本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是指一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置及其制作方法。

背景技術(shù)：

顯示裝置的窄邊框設(shè)計是顯示領(lǐng)域發(fā)展的一個趨勢，如果顯示裝置的邊框變窄，則觀眾在觀看這類顯示產(chǎn)品時視覺被束縛的程度大大降低，視覺更放松，更容易使人產(chǎn)生一種身臨其境的欣賞美感。

而現(xiàn)有的顯示裝置需要在顯示面板的邊緣設(shè)置走線及各種集成電學(xué)元件，因此，顯示裝置仍需要保留一定寬度的邊框，很難將邊框設(shè)計的比較窄。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置及其制作方法，能夠?qū)崿F(xiàn)顯示裝置的窄邊框、超窄邊框甚至無邊框。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的實施例提供技術(shù)方案如下：

一方面，提供一種陣列基板的制作方法，包括：

提供一襯底基板；

形成貫穿所述襯底基板的多個過孔；

在所述過孔中形成導(dǎo)電柱；

在襯底基板的第一表面上形成柵線和數(shù)據(jù)線，每一數(shù)據(jù)線和/或每一柵線分別與一導(dǎo)電柱電連接。

進(jìn)一步地，所述在所述過孔中形成導(dǎo)電柱的步驟包括：

在形成有所述過孔的襯底基板上蒸鍍粘結(jié)材料和導(dǎo)電材料，所述粘結(jié)材料和所述導(dǎo)電材料粘附在所述過孔內(nèi)形成所述導(dǎo)電柱。

進(jìn)一步地，通過一次構(gòu)圖工藝形成所述導(dǎo)電柱和陣列基板的柵導(dǎo)電層圖形，所述柵導(dǎo)電層圖形包括薄膜晶體管的柵電極和所述柵線，形成所述導(dǎo)電柱和所述柵導(dǎo)電層圖形的步驟包括：

在形成有所述過孔的襯底基板上蒸鍍粘結(jié)材料和導(dǎo)電材料，所述襯底基板的第一表面朝向蒸發(fā)源，所述粘結(jié)材料和所述導(dǎo)電材料粘附在所述過孔內(nèi)形成所述導(dǎo)電柱，所述粘結(jié)材料和所述導(dǎo)電材料粘附在所述第一表面形成第一導(dǎo)電層；

在所述第一導(dǎo)電層上涂覆光刻膠，利用掩膜板對所述光刻膠進(jìn)行曝光，顯影后形成光刻膠保留區(qū)域和光刻膠未保留區(qū)域，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)所述柵導(dǎo)電層圖形；

對所述第一導(dǎo)電層進(jìn)行刻蝕，去除光刻膠未保留區(qū)域的第一導(dǎo)電層；

剝離光刻膠保留區(qū)域的光刻膠，形成所述柵導(dǎo)電層圖形。

進(jìn)一步地，所述在所述過孔中形成導(dǎo)電柱的步驟包括：

在所述過孔的內(nèi)壁上依次形成絕緣層、粘附層、阻擋層和電鍍種子層，并通過電鍍工藝在所述過孔中填充金屬，形成所述導(dǎo)電柱。

進(jìn)一步地，形成所述導(dǎo)電柱之后，所述制作方法還包括：

在所述陣列基板與所述第一表面相背的第二表面形成與所述導(dǎo)電柱連接的導(dǎo)電引線。

進(jìn)一步地，形成所述導(dǎo)電引線的步驟包括：

在形成有所述導(dǎo)電柱的襯底基板上蒸鍍粘結(jié)材料和導(dǎo)電材料，所述襯底基板的第二表面朝向蒸發(fā)源，所述粘結(jié)材料和所述導(dǎo)電材料粘附在所述第二表面形成第二導(dǎo)電層；

在所述第二導(dǎo)電層上涂覆光刻膠，利用掩膜板對所述光刻膠進(jìn)行曝光，顯影后形成光刻膠保留區(qū)域和光刻膠未保留區(qū)域，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)所述導(dǎo)電引線的圖形；

對所述第二導(dǎo)電層進(jìn)行刻蝕，去除光刻膠未保留區(qū)域的第二導(dǎo)電層；

剝離光刻膠保留區(qū)域的光刻膠，形成所述導(dǎo)電引線。

本發(fā)明實施例還提供了一種陣列基板，采用如上所述的制作方法制作得到，所述陣列基板包括襯底基板，所述襯底基板包括貫穿所述襯底基板的多個過孔，所述過孔中形成有導(dǎo)電柱，所述襯底基板的第一表面上形成柵線和數(shù)據(jù)線，每一數(shù)據(jù)線和/或柵線分別與一導(dǎo)電柱電連接。

進(jìn)一步地，所述陣列基板還包括：

設(shè)置在所述襯底基板的與所述第一表面相背的第二表面上的導(dǎo)電引線，所述導(dǎo)電引線與所述導(dǎo)電柱連接。

本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置的制作方法，包括：

在如上所述的陣列基板與所述第一表面相背的第二表面上粘附至少一個驅(qū)動電路，所述第二表面上的驅(qū)動電路通過導(dǎo)電引線與所述導(dǎo)電柱連接。

本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，為采用如上所述的制作方法制作得到，所述顯示裝置的柵線、數(shù)據(jù)線、由柵線和數(shù)據(jù)線限定出的多個像素單元位于襯底基板的第一表面，所述顯示裝置的至少一個驅(qū)動電路位于所述襯底基板與所述第一表面相背的第二表面。

本發(fā)明的實施例具有以下有益效果：

上述方案中，在襯底基板上形成多個貫穿襯底基板的過孔，在過孔內(nèi)形成導(dǎo)電柱，在襯底基板的一個表面上形成柵線、數(shù)據(jù)線和像素單元，柵線和/或數(shù)據(jù)線與導(dǎo)電柱連接，這樣可以在襯底基板另一表面上粘附驅(qū)動電路，并通過導(dǎo)電引線和導(dǎo)電柱實現(xiàn)驅(qū)動電路和柵線、數(shù)據(jù)線之間的連接，從而實現(xiàn)將驅(qū)動信號加載到像素單元中，驅(qū)動像素單元進(jìn)行顯示，由于本發(fā)明的技術(shù)方案是將驅(qū)動電路和像素單元分別設(shè)置在襯底基板的不同表面上，因此，不必在顯示區(qū)域的邊緣留出較大的區(qū)域來放置驅(qū)動電路，從而能夠?qū)崿F(xiàn)顯示裝置的窄邊框、超窄邊框甚至無邊框。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例形成導(dǎo)電柱和柵導(dǎo)電層圖形的示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例形成導(dǎo)電柱的示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例陣列基板第二表面的示意圖。

附圖標(biāo)記

1襯底基板 2、20過孔 3粘結(jié)層 4導(dǎo)電層

5光刻膠 6導(dǎo)電柱 7、18柵線 8柵電極

9柵絕緣層 10有源層 11源電極 12漏電極

13像素電極 14、15導(dǎo)電引線 16源極驅(qū)動電路

17柵極驅(qū)動電路 19數(shù)據(jù)線 20過孔

31絕緣層 32粘附層 33阻擋層 34電鍍種子層 35金屬

具體實施方式

為使本發(fā)明的實施例要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實施例進(jìn)行詳細(xì)描述。

本發(fā)明的實施例針對現(xiàn)有技術(shù)中顯示裝置需要在顯示面板的邊緣設(shè)置走線及各種集成電學(xué)元件，因此，顯示裝置仍需要保留一定寬度的邊框，很難將邊框設(shè)計的比較窄的問題，提供一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置及其制作方法，能夠?qū)崿F(xiàn)顯示裝置的窄邊框、超窄邊框甚至無邊框。

實施例一

本實施例提供一種陣列基板的制作方法，包括：

提供一襯底基板；

形成貫穿所述襯底基板的多個過孔；

在所述過孔中形成導(dǎo)電柱；

在襯底基板的第一表面上形成柵線和數(shù)據(jù)線，每一數(shù)據(jù)線和/或每一柵線分別與一導(dǎo)電柱電連接。

本實施例中，在襯底基板上形成多個貫穿襯底基板的過孔，在過孔內(nèi)形成導(dǎo)電柱，在襯底基板的一個表面上形成柵線、數(shù)據(jù)線和像素單元，柵線和/或數(shù)據(jù)線與導(dǎo)電柱連接，這樣可以在襯底基板另一表面上粘附驅(qū)動電路，并通過導(dǎo)電引線和導(dǎo)電柱實現(xiàn)驅(qū)動電路和柵線、數(shù)據(jù)線之間的連接，從而實現(xiàn)將驅(qū)動信號加載到像素單元中，驅(qū)動像素單元進(jìn)行顯示，由于本發(fā)明的技術(shù)方案是將驅(qū)動電路和像素單元分別設(shè)置在襯底基板的不同表面上，因此，不必在顯示區(qū)域的邊緣留出較大的區(qū)域來放置驅(qū)動電路，從而能夠?qū)崿F(xiàn)顯示裝置的窄邊框、超窄邊框甚至無邊框。

進(jìn)一步地，所述形成貫穿所述襯底基板的多個過孔的步驟包括：

采用UV光刻、X射線直寫、激光刻蝕或構(gòu)圖工藝形成貫穿所述襯底基板的多個過孔。

一具體實施方式中，所述在所述過孔中形成導(dǎo)電柱的步驟包括：

在形成有所述過孔的襯底基板上蒸鍍粘結(jié)材料和導(dǎo)電材料，所述粘結(jié)材料和所述導(dǎo)電材料粘附在所述過孔內(nèi)形成所述導(dǎo)電柱。

在形成導(dǎo)電柱時，可以使用金屬離子等離子體濺射填充貫穿襯底基板的過孔，也可以使用涂覆的方式填充貫穿襯底基板的過孔。對于等離子體濺射填充，不能實現(xiàn)金屬元素的對于過孔的完全填充，在沒有填充完全的過孔中，對于沒有填滿的中空部分可以使用PDMS(聚二甲基硅氧烷)等高分子材料填充來確保機械穩(wěn)定性能。

優(yōu)選實施方式中，可以通過一次構(gòu)圖工藝形成所述導(dǎo)電柱和陣列基板的柵導(dǎo)電層圖形，所述柵導(dǎo)電層圖形包括薄膜晶體管的柵電極和所述柵線，如圖1所示，形成所述導(dǎo)電柱和所述柵導(dǎo)電層圖形包括以下步驟：

a、提供一襯底基板1，在襯底基板1上形成過孔2，具體地，可以使用激光在幾百um厚的襯底基板1上打通直徑為十幾um至幾百個um的通孔；

b、將襯底基板1的第一表面朝向蒸發(fā)源，在襯底基板1的第一表面上蒸鍍粘結(jié)材料和導(dǎo)電材料，所述粘結(jié)材料和所述導(dǎo)電材料粘附在過孔2內(nèi)形成導(dǎo)電柱6，粘結(jié)材料和導(dǎo)電材料粘附在第一表面形成粘結(jié)層3和導(dǎo)電層4，粘結(jié)層3和導(dǎo)電層4組成第一導(dǎo)電層，其中粘結(jié)材料可以采用鉻，導(dǎo)電材料可以采用銅；

c、在第一導(dǎo)電層上涂覆光刻膠5；

d、利用掩膜板對光刻膠5進(jìn)行曝光，顯影后形成光刻膠保留區(qū)域和光刻膠未保留區(qū)域，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)柵導(dǎo)電層圖形；

e、對第一導(dǎo)電層進(jìn)行刻蝕，去除光刻膠未保留區(qū)域的第一導(dǎo)電層，形成柵導(dǎo)電層圖形，之后可以剝離剩余的光刻膠，柵導(dǎo)電層圖形包括柵線7和柵電極8。

上述實施方式在形成導(dǎo)電柱的同時形成第一導(dǎo)電層，并通過對第一導(dǎo)電層進(jìn)行構(gòu)圖形成柵導(dǎo)電層的圖形，這樣可以簡化陣列基板的制作流程，降低陣列基板的生產(chǎn)成本。

另一具體實施方式中，如圖2所示，所述在所述過孔中形成導(dǎo)電柱的步驟包括：

在所述過孔的內(nèi)壁上依次形成絕緣層31、粘附層32、阻擋層33和電鍍種子層34，并通過電鍍工藝在所述過孔中填充金屬35，形成所述導(dǎo)電柱。

進(jìn)一步地，形成所述導(dǎo)電柱之后，所述制作方法還包括：

在所述陣列基板與所述第一表面相背的第二表面形成與所述導(dǎo)電柱連接的導(dǎo)電引線，這樣在制作顯示裝置時，可以在第二表面粘附與導(dǎo)電引線連接的驅(qū)動電路，使得驅(qū)動電路通過導(dǎo)電引線與導(dǎo)電柱連接，進(jìn)而與柵線和/或數(shù)據(jù)線連接，驅(qū)動像素單元進(jìn)行顯示。

進(jìn)一步地，形成所述導(dǎo)電引線的步驟包括：

在形成有所述導(dǎo)電柱的襯底基板上蒸鍍粘結(jié)材料和導(dǎo)電材料，所述襯底基板的第二表面朝向蒸發(fā)源，所述粘結(jié)材料和所述導(dǎo)電材料粘附在所述第二表面形成第二導(dǎo)電層；

在所述第二導(dǎo)電層上涂覆光刻膠，利用掩膜板對所述光刻膠進(jìn)行曝光，顯影后形成光刻膠保留區(qū)域和光刻膠未保留區(qū)域，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)所述導(dǎo)電引線的圖形；

對所述第二導(dǎo)電層進(jìn)行刻蝕，去除光刻膠未保留區(qū)域的第二導(dǎo)電層；

剝離光刻膠保留區(qū)域的光刻膠，形成所述導(dǎo)電引線。

實施例二

本實施例還提供了一種陣列基板，采用如實施例一所述的制作方法制作得到，所述陣列基板包括襯底基板，所述襯底基板包括貫穿所述襯底基板的多個過孔，所述過孔中形成有導(dǎo)電柱，所述襯底基板的第一表面上形成柵線和數(shù)據(jù)線，每一數(shù)據(jù)線和/或柵線分別與一導(dǎo)電柱電連接。

本實施例中，在襯底基板上形成多個貫穿襯底基板的過孔，在過孔內(nèi)形成導(dǎo)電柱，在襯底基板的一個表面上形成柵線、數(shù)據(jù)線和像素單元，柵線和/或數(shù)據(jù)線與導(dǎo)電柱連接，這樣可以在襯底基板另一表面上粘附驅(qū)動電路，并通過導(dǎo)電引線和導(dǎo)電柱實現(xiàn)驅(qū)動電路和柵線、數(shù)據(jù)線之間的連接，從而實現(xiàn)將驅(qū)動信號加載到像素單元中，驅(qū)動像素單元進(jìn)行顯示，由于本發(fā)明的技術(shù)方案是將驅(qū)動電路和像素單元分別設(shè)置在襯底基板的不同表面上，因此，不必在顯示區(qū)域的邊緣留出較大的區(qū)域來放置驅(qū)動電路，從而能夠?qū)崿F(xiàn)顯示裝置的窄邊框、超窄邊框甚至無邊框。

優(yōu)選實施例中，所述過孔在所述襯底基板上的正投影落入所述柵線在所述襯底基板上的正投影內(nèi)，所述柵線與對應(yīng)的導(dǎo)電柱直接連接；和/或

所述過孔在所述襯底基板上的正投影落入所述數(shù)據(jù)線在所述襯底基板上的正投影內(nèi)，所述數(shù)據(jù)線與對應(yīng)的導(dǎo)電柱直接連接，這樣可以不必再設(shè)置連接?xùn)啪€和/或數(shù)據(jù)線與導(dǎo)電柱的連接線，能夠簡化陣列基板的結(jié)構(gòu)。

進(jìn)一步地，所述陣列基板還包括：

設(shè)置在所述襯底基板的與所述第一表面相背的第二表面上的導(dǎo)電引線，所述導(dǎo)電引線與所述導(dǎo)電柱連接，這樣在制作顯示裝置時，可以在第二表面粘附與導(dǎo)電引線連接的驅(qū)動電路，使得驅(qū)動電路通過導(dǎo)電引線與導(dǎo)電柱連接，進(jìn)而與柵線和/或數(shù)據(jù)線連接，驅(qū)動像素單元進(jìn)行顯示。

實施例三

本實施例還提供了一種顯示裝置的制作方法，包括：

在如實施例二所述的陣列基板與所述第一表面相背的第二表面上粘附至少一個驅(qū)動電路，所述第二表面上的驅(qū)動電路通過導(dǎo)電引線與所述導(dǎo)電柱連接。

本實施例中，在襯底基板的其中一表面上形成柵線、數(shù)據(jù)線和像素單元，在另一表面上粘附驅(qū)動電路，并通過導(dǎo)電引線和導(dǎo)電柱實現(xiàn)驅(qū)動電路和柵線、數(shù)據(jù)線之間的連接，從而實現(xiàn)將驅(qū)動信號加載到像素單元中，驅(qū)動像素單元進(jìn)行顯示，由于本發(fā)明的技術(shù)方案是將驅(qū)動電路和像素單元分別設(shè)置在襯底基板的不同表面上，因此，不必在顯示區(qū)域的邊緣留出較大的區(qū)域來放置驅(qū)動電路，從而能夠?qū)崿F(xiàn)顯示裝置的窄邊框、超窄邊框甚至無邊框。

進(jìn)一步地，所述驅(qū)動電路包括柵極驅(qū)動電路和源極驅(qū)動電路，所述導(dǎo)電柱包括與柵線連接的第一導(dǎo)電柱和與數(shù)據(jù)線連接的第二導(dǎo)電柱，所述制作方法包括：

在所述第二表面上粘附柵極驅(qū)動電路，所述柵極驅(qū)動電路通過導(dǎo)電引線與所述第一導(dǎo)電柱連接；和/或

在所述第二表面上粘附源極驅(qū)動電路，所述源極驅(qū)動電路通過導(dǎo)電引線與所述第二導(dǎo)電柱連接。

實施例四

本實施例還提供了一種顯示裝置，為采用如實施例三所述的制作方法制作得到，所述顯示裝置的柵線、數(shù)據(jù)線、由柵線和數(shù)據(jù)線限定出的多個像素單元位于襯底基板的第一表面，所述顯示裝置的至少一個驅(qū)動電路位于所述襯底基板與所述第一表面相背的第二表面。

本實施例中，在襯底基板的其中一表面上形成柵線、數(shù)據(jù)線和像素單元，在另一表面上粘附驅(qū)動電路，并通過導(dǎo)電引線和導(dǎo)電柱實現(xiàn)驅(qū)動電路和柵線、數(shù)據(jù)線之間的連接，從而實現(xiàn)將驅(qū)動信號加載到像素單元中，驅(qū)動像素單元進(jìn)行顯示，由于本發(fā)明的技術(shù)方案是將驅(qū)動電路和像素單元分別設(shè)置在襯底基板的不同表面上，因此，不必在顯示區(qū)域的邊緣留出較大的區(qū)域來放置驅(qū)動電路，從而能夠?qū)崿F(xiàn)顯示裝置的窄邊框、超窄邊框甚至無邊框。

進(jìn)一步地，所述驅(qū)動電路包括柵極驅(qū)動電路和源極驅(qū)動電路，所述導(dǎo)電柱包括與柵線連接的第一導(dǎo)電柱和與數(shù)據(jù)線連接的第二導(dǎo)電柱，

所述襯底基板的所述第二表面上粘附有柵極驅(qū)動電路，所述柵極驅(qū)動電路通過導(dǎo)電引線與所述第一導(dǎo)電柱連接；和/或

所述襯底基板的所述第二表面上粘附有源極驅(qū)動電路，所述源極驅(qū)動電路通過導(dǎo)電引線與所述第二導(dǎo)電柱連接。

實施例五

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明實施例的陣列基板及其制作方法進(jìn)行詳細(xì)介紹：

本實施例的陣列基板的制作方法具體包括以下步驟：

步驟1、提供一襯底基板1，該襯底基板1為硬質(zhì)基板，可以是石英基板或玻璃基板；

步驟2、形成貫穿襯底基板1的多個過孔；

具體地，可以采用UV光刻、X射線直寫、激光刻蝕或構(gòu)圖工藝形成貫穿襯底基板1的多個過孔。其中，過孔可以對應(yīng)待形成的陣列基板的柵線和數(shù)據(jù)線設(shè)置，當(dāng)然，過孔還可以對應(yīng)待形成的薄膜晶體管的源電極和柵電極設(shè)置，或者過孔可以對應(yīng)待形成的陣列基板的柵線和源電極設(shè)置。本實施例中，形成的一部分過孔在襯底基板1上的正投影落入柵線在襯底基板1上的正投影中，另一部分過孔在襯底基板1上的正投影落入數(shù)據(jù)線在襯底基板1上的正投影內(nèi)。

步驟3、在過孔內(nèi)形成導(dǎo)電柱6；

具體地，可以在過孔的內(nèi)壁上依次形成絕緣層、粘附層、阻擋層和電鍍種子層，并通過電鍍工藝在過孔中填充金屬，形成導(dǎo)電柱6。

由于襯底基板一般采用石英基板或者玻璃基板，石英基板或者玻璃基板與金屬之間的附著力較差，如果直接在過孔中形成導(dǎo)電柱可能會導(dǎo)致導(dǎo)電柱與過孔之間的粘附力較差，因此，在過孔的內(nèi)壁上首先形成絕緣層，該絕緣層與襯底基板之間的粘附力較好，之后在絕緣層上形成粘著力較好的粘附層，再在粘附層上形成阻擋層，阻擋層能可以阻擋粘附層和絕緣層中的雜質(zhì)，之后在阻擋層上形成電鍍種子層，通過電鍍工藝在過孔中填充金屬，形成導(dǎo)電柱6。

步驟4、在經(jīng)過步驟3的襯底基板的第一表面上形成柵線、數(shù)據(jù)線和多個顯示單元；

以顯示單元為以液晶顯示單元為例，需要在襯底基板1上依次形成：柵線、數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管的柵電極8、柵絕緣層9、有源層10、源電極11和漏電極12，以及像素電極13，其中，薄膜晶體管的源電極11和漏電極12均與有源層10連接，漏電極12與像素電極13連接，漏電極12與像素電極13之間可以間隔有絕緣層，如圖3所示，漏電極12還可以與像素電極13直接連接。柵線7與對應(yīng)的導(dǎo)電柱6直接連接，數(shù)據(jù)線(未圖示)與對應(yīng)的導(dǎo)電柱6直接連接。

經(jīng)過上述步驟1-4即可形成如圖3所示的陣列基板。

在形成如圖3所示的陣列基板后，如圖4所示，可以在陣列基板的未形成顯示單元的另一側(cè)表面通過構(gòu)圖工藝形成與導(dǎo)電柱6連接的導(dǎo)電引線14和15。

在制作顯示裝置時，具體地，如圖4所示，在陣列基板未形成顯示單元的一側(cè)表面貼附源極驅(qū)動電路16和柵極驅(qū)動電路17，并在陣列基板的該側(cè)表面通過構(gòu)圖工藝形成與柵線18對應(yīng)導(dǎo)電柱連接的多個導(dǎo)電引線15，柵線18通過過孔19與導(dǎo)電柱連接，以及與數(shù)據(jù)線20對應(yīng)導(dǎo)電柱連接的多個導(dǎo)電引線14，數(shù)據(jù)線20通過過孔19與導(dǎo)電柱連接，其中源極驅(qū)動電路16與導(dǎo)電引線14連接，柵極驅(qū)動電路17與導(dǎo)電引線15連接，這樣?xùn)艠O驅(qū)動電路17輸出的柵極驅(qū)動信號經(jīng)由導(dǎo)電引線15、導(dǎo)電柱6傳遞至陣列基板另一側(cè)表面上的柵線18進(jìn)而傳遞至柵電極7，源極驅(qū)動電路16輸出的數(shù)據(jù)信號經(jīng)由導(dǎo)電引線14、導(dǎo)電柱6傳遞至陣列基板另一側(cè)表面的數(shù)據(jù)線20進(jìn)而傳遞至薄膜晶體管的源電極11，從而實現(xiàn)將驅(qū)動信號加載到顯示單元中，驅(qū)動顯示單元進(jìn)行顯示。

進(jìn)一步地，除源極驅(qū)動電路和柵極驅(qū)動電路外，顯示裝置需要使用的其他電學(xué)元器件比如印刷電路板(PCB)、柔性印刷電路板(FPC)等都可以形成在陣列基板與顯示單元相背的一側(cè)表面上。這些電學(xué)元器件可以貼附在陣列基板的表面上，也可以將這些電學(xué)元器件設(shè)置在轉(zhuǎn)接板上，通過轉(zhuǎn)接板重新布線、放大節(jié)距之后，再將轉(zhuǎn)接板貼附在陣列基板上，或者在陣列基板上形成凹槽，將轉(zhuǎn)接板放置在凹槽內(nèi)。

由于本實施例的技術(shù)方案是將驅(qū)動電路和顯示單元分別設(shè)置在襯底基板的不同表面上，因此，不必在顯示區(qū)域的邊緣留出較大的區(qū)域來放置驅(qū)動電路，從而能夠減小電學(xué)元器件所占空間，實現(xiàn)顯示模組的輕薄短小化，實現(xiàn)顯示裝置的窄邊框、超窄邊框甚至無邊框。

在本發(fā)明各方法實施例中，所述各步驟的序號并不能用于限定各步驟的先后順序，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，對各步驟的先后變化也在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以作出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。