本發(fā)明涉及一種自由曲面折反式光刻投影物鏡，可用于掃描-步進(jìn)式深紫外光刻系統(tǒng)中，屬于光學(xué)設(shè)計(jì)
技術(shù)領(lǐng)域：
。
背景技術(shù)：
：光刻是一種集成電路制造技術(shù)，光學(xué)光刻為主流技術(shù)，光刻投影物鏡是投影曝光裝置的核心部件。掩模板上的IC圖形經(jīng)光刻投影物鏡投影成像到涂膠硅片上。由于科學(xué)技術(shù)不斷提高，多種半導(dǎo)體芯片廣泛應(yīng)用于航空航天軍事領(lǐng)域和計(jì)算機(jī)等民用領(lǐng)域，因此對(duì)光刻技術(shù)要求越來(lái)越高。國(guó)外浸沒(méi)式光刻機(jī)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化，日本的Nikon公司，Canon公司，荷蘭ASML公司，德國(guó)CarlZeiss公司技術(shù)相對(duì)成熟，而我國(guó)基礎(chǔ)相對(duì)薄弱，同時(shí)，國(guó)際上限制中國(guó)進(jìn)口高端光刻機(jī)，因此，我國(guó)必須自主設(shè)計(jì)研制大數(shù)值孔徑(NA)浸沒(méi)式光刻機(jī)。光刻投影物鏡作為投影曝光裝置的核心部件其結(jié)構(gòu)經(jīng)歷了幾代的進(jìn)化。比如，最初的DUV光刻物鏡使用全球面折射式結(jié)構(gòu)，數(shù)值孔徑約0.7；隨著非球面應(yīng)用到DUV光刻物鏡中，其數(shù)值孔徑達(dá)到0.9，完成了DUV光刻物鏡第一次跳躍；采用像方液浸技術(shù)，數(shù)值孔徑達(dá)到了1.07，為第二次技術(shù)革新；最新的技術(shù)跳躍為使用反射鏡的折返式結(jié)構(gòu)，可以使數(shù)值孔徑達(dá)到1.2，1.3。隨著非球面和浸沒(méi)技術(shù)的應(yīng)用，及物鏡結(jié)構(gòu)的發(fā)展，DUV光刻物鏡的數(shù)值孔徑超過(guò)1，能夠?qū)崿F(xiàn)更高分辨力。然而，深紫外光刻物鏡元件數(shù)量多，影響系統(tǒng)的透過(guò)率，體積大，不利于機(jī)械調(diào)整。對(duì)于既定結(jié)構(gòu)和成像性能的光刻投影物鏡強(qiáng)行減少元件數(shù)量，會(huì)使鏡片邊緣對(duì)入射光線產(chǎn)生遮攔。為了解決這一困難，需要在物鏡中增加自由度，提高像差校正的能力，因此引入多自由度的非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱曲面，既能夠消除遮攔又能夠很好的校正像差。現(xiàn)有美國(guó)專利US8643824B2報(bào)道的自由曲面深紫外光刻物鏡設(shè)計(jì)，使用6面自由曲面反射鏡，6片全球面折射元件結(jié)構(gòu)使像方數(shù)值孔徑達(dá)到0.8，波像差為80mλ，雖然系統(tǒng)使用的元件數(shù)量少，但是其數(shù)值孔徑小，分辨力低，沒(méi)有滿足高成像性能要求?，F(xiàn)有美國(guó)專利US7869122B2的第三十六種結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)像方數(shù)值孔徑為1.2，可以實(shí)現(xiàn)高分辨力的設(shè)計(jì)要求，但是該結(jié)構(gòu)包含25個(gè)光學(xué)元件，玻璃材料總厚度為659mm，系統(tǒng)總長(zhǎng)1253mm，元件數(shù)量多，影響系統(tǒng)的透過(guò)率，體積大，不利于機(jī)械調(diào)整。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：為解決現(xiàn)有技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種自由曲面折反式光刻投影物鏡：包括第一透鏡組G1、第二反射鏡組G2、第三透鏡組G3以及孔徑光闌；上述各部件沿光束入射方向的順序關(guān)系為：第一透鏡組G1、第二反射鏡組G2、第三透鏡組G3，孔徑光闌位于第三透鏡組中，其中，所述第一透鏡組G1是復(fù)雜化雙高斯結(jié)構(gòu)，具有正光焦度，縮放倍率范圍為1.1～1.8，將物平面發(fā)出的遠(yuǎn)心光束經(jīng)過(guò)第一透鏡組G1成像到第一中間像，該第一中間像位于第二反射鏡組G2第一片反射鏡之前；第一透鏡組G1包含至少一片折射元件。所述第二反射鏡組G2包含至少二片反射元件，具有負(fù)光焦度，校正所述投影物鏡的場(chǎng)曲，縮放倍率范圍為0.6～1.4；第一中間像經(jīng)第二反射鏡組G2成像到第二中間像，該第二中間像位于第三透鏡組G3第一片透鏡之前。所述第三透鏡組G3是會(huì)聚透鏡結(jié)構(gòu)，具有正光焦度，包含至少一片折射元件，實(shí)現(xiàn)數(shù)值孔徑的增大及縮小成像，縮放倍率范圍為0.15～0.28；第二中間像經(jīng)第三透鏡組G3成像到像平面上。所述自由曲面折反式光刻投影物鏡，物面和像面之間的距離范圍為200mm～2500mm。優(yōu)選地，第一透鏡組G1包括第一鏡片L1正透鏡、第二鏡片L2彎月透鏡、第三鏡片L3正透鏡、第四鏡片L4正透鏡、第五鏡片L5負(fù)透鏡、第六鏡片L6正透鏡、第七鏡片L7負(fù)透鏡、第八鏡片L8正透鏡、第九鏡片L9正透鏡；其中，第一鏡片L1前表面為非球面，第二鏡片L2后表面為非球面，第三鏡片L3后表面為非球面，第八鏡片L8前表面為自由曲面，第九鏡片L9前表面為非球面。優(yōu)選地，第二反射鏡組G2包括第十鏡片L10凹面反射鏡、第十一鏡片L11凹面反射鏡；其中，第十鏡片L10和第十一鏡片L11都為自由曲面。優(yōu)選地，第三透鏡組G3包括第十二鏡片L12正透鏡、第十三鏡片L13負(fù)透鏡、第十四鏡片L14負(fù)透鏡、第十五鏡片L15負(fù)透鏡、第十六鏡片L16正透鏡、第十七鏡片L17正透鏡、第十八鏡片L18正透鏡、第十九鏡片L19正透鏡、第二十鏡片L20正透鏡、第二十一鏡片L21彎月透鏡、第二十二鏡片L22彎月透鏡、第二十三鏡片L23平凸透鏡；其中，第十三鏡片L13前表面為非球面，第十六鏡片L16后表面為自由曲面，第十七鏡片L17前表面為非球面，第十八鏡片L18前表面為非球面，第二十鏡片L20前表面為非球面，第二十一鏡片L21后表面為非球面。優(yōu)選地，孔徑光闌位于第十八鏡片L18后表面之后，所述孔徑光闌的通光孔徑范圍為130mm～150mm。優(yōu)選地，所述投影物鏡使用浸沒(méi)液體折射率范圍為1.4～1.65，位于第二十三鏡片L23后表面之后，厚度范圍為1mm～5mm。優(yōu)選地，所述投影物鏡的第二十三鏡片L23為平凸透鏡，平面朝向像面，鏡片最大口徑φ1，其中40mm<φ1<60mm。優(yōu)選地，所述投影物鏡使用至少一片高折射率材料,折射率范圍為1.4～1.99。優(yōu)選地，第二十三鏡片L23使用氟化鈣玻璃，其余透鏡均使用熔石英玻璃。優(yōu)選地，像方數(shù)值孔徑范圍為0.5～1.65。優(yōu)選地，縮放倍率范圍為0.1～1.0。優(yōu)選地，畸變范圍為0.1nm～3.0nm。有益效果：(1)、本發(fā)明通過(guò)對(duì)高數(shù)值孔徑折反式光刻投影物鏡進(jìn)行改進(jìn)，使用四面自由曲面替換四面非球面，增加了系統(tǒng)的自由度，消除了因元件數(shù)量減少導(dǎo)致校正像差能力不足而產(chǎn)生的中心遮攔問(wèn)題。(2)、本發(fā)明通過(guò)使用自由曲面折反式光刻投影物鏡減少了兩個(gè)折射元件，使玻璃透鏡總厚度減小為631mm，節(jié)約材料成本。(3)、本發(fā)明通過(guò)對(duì)23個(gè)光學(xué)元件設(shè)計(jì)參數(shù)進(jìn)行改進(jìn)，使得本自由曲面折反式光刻投影物鏡的像方數(shù)值孔徑達(dá)到1.2，提高了光刻分辨力；像方掃描方向視場(chǎng)寬度達(dá)到5.5mm，保證了硅片的產(chǎn)率。(4)、本發(fā)明通過(guò)對(duì)23個(gè)光學(xué)元件上的四面自由曲面的各項(xiàng)參數(shù)進(jìn)行改進(jìn)，使得獲取的光刻投影物鏡具有優(yōu)良的成像質(zhì)量，綜合單色波像差均方根(RMS)值小于0.0474λ，全視場(chǎng)畸變小于1nm。(5)、本發(fā)明獲得的光刻物鏡結(jié)構(gòu)緊湊,系統(tǒng)總長(zhǎng)僅為1232mm。附圖說(shuō)明圖1為本發(fā)明的自由曲面折反式光刻投影物鏡結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為減少光學(xué)元件后系統(tǒng)足跡圖。圖3為自由曲面折反式光刻投影物鏡像方離軸視場(chǎng)圖。圖4為增加自由曲面后系統(tǒng)足跡圖。圖5為本發(fā)明的無(wú)光路遮攔的物鏡在所有視場(chǎng)點(diǎn)的光學(xué)調(diào)制傳遞函數(shù)(MTF)圖，其中圖5(a)對(duì)應(yīng)圖3中視場(chǎng)點(diǎn)F1-F5的MTF，圖5(b)對(duì)應(yīng)圖3中視場(chǎng)點(diǎn)F6-F10的MTF，圖5(c)對(duì)應(yīng)圖3中視場(chǎng)點(diǎn)F11-F15的MTF，圖5(d)對(duì)應(yīng)圖3中視場(chǎng)點(diǎn)F16的MTF。圖6為本發(fā)明的物鏡在空間頻率為6630lp/mm(對(duì)應(yīng)75nm分辨力)時(shí)MTF隨焦深的變化圖，其中圖6(a)為圖3中視場(chǎng)點(diǎn)F1-F5的MTF隨焦深的變化圖，圖6(b)為圖3中視場(chǎng)點(diǎn)F6-F10的MTF隨焦深的變化圖，圖6(c)為圖3中視場(chǎng)點(diǎn)F11-F15的MTF隨焦深的變化圖，圖6(d)為圖3中視場(chǎng)點(diǎn)F16的MTF隨焦深的變化圖。圖7為本發(fā)明的具體實(shí)施方式中物鏡在全視場(chǎng)內(nèi)成像畸變的分布圖。圖8為本發(fā)明的具體實(shí)施方式中物鏡在全視場(chǎng)內(nèi)均方根波像差分布圖。具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖進(jìn)一步對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。如圖1所示，本發(fā)明的自由曲面折反式光刻投影物鏡無(wú)旋轉(zhuǎn)對(duì)稱軸，其物面即掩模所在平面，像面即硅片所在平面；包括第一透鏡組G1、第二反射鏡組G2、第三透鏡組G3以及孔徑光闌；上述各部件沿光束入射方向的順序關(guān)系為：第一透鏡組G1、第二反射鏡組G2、第三透鏡組G3，孔徑光闌位于第三透鏡組中，其中，所述第一透鏡組G1是復(fù)雜化雙高斯結(jié)構(gòu)，具有正光焦度，縮放倍率范圍為1.1～1.8，將物平面發(fā)出的遠(yuǎn)心光束經(jīng)過(guò)第一透鏡組G1成像到第一中間像，該第一中間像位于第二反射鏡組G2第一片反射鏡之前；第一透鏡組G1包含至少一片折射元件。所述第二反射鏡組G2包含至少二片反射元件，具有負(fù)光焦度，校正所述投影物鏡的場(chǎng)曲，縮放倍率范圍為0.8～1.2；第一中間像經(jīng)第二反射鏡組G2成像到第二中間像，該第二中間像位于第三透鏡組G3第一片透鏡之前。所述第三透鏡組G3是會(huì)聚透鏡結(jié)構(gòu)，具有正光焦度，包含至少一片折射元件，實(shí)現(xiàn)數(shù)值孔徑的增大及縮小成像，縮放倍率范圍為0.18～0.28；第二中間像經(jīng)第三透鏡組G3成像到像平面上。所述自由曲面折反式光刻投影物鏡，物面和像面之間的距離范圍為200mm～2500mm。優(yōu)選地，第一透鏡組G1包括第一鏡片L1正透鏡、第二鏡片L2彎月透鏡、第三鏡片L3正透鏡、第四鏡片L4正透鏡、第五鏡片L5負(fù)透鏡、第六鏡片L6正透鏡、第七鏡片L7負(fù)透鏡、第八鏡片L8正透鏡、第九鏡片L9正透鏡；其中，第一鏡片L1前表面為非球面，第二鏡片L2后表面為非球面，第三鏡片L3后表面為非球面，第八鏡片L8前表面為自由曲面，第九鏡片L9前表面為非球面。優(yōu)選地，第二反射鏡組G2包括第十鏡片L10凹面反射鏡、第十一鏡片L11凹面反射鏡；其中，第十鏡片L10和第十一鏡片L11都為自由曲面。優(yōu)選地，第三透鏡組G3包括第十二鏡片L12正透鏡、第十三鏡片L13負(fù)透鏡、第十四鏡片L14負(fù)透鏡、第十五鏡片L15負(fù)透鏡、第十六鏡片L16正透鏡、第十七鏡片L17正透鏡、第十八鏡片L18正透鏡、第十九鏡片L19正透鏡、第二十鏡片L20正透鏡、第二十一鏡片L21彎月透鏡、第二十二鏡片L22彎月透鏡、第二十三鏡片L23平凸透鏡；其中，第十三鏡片L13前表面為非球面，第十六鏡片L16后表面為自由曲面，第十七鏡片L17前表面為非球面，第十八鏡片L18前表面為非球面，第二十鏡片L20前表面為非球面，第二十一鏡片L21后表面為非球面。優(yōu)選地，孔徑光闌位于第十八鏡片L18后表面之后，所述孔徑光闌的通光孔徑范圍為130mm～150mm。優(yōu)選地，所述投影物鏡使用浸沒(méi)液體折射率范圍為1.4～1.65，位于第二十三鏡片L23后表面之后，厚度范圍為1mm～5mm。優(yōu)選地，所述投影物鏡的第二十三鏡片L23為平凸透鏡，平面朝向像面，鏡片最大口徑φ1，其中40mm<φ1<60mm。優(yōu)選地，所述投影物鏡使用至少一片高折射率材料,折射率范圍為1.4～1.99。優(yōu)選地，第二十三鏡片L23使用氟化鈣玻璃，其余透鏡均使用熔石英玻璃。優(yōu)選地，像方數(shù)值孔徑范圍為0.5～1.65。優(yōu)選地，縮放倍率范圍為0.1～1.0。優(yōu)選地，畸變范圍為0.1nm～3.0nm。工作流程本發(fā)明的自由曲面折反式光刻投影物鏡的工作流程為：照明系統(tǒng)發(fā)出的光線經(jīng)掩模透射后入射到第一透鏡組G1，經(jīng)第一透鏡組G1透射后各視場(chǎng)光線以1.1～1.8倍成像到第一中間像，使光線以較小的偏移耦合至后續(xù)鏡組。第一中間像經(jīng)第二反射鏡組G2以0.8～1.2倍成像到第二中間像，兩面反射鏡產(chǎn)生正場(chǎng)曲，可以平衡第一透鏡組G1和第三透鏡組G3產(chǎn)生的負(fù)場(chǎng)曲，兩面反射鏡場(chǎng)曲校正能力強(qiáng)，起到了平像場(chǎng)和擴(kuò)大像方視場(chǎng)的作用。第二中間像經(jīng)第三透鏡組G3以0.18～0.28倍的縮放倍率成像到像面，各視場(chǎng)主光線垂直于像面出射(像方遠(yuǎn)心)，第三透鏡組G3具有強(qiáng)正光焦度，使物鏡系統(tǒng)滿足1/4的縮放倍率，增大像方數(shù)值孔徑，保證系統(tǒng)遠(yuǎn)心度的作用，最終該自由曲面折反式光刻投影物鏡實(shí)現(xiàn)了數(shù)值孔徑1.2，1/4的物像縮放倍率成像到硅片上。現(xiàn)有非球面折返式光刻投影物鏡設(shè)計(jì)(美國(guó)專利US7869122B2)中的第三十六結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)包括25枚光學(xué)元件，其中，23枚透鏡，2枚反射鏡，玻璃透鏡總厚度為659mm，系統(tǒng)總長(zhǎng)1253mm，像方矩形曝光視場(chǎng)為26mm×5.5mm，物鏡采用13面非球面使像方數(shù)值孔徑達(dá)到1.2，經(jīng)過(guò)優(yōu)化物鏡波像差小于0.005λ，畸變小于1nm可以實(shí)現(xiàn)高分辨力要求。然而，該結(jié)構(gòu)中物鏡元件的數(shù)量多，影響系統(tǒng)的透過(guò)率，且體積大，不利于機(jī)械調(diào)整。因此在該投影物鏡中使用漸進(jìn)優(yōu)化法去除了第6和第14透射元件。去除后的結(jié)構(gòu)，由于元件數(shù)量減少，因此校正系統(tǒng)一階參數(shù)和像差的自由度減少，校正能力減弱。如圖2所示，為沿y軸7個(gè)視場(chǎng)點(diǎn)在第二十三鏡片L23后表面的足跡圖，第F1視場(chǎng)，第F4視場(chǎng)，第F7視場(chǎng)足跡圖用實(shí)線圓環(huán)表示；第F2視場(chǎng)，第F3視場(chǎng)，第F5視場(chǎng)，第F6視場(chǎng)足跡圖用虛線圓環(huán)表示；減少元件后，距離光軸最遠(yuǎn)的第F7視場(chǎng)圓環(huán)區(qū)域邊緣有缺口，產(chǎn)生遮攔；波像差和畸變值也有明顯惡化，波像差RMS值變?yōu)?.07λ，畸變變?yōu)?.7nm，不能滿足高性能成像要求?；谏鲜鲈颍景l(fā)明在不增加元件數(shù)量的前提下，通過(guò)替換非球面為自由曲面增加了系統(tǒng)的設(shè)計(jì)自由度，消除系統(tǒng)遮攔及提高成像質(zhì)量。替換為自由曲面的物鏡系統(tǒng)，由旋轉(zhuǎn)對(duì)稱式變?yōu)殛P(guān)于子午面對(duì)稱，視場(chǎng)采樣點(diǎn)改變，如圖3所示，在第一象限內(nèi)選擇16個(gè)視場(chǎng)點(diǎn)，第F1視場(chǎng)至第F16視場(chǎng)。如圖4所示，為16個(gè)視場(chǎng)點(diǎn)在第二十三鏡片L23后表面的足跡圖，從圖中可以看出各視場(chǎng)圓環(huán)區(qū)域完整，消除系統(tǒng)遮攔問(wèn)題。表1給出了本實(shí)施實(shí)例各鏡片的具體結(jié)構(gòu)參數(shù)，其中參數(shù)前的正、負(fù)號(hào)的定義原則分別為：曲率半徑的正、負(fù)號(hào)定義原則為：鏡片表面的曲率中心到其頂點(diǎn)的方向與光路方向同向時(shí)定義為負(fù)，反之為正。間隔的正、負(fù)號(hào)定義原則為：若當(dāng)前表面與參考軸的交點(diǎn)到后一表面與參考軸的交點(diǎn)的方向與光路方向同向?yàn)檎粗疄樨?fù)。其中，XYZ坐標(biāo)系的定義為：Z軸與所述參考軸平行且與光路方向同向，Y軸垂直于Z軸向上，X軸垂直Y軸與Z軸組成的平面。表1、投影物鏡實(shí)施例的結(jié)構(gòu)參數(shù)本發(fā)明通過(guò)將四面非球面替換為自由曲面，對(duì)物鏡結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行改進(jìn)，使得相較于美國(guó)專利US7869122B2中的深紫外光刻投影物鏡減少2枚光學(xué)元件，節(jié)約了材料成本，使物鏡結(jié)構(gòu)緊湊；消除了系統(tǒng)因元件數(shù)量減少而產(chǎn)生的遮攔問(wèn)題，保證了硅片的產(chǎn)率。本投影物鏡中包含九面非球面，下面根據(jù)非球面系數(shù)給定原則，給定各非球面的結(jié)構(gòu)參數(shù)：非球面方程可表示為：其中，r2＝x2+y2，z為非球面平行于z軸的矢高，c為非球面頂點(diǎn)曲率，k為圓錐系數(shù)，A，B，C，D，E，F(xiàn)分別是半徑r的4次，6次，8次，10次，12次，14次冪系數(shù)。表2、投影物鏡實(shí)施例的各非球面系數(shù)本投影物鏡中包含四面自由曲面，下面根據(jù)自由曲面系數(shù)給定原則，給定各自由曲面的結(jié)構(gòu)參數(shù)：本投影物鏡各自由曲面方程采用XY多項(xiàng)式形式，則自由曲面方程可表示為：其中，r2＝X2+Y2，z為自由曲面平行于Z軸的矢高，c為自由曲面頂點(diǎn)曲率，k為圓錐常數(shù)，Cj為多項(xiàng)式XmYn的系數(shù)，m＝0,1,2,…,10；n＝0,1,2,…,10；ZYX為光學(xué)表面局部坐標(biāo)系，Z為光學(xué)表面局部光軸，Y軸垂直Z軸向上，X軸垂直于Y軸和Z軸組成的平面。本設(shè)計(jì)中為了簡(jiǎn)化面形復(fù)雜度、提高優(yōu)化效率，自由曲面表達(dá)式中只取X偶次項(xiàng)，即m＝0,2,4,…,10；n＝1,2,3,…,10；這樣系統(tǒng)仍關(guān)于子午面對(duì)稱，表3給出了投影物鏡實(shí)施例的自由曲面系數(shù)。表3、投影物鏡實(shí)施例的自由曲面系數(shù)如圖3所示，本發(fā)明光刻投影物鏡的像方采用離軸矩形視場(chǎng)，像方中心視場(chǎng)高度為4.75mm，像方視場(chǎng)寬度為5.5mm，長(zhǎng)度為26mm，像面16個(gè)視場(chǎng)點(diǎn)(F1～F16)用于進(jìn)行像質(zhì)評(píng)價(jià)。1、光學(xué)調(diào)制傳遞函數(shù)MTF分辨力和焦深是光刻物鏡的重要技術(shù)指標(biāo)，光學(xué)調(diào)制傳遞函數(shù)是對(duì)物鏡分辨力和焦深的直接評(píng)價(jià)。如附圖5所示，4個(gè)圖中的每個(gè)圖分別對(duì)應(yīng)附圖3中的視場(chǎng)點(diǎn)，圖中顯示MTF已經(jīng)到達(dá)衍射極限。如附圖6所示，4個(gè)圖中的每個(gè)圖分別對(duì)應(yīng)附圖3中的視場(chǎng)點(diǎn)，圖中顯示，在70nm的焦深范圍，空間頻率為6630lp/mm(對(duì)應(yīng)75nm分辨力)的線條，系統(tǒng)在全視場(chǎng)范圍內(nèi)傳遞函數(shù)均可達(dá)到45％。2、畸變畸變是影響光刻性能的重要因素，非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的系統(tǒng)需要在整個(gè)視場(chǎng)內(nèi)校正畸變。如附圖7所示畸變?cè)谌晥?chǎng)內(nèi)的二維分布圖，像面上所有視場(chǎng)點(diǎn)的畸變均小于0.5nm。3、均方根波像差均方根波像差是評(píng)價(jià)一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)成像性能的重要指標(biāo)。圖8為均方根波像差在全視場(chǎng)范圍內(nèi)小于0.005λ。綜上所述，本發(fā)明的一種投影光刻物鏡，當(dāng)入射光的波長(zhǎng)為193nm時(shí)，則相關(guān)特性參數(shù)如表4所示：表4、投影物鏡實(shí)施例的特性參數(shù)表5、投影物鏡G1-G3鏡組縮放倍率絕對(duì)值鏡組名稱縮放倍率絕對(duì)值G1鏡組1.58G2鏡組0.83G3鏡組0.18系統(tǒng)總長(zhǎng)(物面到像面的距離)為1232.0014mm。物像方遠(yuǎn)心度均小于6mrad，保證了像面有微小軸向移動(dòng)的情況下物鏡的縮放倍率不變。數(shù)值孔徑達(dá)到了1.2，能滿足光刻系統(tǒng)高分辨力的需求。本發(fā)明的自由曲面折反式光刻投影物鏡像質(zhì)極高，在元件數(shù)量減少的情況下不產(chǎn)生遮攔，球差彗差等多種像差均得到很好的校正。雖然結(jié)合附圖描述了本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但是對(duì)于本
技術(shù)領(lǐng)域：
的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明的前提下，還可以做若干變形、替換和改進(jìn)，這些也視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3