技術(shù)編號：12459142
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種自由曲面折反式光刻投影物鏡，可用于掃描-步進式深紫外光刻系統(tǒng)中，屬于光學(xué)設(shè)計技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)光刻是一種集成電路制造技術(shù)，光學(xué)光刻為主流技術(shù)，光刻投影物鏡是投影曝光裝置的核心部件。掩模板上的IC圖形經(jīng)光刻投影物鏡投影成像到涂膠硅片上。由于科學(xué)技術(shù)不斷提高，多種半導(dǎo)體芯片廣泛應(yīng)用于航空航天軍事領(lǐng)域和計算機等民用領(lǐng)域，因此對光刻技術(shù)要求越來越高。國外浸沒式光刻機已經(jīng)實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化，日本的Nikon公司，Canon公司，荷蘭ASML公司，德國CarlZeiss公司技術(shù)相對成熟，而我國基礎(chǔ)相對...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。