝光制備多級(jí)結(jié)構(gòu)的方法還具有高擴(kuò)展性和產(chǎn)率高、效率高等優(yōu)勢(shì)。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明的一種利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的雙光束干涉光路示意圖;
圖2為本發(fā)明的一種利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的原理示意圖;
圖3為本發(fā)明的利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的掃描電鏡圖;
其中,圖3(a)為3μm和300nm復(fù)合周期的二級(jí)一維光柵結(jié)構(gòu)的掃描電鏡圖(樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為90°),圖3(b)為3μm和300nm復(fù)合周期的二級(jí)二維方塊陣列結(jié)構(gòu)(樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為90°和0°)的掃描電鏡圖,圖3(c)為3μm和300nm復(fù)合周期的二級(jí)二維方塊陣列結(jié)構(gòu)(樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為90°)的掃描電鏡圖掃描電鏡圖,圖3(d)為3μm和300nm復(fù)合周期的二級(jí)二維菱形陣列結(jié)構(gòu)的掃描電鏡圖(樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為45°),圖3(e)為3μm和300nm復(fù)合周期的二級(jí)一維光柵結(jié)構(gòu)的掃描電鏡圖(樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為45°)圖,圖3(f)為3μm和300nm復(fù)合周期的二級(jí)二維方塊陣列的掃描電鏡圖(樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為90°和60°)掃描電鏡圖,圖3(g)為3μm和300nm復(fù)合周期的二級(jí)二維三角陣列的掃描電鏡圖(樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為60°),圖3(h)為4μm、1μm和300nm復(fù)合周期的三級(jí)一維光柵結(jié)構(gòu)的掃描電鏡圖(樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為90°和0°),圖3(i)為4μm、1μm和300nm復(fù)合周期的三級(jí)一維光柵結(jié)構(gòu)的掃描電鏡圖(樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為0°和90°);
圖4為本發(fā)明的一種利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)應(yīng)用于表面浸潤(rùn)性調(diào)控的示意圖和對(duì)應(yīng)的液滴接觸角的顯微鏡照片;
其中,圖4(a)為平面襯底的浸潤(rùn)性示意圖和液滴接觸角的顯微鏡照片,圖4(b)為單一納米結(jié)構(gòu)的浸潤(rùn)性示意圖和對(duì)應(yīng)液滴接觸角的顯微鏡照片,圖4(c)為單一微米結(jié)構(gòu)的浸潤(rùn)性示意圖和對(duì)應(yīng)液滴接觸角的顯微鏡照片,圖4(d)為本發(fā)明的一種利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的浸潤(rùn)性示意圖和對(duì)應(yīng)液滴接觸角的顯微鏡照片。
圖5為本發(fā)明的一種利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)應(yīng)用于仿生結(jié)構(gòu)色的掃描電鏡圖;
其中,圖5(a)為本發(fā)明的一種利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的掃描電鏡圖,圖5(b)為真實(shí)蝴蝶翅膀表面結(jié)構(gòu)的掃描電鏡圖;
圖6為本發(fā)明的一種利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)應(yīng)用于仿生結(jié)構(gòu)色的示意圖;
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1
利用變角度曝光制備具有復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)。
基于雙光束干涉技術(shù)原理,曝光所得多級(jí)結(jié)構(gòu)的每級(jí)周期和尺度大小均決定于兩束激光的曝光角,具體數(shù)值由公式給定。因此,只要依據(jù)具體的多級(jí)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),即根據(jù)每一級(jí)結(jié)構(gòu)的尺度選定曝光角,對(duì)樣品依次進(jìn)行曝光即可獲得多級(jí)結(jié)構(gòu)。
利用變角度曝光加工具有復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的方法,具體步驟如下:
(1)、激光光路搭建與調(diào)試:所用激光光路為雙光束干涉光路,所用光源為波長(zhǎng)355nm的連續(xù)激光;首先,依據(jù)半反半透鏡結(jié)合反射鏡的分光方式搭建雙光束干涉光路,使激光歷經(jīng)“擴(kuò)束-等光程分束-聚焦干涉”的光路,并確保沿光路激光經(jīng)過(guò)每個(gè)鏡子的中心位置;然后,對(duì)光路進(jìn)行調(diào)試,依次調(diào)節(jié)半反半透鏡和反射鏡的高度和與水平、豎直兩個(gè)方向的夾角,直至分束后的兩束光同時(shí)處于水平面內(nèi),且沿光屏法線左右對(duì)稱入射至光屏,即令兩束光入射角完全相等。
(2)、光刻膠準(zhǔn)備:所用襯底為蓋玻片、硅片等襯底,所用光刻膠為BP212光刻膠;首先,將襯底依次置于丙酮、乙醇和去離子水中進(jìn)行超聲清洗,所用時(shí)間為10min,并用氮?dú)獯蹈纱?;然后,將光刻膠旋涂至襯底,所用轉(zhuǎn)速為1000r/min,所用勻膠時(shí)間為10s,所得光刻膠平膜厚度為50μm;最后,將光刻膠平膜置于烘箱中進(jìn)行前烘,所用溫度為95℃,所用時(shí)間為30s。
(3)、變角度曝光制備多級(jí)結(jié)構(gòu):包括決定曝光角和按結(jié)構(gòu)級(jí)別依次曝光;首先,依據(jù)所需多級(jí)結(jié)構(gòu)的第1級(jí)周期Λ1和半反半透鏡與光屏之間的距離Y=40cm,決定雙光束干涉加工的曝光角2θ1和對(duì)應(yīng)的兩個(gè)反光鏡M1和M2的位置坐標(biāo)X1和X2(以半反半透鏡中心為原點(diǎn)),并將兩反光鏡移動(dòng)至相應(yīng)位置;分別依據(jù)公式X1=-40tanθ1,X2=24tanθ1;然后,用磁鐵塊將步驟(2)準(zhǔn)備的光刻膠平膜固定在光屏中央,并調(diào)節(jié)光屏前后位置使兩束光聚焦在光刻膠平膜上表面,且兩束光光點(diǎn)會(huì)聚在平膜樣品中心位置;隨后,調(diào)節(jié)光闌使兩束重疊的光斑擴(kuò)至最大,并將激光鎖模,對(duì)樣品進(jìn)行曝光,曝光次數(shù)由所需結(jié)構(gòu)面積決定;接著,依據(jù)具體的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)將樣品在光屏上(豎直平面內(nèi))轉(zhuǎn)過(guò)一個(gè)角度φ,同時(shí)按照所需多級(jí)結(jié)構(gòu)的第2至第N級(jí)周期(Λ2-ΛN)分別決定對(duì)應(yīng)的曝光角和二反光鏡位置坐標(biāo),并作相應(yīng)調(diào)節(jié),依次對(duì)樣品完成每級(jí)結(jié)構(gòu)的曝光;最后,將曝光完畢的光刻膠平膜置于NaOH溶液(質(zhì)量濃度0.2%)中進(jìn)行顯影,所用顯影時(shí)間為5min,最終獲得所需具有復(fù)合周期的跨尺度多級(jí)結(jié)構(gòu)。其中,依據(jù)不同的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),所需多級(jí)結(jié)構(gòu)周期Λi為200nm-1μm-10μm,所用曝光角80-20.5-2°,所用兩反光鏡位置坐標(biāo)X1為(-0.7)-(-7.2)-(-50.3)cm,X2為0.6—4.8-30.2cm,所用曝光時(shí)間為0.5-1-2s,所用曝光功率為20-30-50mW/cm2,所用樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角φ為0-60-90°。
圖1為制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的所用的雙光束干涉光路示意圖。分光方式為半反半透鏡加三個(gè)反射鏡(M、M1和M2)形成等光程分光。制備多級(jí)結(jié)構(gòu)的核心是確定每級(jí)結(jié)構(gòu)的曝光角2θi,具體改變方式為依據(jù)光路中的三角函數(shù)關(guān)系改變反射鏡M1和M2的位置坐標(biāo)X1和X2。
圖2為利用變角度曝光制備復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)的原理示意圖。根據(jù)雙光束干涉制備的基本原理,所得結(jié)構(gòu)周期與曝光角反相關(guān);即小角度曝光得到大周期(尺度)結(jié)構(gòu),大角度曝光得到小周期(尺度)結(jié)構(gòu)。如此,用小角度和大角度對(duì)樣品依次曝光,即得到尺度差異很大的多級(jí)結(jié)構(gòu)。
圖3為利用變角度曝光制備的各種具有復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)。在曝光每級(jí)結(jié)構(gòu)時(shí)施加不同的樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角,即可獲得不同圖案化的三維多級(jí)微納結(jié)構(gòu);同時(shí)基于雙光束干涉的周期性,得到的周期結(jié)構(gòu)亦具有2-4個(gè)復(fù)合周期。
實(shí)施例2
利用變角度曝光制備具有復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)應(yīng)用于表面浸潤(rùn)性調(diào)控。
在疏水材料表面引入微納結(jié)構(gòu)可以提高材料表面的疏水性。實(shí)驗(yàn)證明,只引入單一微米或納米結(jié)構(gòu)對(duì)疏水性的提高很有限,往往達(dá)不到超疏水性(要求接觸角大于150°)。據(jù)此,本發(fā)明利用變角度曝光的制備方法很容易就獲得了具有超疏水性的多級(jí)微納結(jié)構(gòu)。
變角度曝光制備具有復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)應(yīng)用于表面浸潤(rùn)性調(diào)控,具體方法為:
(1)、激光光路搭建與調(diào)試:所用激光光路為雙光束干涉光路,所用光源為波長(zhǎng)355nm的脈沖激光;首先,依據(jù)半反半透鏡結(jié)合反射鏡的分光方式搭建雙光束干涉光路,使激光歷經(jīng)“擴(kuò)束-等光程分束-聚焦干涉”的光路,并確保沿光路激光經(jīng)過(guò)每個(gè)鏡子的中心位置;然后,對(duì)光路進(jìn)行調(diào)試,依次調(diào)節(jié)半反半透鏡和反射鏡的高度和與水平、豎直兩個(gè)方向的夾角,直至分束后的兩束光同時(shí)處于水平面內(nèi),且沿光屏法線左右對(duì)稱入射至光屏,即令兩束光入射角完全相等。
(2)、光刻膠準(zhǔn)備:所用襯底為蓋玻片、硅片等襯底,所用光刻膠為BP212光刻膠;首先,將襯底依次置于丙酮、乙醇和去離子水中進(jìn)行超聲清洗,所用時(shí)間為30min,并用氮?dú)獯蹈纱?;然后,將光刻膠旋涂至襯底,所用轉(zhuǎn)速為5000r/min,所用勻膠時(shí)間為20s,所得光刻膠平膜厚度為10μm;最后,將光刻膠平膜置于烘箱中進(jìn)行前烘,所用溫度為95℃,所用時(shí)間為30s。
(3)、變角度曝光制備多級(jí)結(jié)構(gòu);包括決定曝光角和按結(jié)構(gòu)級(jí)別依次曝光;首先,依據(jù)所需多級(jí)結(jié)構(gòu)的第1級(jí)周期Λ1=3μm和半反半透鏡與光屏之間的距離Y=60cm,決定雙光束干涉加工的曝光角2θ1=6.8°和對(duì)應(yīng)的兩個(gè)反光鏡M1和M2的位置坐標(biāo)X1=-3.6cm和X2=2.1cm,并將兩反光鏡移動(dòng)至相應(yīng)位置;分別依據(jù)公式X1=-60tanθ1,X2=36tanθ1;然后,用磁鐵塊將步驟(2)準(zhǔn)備的光刻膠平膜固定在光屏中央,并調(diào)節(jié)光屏前后位置使兩束光聚焦在光刻膠平膜上表面,且兩束光光點(diǎn)會(huì)聚在平膜樣品中心位置;隨后,調(diào)節(jié)光闌使兩束重疊的光斑擴(kuò)至最大,并將激光鎖模,對(duì)樣品進(jìn)行曝光,曝光次數(shù)由所需結(jié)構(gòu)面積決定;接著,依據(jù)所需多級(jí)結(jié)構(gòu)決定Λ2為300nm,所用曝光角為72.6°,決定對(duì)應(yīng)二反光鏡位置坐標(biāo)X1為-44.0cm,X2為29.4cm,并作相應(yīng)調(diào)節(jié),所用樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角分別為90°、90°和90°,所用曝光功率為50mW/cm2,所用曝光時(shí)間為0.5s;按照周期次序Λ1-Λ2-Λ2依次對(duì)樣品完成剩余結(jié)構(gòu)的曝光,即第一級(jí)微米二維陣列結(jié)構(gòu)以周期Λ1正交曝光2次,第二級(jí)納米二維陣列結(jié)構(gòu)以周期Λ2正交曝光2次;最后,將曝光完畢的光刻膠平膜置于NaOH溶液(質(zhì)量濃度0.2%)中進(jìn)行顯影,所用顯影時(shí)間為5min,最終獲得所需具有超疏水特性的二級(jí)微納結(jié)構(gòu)。
(4)、測(cè)量接觸角:選取平面襯底和兩種單一結(jié)構(gòu)的樣品(3μm周期的微米柱結(jié)構(gòu)和300nm周期的納米柱結(jié)構(gòu))作為對(duì)比樣品,在接觸角測(cè)量?jī)x上測(cè)量四片樣品的接觸角并拍攝顯微鏡照片。
圖4為利用變角度曝光制備超疏水多級(jí)微納結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖和接觸角測(cè)量圖。平面襯底和單一的微米或納米結(jié)構(gòu)都無(wú)法達(dá)到超疏水的表面浸潤(rùn)性,而利用變角度曝光得到的多級(jí)微納結(jié)構(gòu)的接觸角遠(yuǎn)大于以上三種材料表面,具有顯著的超疏水特性。
實(shí)施例3
利用變角度曝光制備具有復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)應(yīng)用于結(jié)構(gòu)色仿生。
蝴蝶和飛蛾的翅膀往往具有五彩斑斕的色彩,稱為結(jié)構(gòu)色。這種結(jié)構(gòu)色來(lái)自于這類昆蟲(chóng)翅膀表面復(fù)雜的周期性的表面微結(jié)構(gòu)對(duì)光的衍射。仿照蝴蝶翅膀的表面微結(jié)構(gòu),利用變角度曝光制備的復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)可以準(zhǔn)確模擬這種生物結(jié)構(gòu)色。
利用變角度曝光制備具有復(fù)合周期的多級(jí)結(jié)構(gòu)應(yīng)用于結(jié)構(gòu)色仿生,具體方法為:
(1)、激光光路搭建與調(diào)試:所用激光光路為雙光束干涉光路,所用光源為波長(zhǎng)266nm的脈沖激光;首先,依據(jù)半反半透鏡結(jié)合反射鏡的分光方式搭建雙光束干涉光路,使激光歷經(jīng)“擴(kuò)束-等光程分束-聚焦干涉”的光路,并確保沿光路激光經(jīng)過(guò)每個(gè)鏡子的中心位置;然后,對(duì)光路進(jìn)行調(diào)試,依次調(diào)節(jié)半反半透鏡和反射鏡的高度和與水平、豎直兩個(gè)方向的夾角,直至分束后的兩束光同時(shí)處于水平面內(nèi),且沿光屏法線左右對(duì)稱入射至光屏,即令兩束光入射角完全相等。
(2)、光刻膠準(zhǔn)備:所用襯底為蓋玻片、硅片等襯底,所用光刻膠為SU-8光刻膠;首先,將襯底依次置于丙酮、乙醇和去離子水中進(jìn)行超聲清洗,所用時(shí)間為30min,并用氮?dú)獯蹈纱?;然后,將光刻膠旋涂至襯底,所用轉(zhuǎn)速為5000r/min,所用勻膠時(shí)間為20s,所得光刻膠平膜厚度為50μm;最后,將光刻膠平膜置于烘箱中進(jìn)行前烘,所用溫度為95℃,所用時(shí)間為120s。
(3)、變角度曝光制備多級(jí)結(jié)構(gòu);包括決定曝光角和按結(jié)構(gòu)級(jí)別依次曝光;首先,依據(jù)所需多級(jí)結(jié)構(gòu)的第1級(jí)周期Λ1=3μm和半反半透鏡與光屏之間的距離Y=60cm,決定雙光束干涉加工的曝光角2θ1=5.1°和對(duì)應(yīng)的兩個(gè)反光鏡M1和M2的位置坐標(biāo)X1=-2.7cm和X2=1.6cm,并將兩反光鏡移動(dòng)至相應(yīng)位置;分別依據(jù)公式X1=-60tanθ1,X2=36tanθ1;然后,用磁鐵塊將步驟(2)準(zhǔn)備的光刻膠平膜固定在光屏中央,并調(diào)節(jié)光屏前后位置使兩束光聚焦在光刻膠平膜上表面,且兩束光光點(diǎn)會(huì)聚在平膜樣品中心位置;隨后,調(diào)節(jié)光闌使兩束重疊的光斑擴(kuò)至最大,并將激光鎖模,對(duì)樣品進(jìn)行曝光,曝光次數(shù)由所需結(jié)構(gòu)面積決定;接著,依據(jù)所需多級(jí)結(jié)構(gòu)決定Λ2為300nm,所用曝光角為52.6°,對(duì)應(yīng)二反光鏡位置坐標(biāo)X1和X2分別為-29.7和17.8cm,并作相應(yīng)調(diào)節(jié),所用樣品轉(zhuǎn)動(dòng)角為90°,所用曝光功率為20mW/cm2,所用曝光時(shí)間為2s,對(duì)樣品完成第二級(jí)結(jié)構(gòu)的曝光;最后,將曝光完畢的光刻膠平膜置于丙酮中進(jìn)行顯影,所用顯影時(shí)間為2s,最終獲得所需具有仿蝴蝶翅膀表面的二級(jí)微結(jié)構(gòu)。
(4)、結(jié)構(gòu)色模擬:將樣品利用光束整形成仿蝴蝶樣品并置于平面實(shí)驗(yàn)臺(tái)上,用白光燈泡作為光源照射樣品,將入射角從0°向90°進(jìn)行逐步調(diào)節(jié)(即從垂直入射到接近水平入射),從一側(cè)觀察蝴蝶翅膀的顏色變化并拍照比較。
圖5為利用變角度曝光制備的仿蝴蝶翅膀表面的微結(jié)構(gòu)與真實(shí)蝴蝶的比較。通過(guò)變角度曝光獲得的二級(jí)微結(jié)構(gòu)與蝴蝶翅膀的真實(shí)微結(jié)構(gòu)具有很高的相似度,是成功模擬結(jié)構(gòu)色的保障。
圖6是用白光燈泡從不同角度照射本發(fā)明制備的仿蝴蝶樣品來(lái)模擬結(jié)構(gòu)色的示意圖。當(dāng)白光入射到二級(jí)微結(jié)構(gòu)上之后形成衍射,白光中不同色光的衍射主峰對(duì)應(yīng)的入射角不同。因此,改變白光入射角時(shí),觀察者從一側(cè)觀察或拍照得到的仿蝴蝶樣品的翅膀顏色(某種色光主峰)即隨之發(fā)生變化;當(dāng)入射角從0°向90°遞增時(shí),觀察蝴蝶翅膀顏色的依次變化為“橙色-藍(lán)色-綠色-紫色”,即利用邊角曝光制備的二級(jí)微結(jié)構(gòu)成功地模擬了蝴蝶的結(jié)構(gòu)色。