本發(fā)明涉及遠(yuǎn)紅外波段光學(xué)薄膜技術(shù),具體指一種具有中波紅外截止功能的遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜窗口,通過在cvd金剛石上鍍制多層膜,實(shí)現(xiàn)對遠(yuǎn)紅外波段5-50微米透射和中波紅外5微米前波段的截止。
技術(shù)背景
紅外光學(xué)薄膜濾光片作為紅外遙感技術(shù)的基礎(chǔ)關(guān)鍵元器件之一,對紅外遙感的性能有著直接的影響。紅外光學(xué)薄膜濾光片的發(fā)展,直接影響著紅外技術(shù)在軍事和民用領(lǐng)域應(yīng)用的發(fā)展。現(xiàn)在主流的紅外光學(xué)薄膜濾光片主要集中在25微米之前的波段進(jìn)行研究;對于25微米之后的紅外波段,由于光學(xué)薄膜材料的限制,相關(guān)光學(xué)薄膜方向的研究甚少。隨著紅外光學(xué)的發(fā)展,在地球輻射收支等應(yīng)用領(lǐng)域?qū)ΣㄩL至遠(yuǎn)紅外50微米的探測提出了新的要求。
地球輻射收支是指地球大氣系統(tǒng)從太陽接收紫外、可見和近紅外電磁輻射和地球大氣系統(tǒng)向外層空間放射紅外輻射的輻射交換過程,地球輻射收支(erb)的探測是空間遙感探測的有機(jī)組成部分,作為全球氣候觀測系統(tǒng)中一個重要的氣候變量,地球輻射收支測量可以用于驗(yàn)證氣候模式輸出,確定數(shù)值預(yù)報模式中的云參數(shù)化方案,以及分析痕量氣體、氣溶膠和云對于氣候變化的影響。
地球輻射收支光譜范圍從0.2微米至100微米以上。主要分為0.2-5微米的短波通道和5-50微米的長波通道。針對短波通道的光學(xué)薄膜研究已經(jīng)很普及。而對于長波通道,目前主要集中在8-12微米的研究。而25-50微米波段區(qū)間的探測,并無專門研究,只在全波段探測中涉及。這對于長波通道的研究和分析都帶來極大的困難。
在遠(yuǎn)紅外窗口方向的研究方向,國內(nèi)有的采用聚乙烯、塑料等有機(jī)物作為15-50μm波段的紅外探測器的窗口材料,這些材料具有耐機(jī)械沖擊能力,但是在15μm之前不能對光譜進(jìn)行響應(yīng),并且塑料高分子成分在航天上的應(yīng)用也有其欠缺性。
對長波紅外光學(xué)薄膜窗口進(jìn)行研究,通過寬光譜的紅外高精度觀測,去除5微米之前的太陽輻射的影響,可提高長波通道的探測精度。該研究對于地球輻射探測、深空探測等遠(yuǎn)紅外探測具有重要意義。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明提出設(shè)計了一種具有中波紅外截止功能的遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜窗口,該光學(xué)薄膜窗口元件實(shí)現(xiàn)對中波波長5μm波段前的截止,5-50μm波段增透。本發(fā)明具有中波紅外截止功能的遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜窗口性能穩(wěn)定,適合于地球輻射探測的長波窗口、深空探測等領(lǐng)域的應(yīng)用。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:在cvd金剛石基底兩面分別沉積正面截止膜系和背面截止膜系。
本發(fā)明的濾光片由正面截止膜系1、基片2和背面截止膜系3組成,在基底的一面沉積正面截止膜系1,在基底的另一面沉積背面截止膜系3。
正面截止膜系1的膜系結(jié)構(gòu)為:
基底/0.22h0.78l0.43h0.99l0.47h1.10l0.47h1.20l0.45h1.25l0.35h1.57l0.15h5.13l/空氣
其中,h表示一個λ0/4光學(xué)厚度的pbte膜層,l表示一個λ0/4光學(xué)厚度的csi膜層,λ0為中心波長,為4微米,h、l前的數(shù)字為λ0/4光學(xué)厚度比例系數(shù)乘數(shù);
背面截止膜系3的膜系結(jié)構(gòu)為:
基底/0.20h0.72l0.40h0.91l0.43h1.01l0.43h1.10l0.41h1.14l0.32h1.44l0.14h4.70l/空氣
其中,h表示一個λ0/4光學(xué)厚度的pbte膜層,l表示一個λ0/4光學(xué)厚度的csi膜層,λ0為中心波長,為3微米,h與l前的數(shù)字為膜層的厚度比例系數(shù)。
本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)在于:提出了一種具有中波紅外截止功能的遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜窗口,該光學(xué)薄膜窗口元件可以實(shí)現(xiàn)對波長小于5μm波段的截止,平均透過率低于0.5%;在5-50μm波段增透。本發(fā)明遠(yuǎn)紅外波段光學(xué)薄膜濾光片性能穩(wěn)定,可應(yīng)用于地球輻射探測、遠(yuǎn)紅外目標(biāo)識別和深空探測等領(lǐng)域。
附圖說明
圖1為一種具有中波紅外截止功能的遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜窗口正面截止膜系及背面截止膜系排列的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖中(1)為正面截止膜系,(2)為金剛石基片,(3)為背面截止膜系。
圖2為一種具有中波紅外截止功能的遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜窗口的光譜透過率曲線。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)一步詳細(xì)說明。
本發(fā)明一種具有中波紅外截止功能的遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜窗口,增透光譜區(qū)間為5-50μm,截止光譜區(qū)間為0~5μm,選用pbte和csi為高低折射率薄膜材料。
本發(fā)明一種具有中波紅外截止功能的遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜窗口的正面截止膜系和背面截止膜系均采用為多層非規(guī)整膜系結(jié)構(gòu)。膜系沉積采用石英晶體監(jiān)控和光學(xué)直接監(jiān)控互補(bǔ)的監(jiān)控方式,控制膜層厚度沉積誤差,得到接近設(shè)計的結(jié)果。
正面截止膜系1選取中心波長λ0為4μm,通過膜系設(shè)計軟件優(yōu)化,膜系結(jié)構(gòu)為:
基底/0.22h0.78l0.43h0.99l0.47h1.10l0.47h1.20l0.45h1.25l0.35h1.57l0.15h5.13l/空氣
其中,h表示一個λ0/4光學(xué)厚度的pbte膜層,l表示一個λ0/4光學(xué)厚度的csi膜層,h、l前的數(shù)字為λ0/4光學(xué)厚度比例系數(shù)乘數(shù)。
背面截止膜系3選取中心波長λ0為3μm,通過膜系設(shè)計軟件優(yōu)化,膜系結(jié)構(gòu)為:
基底/0.20h0.72l0.40h0.91l0.43h1.01l0.43h1.10l0.41h1.14l0.32h1.44l0.14h4.70l/空氣
其中,h表示一個λ0/4光學(xué)厚度的pbte膜層,l表示一個λ0/4光學(xué)厚度的csi膜層,h、l前的數(shù)字為λ0/4光學(xué)厚度比例系數(shù)乘數(shù)。
為增強(qiáng)薄膜可靠性,薄膜沉積前采用離子源輔助轟擊清洗基片,選擇陽極電壓為180伏特,陰極電流為5安培,轟擊10分鐘。薄膜沉積真空為1-2×10-3pa,基片沉積溫度控制在180±2℃。pbte薄膜沉積速率為1.2nm/s,csi薄膜沉積速率為2.0nm/s。
本發(fā)明實(shí)施案例得到的一種具有中波紅外截止功能的遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜窗口在0-5微米波段范圍內(nèi),平均透過率小于0.5%,在5-50微米范圍內(nèi),平均透過率大于76.8%,透過率最高值為90.3%。