技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種曝光機(jī)，包括用于承載基板的曝光平臺(tái)、設(shè)于曝光平臺(tái)兩側(cè)的平臺(tái)導(dǎo)軌、及設(shè)于所述平臺(tái)導(dǎo)軌上的偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置；所述偶數(shù)個(gè)過(guò)濾裝置通過(guò)在曝光平臺(tái)兩側(cè)形成負(fù)壓而產(chǎn)生向曝光平臺(tái)外的氣流以將廢物排出，與現(xiàn)有技術(shù)在曝光室頂棚設(shè)置過(guò)濾裝置而產(chǎn)生向上的氣流將廢物排出的方式相比，本發(fā)明的曝光機(jī)，通過(guò)在平臺(tái)導(dǎo)軌上設(shè)置過(guò)濾裝置，產(chǎn)生接近水平的氣流而將廢物排出，能夠有效避免光刻膠產(chǎn)生的揮發(fā)物在向上流動(dòng)過(guò)程中凝結(jié)在基板上方的光學(xué)器件上而降低曝光精度的問(wèn)題，且過(guò)濾效果良好，能夠?yàn)槠毓庵瞥烫峁┝己玫钠毓猸h(huán)境，進(jìn)而提高了產(chǎn)品良率。

技術(shù)研發(fā)人員：王軒
受保護(hù)的技術(shù)使用者：武漢華星光電技術(shù)有限公司
文檔號(hào)碼：201710051084
技術(shù)研發(fā)日：2017.01.23
技術(shù)公布日：2017.05.31