一種四峰值濾光片的制作方法
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及一種光學領域，更具體的說，涉及一種四峰值濾光片。
【背景技術】
[0002] 目前很多光電儀器設備采用光學濾光片作為采集信號的單色器，每次能夠檢測一 個樣品特性項目，如果檢測其他項目則需要更換相應的濾光片。往往需要備置多組附件或 者需要時間來更換新項目需要的濾光片組。不利于設備向便攜式，小型化發(fā)展。多峰值濾 光片能夠同時檢測多組特定光譜信號，與單一的帶通或者窄帶光學濾光片比較，具有更多 檢測通道，同時能夠測量多組特征光譜信號。 【實用新型內容】
[0003] 本實用新型要解決的問題是提供一種四峰值濾光片，通過光學薄膜膜系結構的設 計變化，能同時實現(xiàn)在四峰值工作，具有更加廣泛的工作范圍和更高的集成度。
[0004] 為了解決上述問題，本實用新型采用如下技術方案：一種四峰值濾光片，包括由 熔融石英玻璃制成的透光基片，在所述透光基片的一側表面上鍍制濾光膜，所述濾光膜 由依次鍍制的四層薄膜層疊組成，第一層薄膜的厚度為1127. 46nm、第二層薄膜的厚度為 1193. 63nm、第三次薄膜的厚度為1085. 79nm、第四層薄膜的厚度為1058. 84nm，所述薄膜均 為由五氧化二鉭和二氧化硅兩種不同折射率材料交替鍍膜組成的全介質薄膜層。
[0005] 優(yōu)選的是，在與鍍有所述濾光膜的所述透光基片一側表面相對的另一個表面上鍍 有截止膜。
[0006] 本實用新型的有益效果是：通過在同一透光基片上設置四層光學薄膜組成的濾光 膜，能同時實現(xiàn)在四峰值工作，同時能夠測量四組特征光譜信號，具有更加廣泛的工作范圍 和更高的集成度。
【附圖說明】
[0007] 圖1為本實用新型一種四峰值濾光片的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0008] 下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步說明：
[0009] 如圖1所示，本實用新型提供了一種四峰值濾光片，包括由熔融石英玻璃制成的 透光基片1，在所述透光基片1的一側表面上鍍制濾光膜2,所述濾光膜2由依次鍍制的四 層薄膜31、32、33、34層疊組成，第一層薄膜31的厚度為1127. 46nm、第二層薄膜32的厚度 為1193. 63nm、第三次薄膜33的厚度為1085. 79nm、第四層薄膜34的厚度為1058. 84nm，所 述薄膜31、32、33、34均為由五氧化二鉭和二氧化硅兩種不同折射率材料交替鍍膜組成的 全介質薄膜層。
[0010] 本實施例中，薄膜31、32、33、34的膜系初始結構為：HL2HL2HL2HL2HLHL，H表示為 五氧化三鈦，L表示為二氧化硅，每個薄膜由五氧化三鈦和二氧化硅交替鍍膜組成，共12 層。
[0011] 薄膜31、32、33、34的膜層優(yōu)化結果如下：
[0012]
【主權項】
1. 一種四峰值濾光片，其特征在于：包括由熔融石英玻璃制成的透光基片，在所述透 光基片的一側表面上鍍制濾光膜，所述濾光膜由依次鍍制的四層薄膜層疊組成，第一層薄 膜的厚度為1127. 46nm、第二層薄膜的厚度為1193. 63nm、第三次薄膜的厚度為1085. 79nm、 第四層薄膜的厚度為1058. 84nm，所述薄膜均為由五氧化二鉭和二氧化硅兩種不同折射率 材料交替鍍膜組成的全介質薄膜層。
2. 根據權利要求1所述的一種四峰值濾光片，其特征在于：在與鍍有所述濾光膜的所 述透光基片一側表面相對的另一個表面上鍍有截止膜。
【專利摘要】本實用新型公開了一種四峰值濾光片，包括由熔融石英玻璃制成的透光基片，在所述透光基片的一側表面上鍍制濾光膜，所述濾光膜由依次鍍制的四層薄膜層疊組成，第一層薄膜的厚度為1127.46nm、第二層薄膜的厚度為1193.63nm、第三次薄膜的厚度為1085.79nm、第四層薄膜的厚度為1058.84nm，所述薄膜均為由五氧化二鉭和二氧化硅兩種不同折射率材料交替鍍膜組成的全介質薄膜層。本實用新型的有益效果是：能同時實現(xiàn)在四峰值工作，同時能夠測量四組特征光譜信號，具有更加廣泛的工作范圍和更高的集成度。
【IPC分類】G02B5-20, G02B1-10
【公開號】CN204536584
【申請?zhí)枴緾N201520224560
【發(fā)明人】馬志亮
【申請人】北京京儀博電光學技術有限責任公司
【公開日】2015年8月5日
【申請日】2015年4月15日