專利名稱：一種濾光片翻刻工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于顯示器件用濾光片制造領(lǐng)域，涉及一種用于對(duì)母板濾光片進(jìn)行 翻印刻錄制造出新濾光片工藝。
背景技術(shù)：
彩色顯像管制造過(guò)程中有一道曝光工序，該工序通過(guò)一系列曝光刻蝕的方 法在顯像管的屏內(nèi)曲面上制造出均勻排列的石墨黑底條紋。而石墨黑底排列的 好壞會(huì)直接影響彩色顯像管圖像顯示的質(zhì)量及對(duì)比度高低。所以要保證此工序 倉(cāng)搞質(zhì)量完成o
曝光工序所用的設(shè)備中有兩個(gè)比較重要的部件，一是透鏡，二是濾光片。 透鏡的作用是使光線模擬電子束軌跡，進(jìn)行光路效正。濾光片的作用是通， 光線的透光率調(diào)整形成感光度不同的黑底條紋，濾光片對(duì)石墨黑底涂敷的好壞 及整管品味有很重要的影響。
濾光片長(zhǎng)時(shí)間使用，其表面上的條紋會(huì)隨時(shí)間的增加出現(xiàn)磨損脫落的現(xiàn)象, 對(duì)石墨黑底涂敷會(huì)有不良影響。本發(fā)明主要用于母板濾光片進(jìn)行翻印亥緣制造 出新濾光片。新濾光片與原濾光片幾乎是一樣的，可以用它來(lái)代替原來(lái)的濾光 片。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)不足，提供一種濾光片翻刻工藝，該 工藝操作方便，成本低。
本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的-
首先對(duì)濾光片玻璃基板進(jìn)行清洗清洗時(shí)先用5-10毫升洗滌劑洗滌，然后 用5-10克氧化鍶對(duì)玻璃表面進(jìn)行拋光處理，接著再用5-10毫升洗滌劑進(jìn)行清 洗，最后用大量去離子水沖洗干凈后用0.2mp高壓空氣吹干；
對(duì)玻璃基板進(jìn)行感光膠注入:注入感光膠時(shí)采取濕膜法注入,涂感光膠前， 先對(duì)要涂膜的面噴注28-32攝氏度的純水，同時(shí)基板沿中心旋轉(zhuǎn)在表面形成一 層均勻的水膜，在表面溫度到26-28攝氏度時(shí)進(jìn)行感光膠注入，注入量為45-55 毫升，注入時(shí)基板與水平面成160-170度角，同時(shí)沿玻璃基板中心旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速 為175-185轉(zhuǎn)/分，待感光膠注入并均勻涂敷在玻璃基板表面后，進(jìn)行干燥，干 燥溫度為75±5攝氏度，干燥完畢后表面溫度控制在68±2攝氏度；
3. 曝光及顯影過(guò)程涂完感光膠的玻璃基板要進(jìn)行曝光，采用膜對(duì)膜的方 法進(jìn)行曝光，即母板濾光片有膜的一面向上，新濾光片基板有膜面向下放置在 母板濾光片之上，兩個(gè)濾光片的膜面是貼在一起的，曝光表面溫度30土2攝氏 度曝光照度0.850土0.050咖/cif;曝光時(shí)間為3土0.5秒，曝光結(jié)束后被光 照到部分硬化附著在玻璃基板表面，然后進(jìn)行顯影處理，以0.18-0.22MP的壓 力對(duì)玻璃基板有膜面噴射顯影水進(jìn)行清洗，沒(méi)有被光照到的感光膠部分就會(huì)被 洗掉，顯影水的成分為42±2攝氏度的純水，同樣顯影完成后進(jìn)行干燥，驢 控制在50土3攝氏度；
4. 石墨涂敷，刻蝕及顯影過(guò)程完成感光膠顯影的玻璃基板進(jìn)行石墨涂敷, 玻璃基板水平放置，有膜面向下，石墨液體自下而上噴出注入膜面，同時(shí)玻璃 基板沿中心軸旋轉(zhuǎn)使石墨均勻擴(kuò)散，石墨注入時(shí)表面溫度在43攝氏度，石墨涂 敷完畢后進(jìn)行干燥，鵬范圍為63土2攝氏度，當(dāng)石墨液體凝固后停止干燥， 表面旨控制在58攝氏度,將石墨涂敷干燥完畢后的基板玻璃立即放入刻蝕液
中進(jìn)行刻蝕，將硬化附著在玻璃基板表面的感光膠腐蝕掉，連帶感光膠上涂敷
的石墨也會(huì)跟著脫落，而玻璃表面直接涂敷的石墨則會(huì)留下，刻蝕時(shí)間在75 秒 90秒之間，刻蝕液采用體積比l: 1的次氯酸鈉和水配制而成，刻蝕完畢 后用壓力1. Omp的顯影水進(jìn)行清洗將刻蝕完后殘留物質(zhì)沖洗掉；
最后在進(jìn)行一次干燥50-60攝氏度使玻璃基板上的石墨條紋完全成形,至 此濾光片的翻刻制作完全結(jié)束。
本發(fā)明感光膠注入時(shí)采用濕膜法注入，以及本操作的相關(guān)工藝條件使得感 光膠的涂敷能夠更加均勻，制造產(chǎn)品質(zhì)量得到提升。
本發(fā)明曝光時(shí)采取膜對(duì)膜的曝光方式，以及操作時(shí)用到的相關(guān)工藝條件， 且曝光時(shí)不采用透鏡進(jìn)行光路校正，工藝簡(jiǎn)單，降低生產(chǎn)成本。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施例l:
1、對(duì)濾光片玻璃,進(jìn)行清洗玻璃基板是一塊厚度為1.3mm的光學(xué)玻 璃，進(jìn)行翻刻前先要對(duì)其進(jìn)行清洗，清洗時(shí)先用洗滌劑洗滌，清洗時(shí)先用5毫 升洗滌劑洗滌，然后用5克氧化鍶對(duì)玻璃表面進(jìn)行拋光處理，接著再用5毫升 洗滌劑進(jìn)行清洗，最后用大量去離子水沖洗干凈后用0.2mp高壓空氣吹干；
2.對(duì)玻璃基板進(jìn)行感光膠注入。注入感光膠時(shí)采取濕膜法注入，涂感光膠 前，先對(duì)要涂膜的面噴注30攝氏度的純水，同時(shí)基板沿中心旋轉(zhuǎn)在表面形成一 層均勻的水膜。在表面溫度到27攝氏度時(shí)進(jìn)行感光膠注入，根據(jù)所需濾光片尺 寸不同，注入量也不同。注入時(shí)基板與水平面成165度角，同時(shí)沿玻璃基板中 心旋轉(zhuǎn)，魏為180轉(zhuǎn)/分。由于基板表面已有一層均勻水膜，所以感光膠會(huì)順 著水膜進(jìn)行均勻擴(kuò)散，最終形成的感光膜也會(huì)比較均勻。待感光膠注入并均勻 涂敷在玻璃基板表面后，進(jìn)行干燥，干燥時(shí)溫度提升不要太快，避免基板玻璃
發(fā)生炸裂。干燥完畢后表面,控制在68攝氏度左右。
3. 曝光及顯影過(guò)程。涂完感光膠的玻璃基板要進(jìn)行曝光，光線通過(guò)母板濾 光片上石墨黑底條紋的阻擋射到新濾光片玻璃基板上與感光膠發(fā)生反應(yīng)形成和 母板濾光片上石墨條紋一樣的感光膠條紋。為了減少因?yàn)楣饴吩黾佣霈F(xiàn)的誤 差，采用鵬膜的方法進(jìn)行曝光，即母板濾光片有膜的一面向上，新濾光片基 板有膜面向下放置在母板濾光片之上。兩個(gè)濾光片的膜面是貼在一起的。曝光 時(shí)工藝^f牛為1.曝光表面鵬30攝氏度2.曝光照度0.850iw/cm2; 3.曝光時(shí) 間為3秒。曝光結(jié)束后被光照到部分硬化附著在玻璃皿表面，然后進(jìn)行顯影 處理，以0.2MP的壓力對(duì)玻璃基板有膜面噴射顯影水進(jìn)行清洗，沒(méi)有被光照到 的感光膠部分就會(huì)被洗掉。顯影水的成分為42攝氏度的純水。同樣顯影完成后 進(jìn)行干燥，溫度控制在50攝氏度左右。
4. 石墨涂敷，刻,顯影過(guò)程。完成感光膠顯影的玻璃基板進(jìn)行石墨涂敷, 玻璃基板水平放置，有膜面向下，石墨液體自下而上噴出注入膜面，同時(shí)玻璃 基板沿中心軸旋轉(zhuǎn)使石墨均勻擴(kuò)散，石墨注入時(shí)表面溫度在43攝氏度。石墨涂 敷完畢后進(jìn)行干燥，當(dāng)石墨液體凝固后停止干燥，表面溫度控制在58攝氏度。 將石墨涂敷干燥完畢后的基板玻璃立即放入刻蝕液中進(jìn)行刻蝕，將硬化附著在 玻璃基板表面的感光膠腐蝕掉，連帶感光膠上涂敷的石墨也會(huì)跟著脫落。而玻 璃表面直接涂敷的石墨則會(huì)留下。刻蝕時(shí)間在75秒之間?？涛g液采用體積比1: 1的次氯酸鈉和水配制而成?？涛g時(shí)間不夠則感光膠不會(huì)被全部刻蝕掉，而時(shí) 間過(guò)長(zhǎng)則會(huì)將玻璃皿表面的石墨也會(huì)刻蝕掉?？涛g完畢后用壓力1. Omp的顯 影水進(jìn)行清洗將刻蝕完后殘留物質(zhì)沖洗掉。最后在進(jìn)行一次干燥使玻璃基板上 的石墨條紋完全成形，至此濾光片的翻刻制作完全結(jié)束。
實(shí)施例2:
l.對(duì)濾光片玻璃基概行清洗:玻璃繊是一塊厚度為1.6mm的光學(xué)玻璃， 進(jìn)行翻刻前先要對(duì)其進(jìn)行清洗，清洗時(shí)先用10毫升洗滌劑洗滌，然后用10克 氧化鍶對(duì)玻璃表面進(jìn)行拋光處理，接著再用10毫升洗滌劑進(jìn)行清洗，最后用大 量去離子7JC沖洗千凈后用0.2mp高壓空氣吹干；
2、對(duì)玻璃基板進(jìn)行感光膠注入注入感光膠時(shí)采取濕膜法注入，涂感光 膠前，先對(duì)要涂膜的面噴注32攝氏度的純水，同時(shí)基板沿中心旋轉(zhuǎn)在表面形成 —層均勻的水膜，在表面溫度到28攝氏度時(shí)進(jìn)行感光膠注入，注入量為55毫 升，注入時(shí)基板與水平面成170度角，同時(shí)沿鵬基板中心旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速為185 轉(zhuǎn)/分，待感光膠注入并均勻涂敷在玻璃基板表面后，進(jìn)行干燥，干燥溫度為 75攝氏度，干燥完畢后表面溫度控制在70攝氏度；
3. 曝光及顯影過(guò)程涂完感光膠的玻璃基板要進(jìn)行曝光，采用膜對(duì)膜的方 法進(jìn)行曝光，即母板濾光片有膜的一面向上，新濾光片基板有膜面向下放置在 母板濾光片之上，兩個(gè)濾光片的膜面是貼在一起的，曝光表面溫度31攝氏度 曝光照度0.850±0.050鵬/cm2;曝光時(shí)間為3±0.5秒，曝光結(jié)束后被光照到 部分硬化附著在玻璃基板表面，然后進(jìn)行顯影處理，以0.20MP的壓力對(duì)玻璃基 板有膜面噴射顯影水進(jìn)行清洗，沒(méi)有被光照到的感光膠部分就會(huì)被洗掉，顯影 水的成分為42攝氏度的純7jC,同樣顯影完成后進(jìn)行干燥，MJS控制在52攝氏
度；
4. 石墨涂敷，刻販顯影過(guò)程完成感光膠顯影的玻璃基板進(jìn)行石墨涂敷， 玻璃基板水平放置，有膜面向下，石墨液體自下而上噴出注入膜面，同時(shí)玻璃 繊沿中心軸旋轉(zhuǎn)使石墨均勻擴(kuò)散，石墨注入時(shí)表面溫度在43攝氏度，石墨涂 敷完畢后進(jìn)行千燥，溫度范圍為65攝氏度，當(dāng)石墨液體凝固后停止干燥，表面 溫度控制在58攝氏度,將石墨涂敷千燥完畢后的基板玻璃立即放入刻蝕液中進(jìn)
行刻蝕，將硬化附著在玻璃基板表面的感光膠腐蝕掉，連帶感光膠上涂敷的石
墨也會(huì)跟著脫落,而玻璃表面直接涂敷的石墨則會(huì)留下，刻蝕時(shí)間在90秒之間， 刻蝕皿用體積比1: 1的次氯酸鈉和水配制而成，刻蝕完畢后用壓力l.Omp 的顯影水進(jìn)行清洗將刻蝕完后殘留物質(zhì)沖洗掉；
最后在進(jìn)行一次干燥55攝氏度使玻璃基板上的石墨條紋完全成形,至此濾 光片的翻刻制作完全結(jié)束。
權(quán)利要求
1、一種濾光片翻刻工藝，其特征在于，步驟如下1)對(duì)濾光片玻璃基板進(jìn)行清洗清洗時(shí)先用5-10毫升洗滌劑洗滌，然后用5-10克氧化鍶對(duì)玻璃表面進(jìn)行拋光處理，接著再用5-10毫升洗滌劑進(jìn)行清洗，最后用大量去離子水沖洗干凈后用0.2mp高壓空氣吹干；2)對(duì)玻璃基板進(jìn)行感光膠注入注入感光膠時(shí)采取濕膜法注入，涂感光膠前，先對(duì)要涂膜的面噴注28-32攝氏度的純水，同時(shí)基板沿中心旋轉(zhuǎn)在表面形成一層均勻的水膜，在表面溫度到26-28攝氏度時(shí)進(jìn)行感光膠注入，注入量為45-55毫升，注入時(shí)基板與水平面成160-170度角，同時(shí)沿玻璃基板中心旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速為175-185轉(zhuǎn)/分，待感光膠注入并均勻涂敷在玻璃基板表面后，進(jìn)行干燥，干燥溫度為75±5攝氏度，干燥完畢后表面溫度控制在68±2攝氏度；3)曝光及顯影過(guò)程涂完感光膠的玻璃基板要進(jìn)行曝光，采用膜對(duì)膜的方法進(jìn)行曝光，即母板濾光片有膜的一面向上，新濾光片基板有膜面向下放置在母板濾光片之上，兩個(gè)濾光片的膜面是貼在一起的，曝光表面溫度30±2攝氏度曝光照度0.850±0.050mw/cm2；曝光時(shí)間為3±0.5秒，曝光結(jié)束后被光照到部分硬化附著在玻璃基板表面，然后進(jìn)行顯影處理，以0.18-0.22MP的壓力對(duì)玻璃基板有膜面噴射顯影水進(jìn)行清洗，沒(méi)有被光照到的感光膠部分就會(huì)被洗掉，顯影水的成分為42±2攝氏度的純水，同樣顯影完成后進(jìn)行干燥，溫度控制在50±3攝氏度；4)石墨涂敷，刻蝕及顯影過(guò)程完成感光膠顯影的玻璃基板進(jìn)行石墨涂敷，玻璃基板水平放置，有膜面向下，石墨液體自下而上噴出注入膜面，同時(shí)玻璃基板沿中心軸旋轉(zhuǎn)使石墨均勻擴(kuò)散，石墨注入時(shí)表面溫度在43攝氏度，石墨涂敷完畢后進(jìn)行干燥，溫度范圍為63±2攝氏度，當(dāng)石墨液體凝固后停止干燥，表面溫度控制在58攝氏度，將石墨涂敷干燥完畢后的基板玻璃立即放入刻蝕液中進(jìn)行刻蝕，將硬化附著在玻璃基板表面的感光膠腐蝕掉，連帶感光膠上涂敷的石墨也會(huì)跟著脫落，而玻璃表面直接涂敷的石墨則會(huì)留下，刻蝕時(shí)間在75秒～90秒之間，刻蝕液采用體積比11的次氯酸鈉和水配制而成，刻蝕完畢后用壓力1.0mp的顯影水進(jìn)行清洗將刻蝕完后殘留物質(zhì)沖洗掉；最后在進(jìn)行一次干燥50-60攝氏度使玻璃基板上的石墨條紋完全成形，至此濾光片的翻刻制作完全結(jié)束。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種濾光片翻刻工藝，首先對(duì)濾光片玻璃基板進(jìn)行清洗，然后對(duì)玻璃基板進(jìn)行感光膠注入，其次進(jìn)行曝光及顯影過(guò)程，石墨涂敷，最好刻蝕及顯影過(guò)程，本發(fā)明感光膠注入時(shí)采用濕膜法注入，以及本操作的相關(guān)工藝條件使得感光膠的涂敷能夠更加均勻，制造產(chǎn)品質(zhì)量得到提升。本發(fā)明曝光時(shí)采取膜對(duì)膜的曝光方式，以及操作時(shí)用到的相關(guān)工藝條件，且曝光時(shí)不采用透鏡進(jìn)行光路校正，工藝簡(jiǎn)單，降低生產(chǎn)成本。本發(fā)明對(duì)降低濾光片購(gòu)買(mǎi)成本和延長(zhǎng)濾光片使用時(shí)間起到了顯著的作用。
文檔編號(hào)G03F7/40GK101382614SQ20081015099
公開(kāi)日2009年3月11日 申請(qǐng)日期2008年9月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月16日
發(fā)明者剛 王, 田俊武, 趙鵬亮, 偉 陳, 高維剛 申請(qǐng)人:彩虹顯示器件股份有限公司