技術編號：12459143
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本公開的實施例涉及曝光技術領域，具體地涉及接近式曝光裝置及其曝光方法，例如用于顯示器件、微電子器件、半導體器件等的制作中。背景技術接近式曝光機是光刻工藝中常見的一種類型的曝光機。與投影式曝光機相比，接近式曝光機成本低，稼動率(activation)高，光刻效果可以滿足大多種需求，在現代光刻工藝中應用最為廣泛。在接近式曝光機中，掩模板與涂覆有光刻膠的待曝光的玻璃基板以微小的間隙對置，間隙(Gap)尺寸例如為100um-400um，該間隙可以有效避免掩模板與待曝光基板直接接觸而引起的掩模板和待曝光基...
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