技術(shù)編號：12459122
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于激光加工技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及利用雙光束干涉制備具有復(fù)合周期的微米－納米跨尺度多級結(jié)構(gòu)，通過在制備過程中改變雙光束干涉的曝光角來同時獲得復(fù)合周期和多級微納結(jié)構(gòu)，以實現(xiàn)對結(jié)構(gòu)色仿生和表面浸潤性調(diào)控的應(yīng)用。技術(shù)背景在微納加工領(lǐng)域，多級結(jié)構(gòu)一般指由不同尺度大小的微米、納米結(jié)構(gòu)復(fù)合而成的層級式結(jié)構(gòu)。多級結(jié)構(gòu)的功能性主要依賴于層級間的尺度差異，即不同級別的結(jié)構(gòu)之間，尺度相差越大功能性越突出；據(jù)此，此類結(jié)構(gòu)一般具有比表面積大、對光散射能力強、光場聚焦效果好等綜合優(yōu)勢。多級結(jié)構(gòu)在微納器件方面有廣泛且重要...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。