本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置。

背景技術(shù)：

液晶顯示器(lcd)的構(gòu)造是在兩片平行的玻璃基板當(dāng)中放置液晶盒，下基板玻璃上設(shè)置tft(薄膜晶體管)，上基板玻璃上設(shè)置彩色濾光片，通過tft上的信號與電壓改變來控制液晶分子的轉(zhuǎn)動方向，從而達(dá)到控制每個像素點偏振光出射與否而達(dá)到顯示目的。

其中，tft可分為多晶硅(poly-si)與非晶硅(a-si)兩種類型，兩者的差異在于電晶體特性不同。低溫多晶硅技術(shù)ltps(lowtemperaturepoly-silicon)的有源層則是采用非晶硅(a-si)經(jīng)ela(激光退火)等工藝制作的。

在低溫多晶硅(ltps)薄膜晶體管(tft)觸控(touch)工藝中，通常需要使用金屬形成柵極、源漏極、觸控電極等必要的導(dǎo)線圖案，常規(guī)作業(yè)中，每一層金屬圖案的形成均需進(jìn)行洗凈、鍍膜、黃光、蝕刻、去膠等工序作業(yè)，由于工序較多，產(chǎn)品生產(chǎn)成本也較高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置，能夠避免了分別利用兩層金屬分別制作柵線和數(shù)據(jù)線的繁瑣工序，降低了成本。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是：提供一種陣列基板的制作方法，該方法包括：提供一基板；在基板上制作第一功能層；在第一功能層上制作第一金屬層，并在第一金屬層上定義出第一類電極條以及第二類電極條；其中，第一類電極條將第二類電極條隔斷；在第一金屬層上制作第二功能層，并在第二功能層上形成多個沿第二功能層厚度方向的第一通孔；在第二功能層上制作第二金屬層，并在第二金屬層上定義出第三類電極條；其中，第三類電極條通過第一通孔將隔斷的第二類電極條連接，以形成完整的第二類電極條。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另一個技術(shù)方案是：提供一種陣列基板，該陣列基板包括：基板；第一功能層，設(shè)置于基板上方；第一金屬層，設(shè)置于第一功能層上方，包括第一類電極條和第二類電極條；其中，第一類電極條將第二類電極條隔斷；第二功能層，設(shè)置于第一金屬層上方，包括多個沿第二功能層厚度方向的第一通孔；第二金屬層，設(shè)置于第二功能層上方，包括第三類電極條；其中，第三類電極條通過第一通孔將隔斷的第二類電極條連接，以形成完整的第二類電極條。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另一個技術(shù)方案是：提供一種顯示裝置，該顯示裝置包括顯示面板和背光，顯示面板包括陣列基板、彩膜基板以及陣列基板和彩膜基板之間的液晶層，其中，陣列基板是如上述提供的陣列基板，或由上述提供的陣列基板的制作方法制作得到的陣列基板。

本發(fā)明的有益效果是：區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法包括：提供一基板；在基板上制作第一功能層；在第一功能層上制作第一金屬層，并在第一金屬層上定義出第一類電極條以及第二類電極條；其中，第一類電極條將第二類電極條隔斷；在第一金屬層上制作第二功能層，并在第二功能層上形成多個沿第二功能層厚度方向的第一通孔；在第二功能層上制作第二金屬層，并在第二金屬層上定義出第三類電極條；其中，第三類電極條通過第一通孔將隔斷的第二類電極條連接，以形成完整的第二類電極條。通過上述方法，將數(shù)據(jù)線和柵線在同一金屬層中制作，避免了分別利用兩層金屬分別制作柵線和數(shù)據(jù)線的繁瑣工序，降低了成本。

附圖說明

圖1是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實施例的流程示意圖；

圖2是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實施例中步驟s131對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實施例中步驟s132對應(yīng)的結(jié)構(gòu)俯視圖；

圖4是圖3沿a-a’線分割的側(cè)視圖；

圖5是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實施例中步驟s14對應(yīng)的一結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實施例中步驟s14對應(yīng)的另一結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實施例中步驟s15對應(yīng)的一結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8是圖7沿a-a’線分割的側(cè)視圖；

圖9是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法另一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10是本發(fā)明提供的陣列基板一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖11是本發(fā)明提供的陣列基板另一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12是本發(fā)明提供的顯示裝置一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述?？梢岳斫獾氖?，此處所描述的具體實施例僅用于解釋本發(fā)明，而非對本發(fā)明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分而非全部結(jié)構(gòu)?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實施例所提供的顯示裝置，包括智能手機、平板電腦、智能穿戴設(shè)備、數(shù)字音視頻播放器、電子閱讀器、手持游戲機和車載電子設(shè)備等。

本發(fā)明中的術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。本發(fā)明的描述中，“多個”的含義是至少兩個，例如兩個，三個等，除非另有明確具體的限定。本發(fā)明實施例中所有方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運動情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。此外，術(shù)語“包括”和“具有”以及它們?nèi)魏巫冃?，意圖在于覆蓋不排他的包含。例如包含了一系列步驟或單元的過程、方法、系統(tǒng)、產(chǎn)品或設(shè)備沒有限定于已列出的步驟或單元，而是可選地還包括沒有列出的步驟或單元，或可選地還包括對于這些過程、方法、產(chǎn)品或設(shè)備固有的其它步驟或單元。

在本文中提及“實施例”意味著，結(jié)合實施例描述的特定特征、結(jié)構(gòu)或特性可以包含在本發(fā)明的至少一個實施例中。在說明書中的各個位置出現(xiàn)該短語并不一定均是指相同的實施例，也不是與其它實施例互斥的獨立的或備選的實施例。本領(lǐng)域技術(shù)人員顯式地和隱式地理解的是，本文所描述的實施例可以與其它實施例相結(jié)合。

參閱圖1，圖1是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實施例的流程示意圖，該方法包括：

s11：提供一基板。

可選的，該基板為透明的玻璃基板，若該陣列基板用于柔性顯示屏，則該基板也可以是可彎折的塑料基板。

s12：在基板上制作第一功能層。

其中，第一功能層可以至少包括第一絕緣層和有源層，本實施例不作限定。

s13：在第一功能層上制作第一金屬層，并在第一金屬層上定義出第一類電極條以及第二類電極條；其中，第一類電極條將第二類電極條隔斷。

其中，在一具體的實施例中，該第一類電極條為柵極走線，該第二類電極條為數(shù)據(jù)走線。

其中，步驟s13可以具體包括：

s131：在第一功能層上制作第一金屬層。

如圖2所示，基板20上設(shè)置有第一功能層21，在第一功能層21上制作第一金屬層22。

s132：對第一金屬層進(jìn)行圖案化，形成柵線和數(shù)據(jù)線。

如圖3和圖4所示，其中，圖4是圖3中沿a-a’線分割的側(cè)視圖，可以理解的，陣列基板中柵線和數(shù)據(jù)線是有多條的，這里僅以一條柵線和一條數(shù)據(jù)線為例。

其中，柵線的延伸方向與數(shù)據(jù)線的延伸方向垂直，數(shù)據(jù)線被柵線隔斷。

具體的，在對第一金屬層20進(jìn)行圖案化時，可以采用第一光罩和第一黃光制程對第一金屬層進(jìn)行處理，以形成柵線和數(shù)據(jù)線。

可以理解的，其中的第一光罩與現(xiàn)有技術(shù)中制作柵線的光罩是不同的，這里的第一光罩是經(jīng)過特殊處理的能夠?qū)?yīng)圖3中的柵線和隔斷的數(shù)據(jù)線，使得圖3中的柵線和數(shù)據(jù)線能夠在一次光罩和一次黃光工藝中同時形成。

其中，在一具體地實施方式中，黃光制程可以包括上光阻、曝光、顯影、測量等步驟，這里不再贅述。

s14：在第一金屬層上制作第二功能層，并在第二功能層上形成多個沿第二功能層厚度方向的第一通孔。

如圖5所示，在第一金屬層上制作第二功能層23。

如圖6所示，在第二功能層23上形成多個沿第二功能層23厚度方向的第一通孔231。

可以理解的，該第一通孔231可以對應(yīng)隔斷的數(shù)據(jù)線的兩端設(shè)置。

可選的，第二功能層至少包括第二絕緣層以及氧化物半導(dǎo)體層。其中，氧化物半導(dǎo)體可以是ito(銦錫氧化物)層。

s15：在第二功能層上制作第二金屬層，并在第二金屬層上定義出第三類電極條；其中，第三類電極條通過第一通孔將隔斷的第二類電極條連接，以形成完整的第二類電極條。

其中，制作第二金屬層的方式與第一金屬層類似，這里不再贅述。

如圖7和圖8所示，其中，圖8是圖7中沿a-a’線分割的側(cè)視圖，在第二功能層上制作第二金屬層24；采用第二光罩和第二黃光制程對第二金屬層24進(jìn)行處理，以形成第三類電極條和觸摸電極。需注意，第二金屬層24通過圖案化后形成的第三類電極條和觸摸電極之間是絕緣的，第三電極條只是利用了第二金屬層24的部分金屬，用于通過第一通孔231對隔斷的數(shù)據(jù)線22進(jìn)行連接，而觸控電極的連接方式，本實施例不作限定。

通過上述方式，將數(shù)據(jù)線和柵線在同一金屬層中制作，避免了分別利用兩層金屬分別制作柵線和數(shù)據(jù)線的繁瑣工序，降低了成本。

參閱圖9，在本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法的另一實施例中，在步驟s13之后，即在形成第一金屬層22，并對第一金屬層22進(jìn)行圖案化以形成第一類電極條221和第二類電極條222之后，在隔斷的第二類電極條222兩端形成沿第二類電極條厚度的第二通孔2221，以使第三類電極條24通過第二通孔2221將隔斷的第二類電極條222連接。

可以理解的，第二通孔2221與第一通孔231一一對應(yīng)。具體地，在形成第一金屬層22之后，對第一金屬層22進(jìn)行圖案化，以形成柵線221和數(shù)據(jù)線222，然后在數(shù)據(jù)線222的兩端形成第二通孔2221，然后在第一金屬層22之上形成第二功能層23，并在第二功能層23上形成與第二通孔2221一一對應(yīng)的第一通孔231。

在上述實施例中，形成第一通孔和第二通孔可以采用一特殊光罩，再經(jīng)過蝕刻工藝處理，這里不再贅述。

其中，上述各個實施例中，制作功能層、金屬層可以采用物理氣相沉積或化學(xué)氣相沉積的方法來制作，例如物理濺射、旋涂、噴墨、狹縫涂布或者光刻工藝等方法中的一種或多種，這里不作限定。

參閱圖10，本發(fā)明提供的陣列基板一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，該陣列基板包括：

基板100。

第一功能層101，設(shè)置于基板100上方。

第一金屬層102，設(shè)置于第一功能層101上方，包括第一類電極條1021和第二類電極條1022；其中，第一類電極條1021將第二類電極條1022隔斷。

第二功能層103，設(shè)置于第一金屬層102上方，包括多個沿第二功能層厚度方向的第一通孔(未標(biāo)示)。

第二金屬層104，設(shè)置于第二功能層103上方，包括第三類電極條；其中，第三類電極條通過第一通孔將隔斷的第二類電極條連接，以形成完整的第二類電極條。

可以理解的，本實施例提供的陣列基板，其采用了如上述提供的實施例陣列基板的制作方法，其具體的結(jié)構(gòu)和制作過程可以參閱圖2-圖9，這里不再贅述。

可選的，如圖11所示，在另一實施例中，隔斷的第二類電極條1022的兩端還設(shè)置有第二通孔(未標(biāo)示)，第三類電極條104通過第二通孔將隔斷的第二類電極條連接；其中，第二通孔與第一通孔一一對應(yīng)。

參閱圖12，本發(fā)明提供的顯示裝置一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，該顯示裝置包括顯示面板1201和背光1021，顯示面板包括陣列基板、彩膜基板以及陣列基板和彩膜基板之間的液晶層(圖未示)。

其中，陣列基板是如上述實施例提供的陣列基板，或利用上述實施例提供的陣列基板的制作方法制作得到的，其結(jié)構(gòu)和制作方法類似，這里不再贅述。

以上所述僅為本發(fā)明的實施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。