1.一種接近式曝光裝置，包括：
裝載臺(tái)；
保持器，安裝到所述裝載臺(tái)上，用于保持所述掩模板；
真空罩，設(shè)置在所述掩模板的上方，用于在所述掩模板的上方形成密封空間；以及
泵送機(jī)構(gòu)機(jī)構(gòu)，連接到所述真空罩，以從所述真空罩抽吸空氣，用于在所述掩模板的上方形成負(fù)壓狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近式曝光裝置，其中，所述真空罩包括至少一個(gè)空氣導(dǎo)入孔，所述至少一個(gè)空氣導(dǎo)入孔用于向所述真空罩中引入外部空氣。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接近式曝光裝置，其中，所述空氣導(dǎo)入孔上安裝有調(diào)節(jié)閥門，所述調(diào)節(jié)閥門構(gòu)造成調(diào)節(jié)通過所述空氣導(dǎo)入孔流入的外部空氣的流量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近式曝光裝置，其中，所述真空罩固定在所述裝載臺(tái)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近式曝光裝置，其中，所述裝載臺(tái)的下方設(shè)置有密封結(jié)構(gòu)，用于在裝載臺(tái)和掩模板之間形成密封狀態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的接近式曝光裝置，其中，所述接近式曝光裝置還包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，用于驅(qū)動(dòng)所述保持器上下移動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的接近式曝光裝置，其中，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為液壓式驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括：
活塞桿，所述活塞桿連接至所述保持器，以驅(qū)動(dòng)所述保持器上下移動(dòng)；
氣缸體，容納所述活塞桿和液壓油；和
電液伺服閥，所述電液伺服閥通過第一液壓油管道和第二液壓油管道連接到汽缸體，并通過控制液壓油通過第一液壓油管道和第二液壓油管道進(jìn)出汽缸體來控制所述活塞桿上下移動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的接近式曝光裝置，其中，所述接近式曝光裝置還包括控制單元，所述控制單元用于控制所述泵送機(jī)構(gòu)的泵送操作。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的接近式曝光裝置，其中，所述接近式曝光裝置還包括控制單元，所述控制單元用于控制所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的操作。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的接近式曝光裝置，其中，所述接近式曝光裝置還包括控制單元，所述控制單元用于控制所述調(diào)節(jié)閥門的開口度。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的接近式曝光裝置，其中，所述接近式曝光裝置還包括負(fù)壓測量裝置，用于測量所述真空罩內(nèi)的負(fù)壓的大小，并將測量結(jié)果發(fā)送給控制單元；和
所述控制單元根據(jù)所述負(fù)壓測量裝置的測量結(jié)果控制所述泵送機(jī)構(gòu)的泵送操作。
12.一種使用權(quán)利要求1的接近式曝光裝置的曝光方法，包括：
將掩模板裝載在保持器上，并與待曝光基板對(duì)置；
利用泵送機(jī)構(gòu)抽吸設(shè)置在所述掩模板的上方的真空罩中的空氣，以在所述掩模板的上方形成負(fù)壓狀態(tài)；以及
通過所述掩模板對(duì)待曝光基板照射光線，以對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行曝光。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的接近式曝光裝置的曝光方法，其中，將掩模板裝載在保持器上包括：
遠(yuǎn)離裝載臺(tái)移動(dòng)所述保持器，以在所述保持器上方留出裝載所述掩模板的空間；以及
利用所述空間將掩模板裝載到保持器上。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的接近式曝光裝置的曝光方法，還包括：
在曝光完成后從所述保持器卸載所述掩模板，所述卸載包括：
對(duì)真空罩下方的密封空間去真空；
遠(yuǎn)離裝載臺(tái)移動(dòng)所述保持器，以在所述保持器上方留出卸載掩模板的空間；以及
利用所述空間從所述保持器卸載所述掩模板。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的接近式曝光裝置的曝光方法，還包括：
在曝光的過程中，測量所述真空罩中的負(fù)壓的大小，并根據(jù)測量結(jié)果調(diào)節(jié)所述真空罩中的負(fù)壓至目標(biāo)壓力。