專利名稱：：具有支化羥基苯乙烯聚合物的正性工作可成像元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及單層和多層兩種正性工作可成像元件，其具有包含支化羥基苯乙烯聚合物的可成像層。本發(fā)明還涉及以提供特別適用于平版印刷的正性工作成像元件的成像方法。
背景技術(shù)：
：傳統(tǒng)或者"濕法，，平版印刷中，在親水表面上產(chǎn)生受油墨區(qū)域(公知為成^象區(qū)域)。當(dāng)表面用水潤(rùn)濕并施用油墨時(shí)，該親水區(qū)域保持水并排斥油墨，且受油墨區(qū)域接收油墨并排斥水。將油墨轉(zhuǎn)移到其上將復(fù)制圖像的材料表面上。例如，可以首先將油墨轉(zhuǎn)移到中間轉(zhuǎn)印布(blanket)上，其反過(guò)來(lái)可用于將油墨轉(zhuǎn)移到其上將復(fù)制圖像的材料表面上。印刷板前體領(lǐng)域中最近的研究關(guān)注于激光器或激光器二極管用于成像的應(yīng)用。激光照射無(wú)需傳統(tǒng)卣化銀制版印刷膠片作為中間信息載體(或者"掩模，，)，因?yàn)榭梢灾苯油ㄟ^(guò)計(jì)算機(jī)控制激光器。商業(yè)上可獲得的圖文影排機(jī)中使用的高性能激光器或激光器二極管通常發(fā)出波長(zhǎng)為至少700nm的輻射，并且由此要求該輻射壽l感性組合物在電》茲波譜的近紅外或紅外區(qū)域中敏感。但是，還設(shè)計(jì)了其它有用的輻射-敏感性組合物用于采用紫外或可見光輻射成像。適用于制備平版印刷板的可成像元件典型地包括施用于基底親水表面之上的可成像層。該可成像層包括可以分散于適宜粘合劑中的一種或多種輻射-敏感性組分?？蛇x擇地輻射-敏感性組分也可以是粘合劑材料。成像之后，通過(guò)適宜的顯影劑將該可成像層的成像區(qū)域或是非成像區(qū)域除去，露出下面的基底親水表面。如果除去成像區(qū)域，認(rèn)為該元件是正性工作的。如果除去非成像區(qū)域，認(rèn)為該元件是負(fù)性工作的。在每種情形下，保留的可成像層的區(qū)域(即，圖像區(qū)域)是受油墨性的，并且通過(guò)顯影過(guò)程露出的親水表面區(qū)域接收水和水溶液(典型潤(rùn)版液)并排斥油墨。采用紫外和/或可見光輻射使可成像元件成像，典型地通過(guò)具有透明和不透明區(qū)域的掩模來(lái)進(jìn)行。在掩模透明區(qū)域之下的區(qū)域中發(fā)生成像，6但是在不透明掩模區(qū)域之下的區(qū)域中不發(fā)生。掩模的使用是耗時(shí)的且存在許多顯著的缺陷。直接數(shù)字成像避免了對(duì)于通過(guò)掩模來(lái)成像的需要，且在印刷工業(yè)中變得越來(lái)越重要。已開發(fā)出與紅外激光器一起使用的制備平版印刷板的可成像元件。熱可熱成像的多層元件描述于，例如，US6,294,311(Shimazu等)、6,352,812(Shimazu等)、6，593，055(Shimazu等)、6,352,811(Patel等)、6，358,669(Savariar-Hauck等)、和6,528,228(Savariar-Hauck等)，美國(guó)專利申請(qǐng)文獻(xiàn)2004/0067432Al(Kitson等)。含有由4-羥基苯乙烯(HSM)制備的聚羥基苯乙烯(PHS)的光刻膠描述于例如US5,554,719(Soumk)和6,551,758(Ohsawa等)。也已知用于光致抗蝕劑的支化聚羥基苯乙烯用于光刻膠，如U.S.6，682,869(Ohsawa等)中所述。也已描述它們用于含有無(wú)色染料的成色材料(如在美國(guó)專利申請(qǐng)文獻(xiàn)2003/0050191(Bhatt等)中)和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)(如美國(guó)專利申請(qǐng)文獻(xiàn)2005/0051053(Wisnudel等)中所述)。待解決的問(wèn)題正性工作平版印刷板應(yīng)具有高成像速率、成像分辨率、和良好的水性顯影劑溶解性。也期望在顯影處理中使用的顯影劑可以在較低pH值下使用且需要最小限度的過(guò)濾。雖然大量平版印刷文獻(xiàn)描述了具有各種聚合物粘合劑的各種正性工作可成像元件來(lái)提供有用性能，但是仍需要對(duì)于改進(jìn)這些元件且特別是對(duì)于提供改進(jìn)加工性。發(fā)明概述本發(fā)明提供了一種非成色的、正性工作輻射-敏感性組合物，該組合物在曝光于輻射時(shí)變?yōu)榭扇苡诨蛘呖煞稚⒂?i性溶液，該組合物包含輻射-吸收化合物和支化羥基苯乙烯聚合物。本發(fā)明還提供了正性工作可成像元件，其包括其上具有可成像層的基底，該可成卩象層在曝光于輻射時(shí)變?yōu)榭扇苡诨蛘呖煞稚⒂赹咸性溶液并且包含一種支化羥基苯乙烯聚合物，該元件進(jìn)一步包括輻射吸收化合物。在一些實(shí)施方式中，該正性工作可成像元件包括置于包含支化羥基苯乙烯聚合物和輻射吸收化合物二者的基底之上的單個(gè)可成像層。在其它實(shí)施方式中，該正性工作可成^象元件在基底上依次包4舌內(nèi)層，和受油墨外層，其在曝光于成像輻射之前使用堿性顯影劑時(shí)不可去除，該外層包含支化羥基苯乙烯聚合物，其中該輻射吸收化合物通常主要存在于內(nèi)層中。本發(fā)明還提供了形成圖像的方法，包括A)使本發(fā)明的正性工作可成像元件熱成像，由此形成具有曝光和非曝光區(qū)域的成像元件，B)使成像層與堿性顯影劑接觸以僅除去曝光區(qū)域，和C)任選地，烘焙成像和顯影元件。進(jìn)一步，本發(fā)明提供了一種提供正性工作可成像元件的方法，包括A)在基底上提供可成像層以提供正性工作可成像元件，該可成像層包括支化羥基苯乙烯聚合物，B)在該元件之內(nèi)提供輻射吸收化合物，和C)在可成像層干燥之后，在抑制從已干燥的可成像層中除去水份的條件下將可成像層在4090。C下加熱處理至少4小時(shí)。本發(fā)明因此還提供了由本文中所述正性工作元件獲得的成像元件。本發(fā)明的正性工作可成像組合物和元件具有改進(jìn)的成像速率(敏感性)，而且是具有良好水溶性顯影劑溶解性和需要最小限度顯影劑過(guò)濾的清潔處理。該可成像材料可以容易地采用浸槽或者噴管加工來(lái)處理。它們可以是單層或多層元件，并且因此適用于平版印刷工業(yè)中的多種應(yīng)用。這些優(yōu)點(diǎn)通過(guò)使用支化羥基苯乙烯聚合物作為該可成像元件的可成像層中的聚合物粘合劑得以實(shí)現(xiàn)。含有支化羥基苯乙烯聚合物的可成像層配方也具有容許改進(jìn)的涂布性能的粘度。發(fā)明詳述定義除非本文另外指出，否則本文中使用的術(shù)語(yǔ)"輻射-敏感性"、"可成像元件"和"印刷板前體"的含義參考本發(fā)明的實(shí)施方式。"單層"可成像元件含義為，本發(fā)明的可成像元件僅需要提供正圖像的單層。"支化羥基苯乙烯聚合物(如下所定義)"將位于可以是最外層的該單個(gè)成像層中。但是，這些元件可以包括在基底任一側(cè)上的其它非成像層[如包含氧-可滲透、水溶性聚合物如聚(乙烯醇)的底層或外涂層]。"多層"可成像元件含義為，本發(fā)明的可成像元件具有至少兩個(gè)需要提供圖像的層，例如，如下所述的"內(nèi)"和"外"層。"支化羥基苯乙烯聚合物(如下所定義)"通常將位于外層中。但是，這些元件可以包括在基底任一側(cè)上的其它非成像層，包括但并不限定于外涂層、底層、和粘結(jié)層。術(shù)語(yǔ)"支化羥基苯乙烯聚合物(BHP)"表示包含衍生自羥基苯乙烯(優(yōu)選4-鞋基苯乙烯或?qū)αu基苯乙烯)的重復(fù)單元的聚合物，即均聚物和共聚物二者，其中至少一些這些重復(fù)單元進(jìn)一步被位于羥基鄰位的重復(fù)羥基苯乙烯單元取代。下面詳細(xì)地描述了這些聚合物。另外，除非本文相反指出，否則本文中所述的各種組分如"支化羥基苯乙烯聚合物"、和"輻射吸收化合物"，和本發(fā)明中可成像組合物、組件、和方法中使用的其它組分和術(shù)語(yǔ)，也表示該組分的混合物。由此，冠詞"一個(gè)"、"一種"、或"這個(gè)"的使用并不僅表示單一組分。"多分散性"表示重均分子量(Mw)與數(shù)均分子量(Mn)的比值，且當(dāng)該比值為1.0時(shí)，其表示完全單分散聚合物。除非本文相反指出，否則百分比表示以干重計(jì)算的百分比。術(shù)語(yǔ)"輻射吸收化合物，，表示對(duì)特定波長(zhǎng)的輻射敏感且可以在將它們置于其中的層之內(nèi)將光子轉(zhuǎn)化為熱的化合物。這些化合物也可以是本領(lǐng)域中公知的"光熱轉(zhuǎn)化材料，，、"敏化劑，，、或"光致熱轉(zhuǎn)化劑"。為了說(shuō)明與聚合物相關(guān)的任何術(shù)語(yǔ)的定義，應(yīng)參考"GlossaryofBasicTermsinPolymerScience"，theInternationalUnionofPureandAppliedChemistry("IUPAC")出版，PureAppl.Chem.68,2287-2311(1996)。但是，應(yīng)認(rèn)為本文中明確給出的任何定義是限制性的。除非本文相反指出，否則術(shù)語(yǔ)"聚合物"表示高和低分子量的聚合物，包括低聚物，并且包括均聚物和共聚物。"均聚物"表示基本上由(大于99mol。/。)相同重復(fù)單元組成的聚合物。術(shù)語(yǔ)"共聚物"表示衍生自兩種或多種不同單體的聚合物，或者它們包括具有至少兩種不同化學(xué)結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元的聚合物。術(shù)語(yǔ)"主鏈"表示聚合物中的多個(gè)側(cè)基可以與之相連接的原子鏈。該主鏈的一個(gè)實(shí)例是由一種或多種烯屬不飽和可聚合單體的聚合而獲得的"全碳"主鏈。但是，其它主鏈可以包括雜原子，其中該聚合物通過(guò)縮合反應(yīng)或者一些其它方式來(lái)形成。用途該輻射-敏感性組合物和可成像元件可以用于提供用于各種目的的成^象元件。優(yōu)選應(yīng)用為正性工作平纟反印刷纟反前體，如下更詳細(xì)地描述。但是，這點(diǎn)并非本發(fā)明的唯一用途。例如，該可成^象元件也可以用作熱成像體系和用于形成掩模元件與印刷電路板。該輻射-敏感性組合物和可成^f象元件并非是以U.S.專利申"i青文獻(xiàn)2003/0050191(如上所述)中所述材料的方式彩色-形成的。支化羥基苯乙烯聚合物在組合物和可成像元件中提供了優(yōu)點(diǎn)的支化羥基苯乙烯聚合物，包括衍生自羥基苯乙烯，如衍生自4-羥基苯乙烯的重復(fù)單元，其重復(fù)單元進(jìn)一步被位于羥基鄰位的重復(fù)羥基苯乙烯單元(如4-羥基苯乙烯單元)取代。為了簡(jiǎn)化，下面討論將參照"4-羥基苯乙烯"，但是這點(diǎn)并非通過(guò)排除其它羥基苯乙烯單體如2-羥基苯乙烯和3-羥基苯乙烯來(lái)限定本發(fā)明。這些支化聚合物的重均分子量(Mw)為1,000~30,000,優(yōu)選為1,000-10,000,且更優(yōu)選為3,000~7,000。另外，它們的多分散性小于2且優(yōu)選地為1.5~1.9。一些實(shí)施方式中，該支化羥基苯乙烯聚合物為均聚物，其中基本上每個(gè)羥基苯乙烯重復(fù)單元進(jìn)一步被位于羥基鄰位的4-羥基苯乙烯重復(fù)單元取代(由此"支化，，)。該支化4-羥基苯乙烯均聚物基本上僅含有"支化羥基苯乙烯重復(fù)單元"，其例如如下結(jié)構(gòu)式(I)中所示，其中斷鍵可以通過(guò)氫或額外的4-羥基苯乙烯重復(fù)單元結(jié)束10(I)該支化羥基苯乙烯聚合物可以是均聚物或共聚物，其中大多數(shù)重復(fù)單元(至少90mol。/。且優(yōu)選至少95mol。/o)為如上結(jié)構(gòu)式(I)所定義的支化羥基苯乙烯重復(fù)單元。由此，這些均聚物和共聚物可以由如下結(jié)構(gòu)式(II)所示(n)其中，A和B—起提供聚合物主鏈，其中A表示如結(jié)構(gòu)式(I)所定義的支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，B表示非支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，x表示90~100mol%,且y表示0~10mol%。優(yōu)選地，x表示95~100mol%,且y表示0~5mol%。適用于本發(fā)明的其它共聚物具有至少60mol。/。衍生自羥基苯乙烯的重復(fù)單元，其中至少90mol。/o所述支化羥基苯乙烯重復(fù)單元進(jìn)一步被位于羥基鄰位的重復(fù)羥基苯乙烯單元取代。例如，更特別地，羥基苯乙烯共聚物可以由如下結(jié)構(gòu)式(III)所示-(A)x-(B)y陽(yáng)(C)z-(III)其中，A、B、和C一起提供聚合物主鏈，其中A表示如上結(jié)構(gòu)式(I)所定義的支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，B表示非支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，且C表示不同于A和B重復(fù)單元的重復(fù)單元，x表示60~95mol%,y表示0~10mol%,z表示0~40mol%。優(yōu)選地，x表示75~90mol%，y表示0~5mol%,z表示0~20mol%。獲得C重復(fù)單元的單體包括但不限定于，除羥基苯乙烯單體之外的一種或多種(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、乙烯基醚、乙烯基酯、乙烯基酮、烯爛、不飽和酰亞胺、不飽和酸酐、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基?？ㄟ?、4-乙烯基吡啶、(甲基)丙烯腈、和苯乙烯單體。優(yōu)選地，這些重復(fù)單元衍生自一種或多種(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、N-取代的馬來(lái)酰亞胺、和(甲基)丙烯酰胺的重復(fù)單元。該支化羥基苯乙烯聚合物可以通過(guò)現(xiàn)有技術(shù)中描述的任意方法來(lái)制備，包括例如，U.S.5,554,719(Sounik)和6,455,223(Hatakayama等)以及美國(guó)專利申請(qǐng)文獻(xiàn)2006/0099531(Sheehan等)中所述的方法。許多該支化羥基苯乙烯聚合物也是可商購(gòu)獲得的，如下實(shí)施例中所示。通常，支化羥基苯乙烯聚合物以固體含量(組合物)或者干燥涂層(元件)為1099wt。/。存在，取決于其應(yīng)用于其中的元件的類型。輻射4丈感性組合物中，將該聚合物與優(yōu)選地為紅外輻射吸收化合物的輻射吸收化合物組合。對(duì)于單層可成像元件，支化羥基苯乙烯聚合物通常在涂層中以80~99.5wt%,且優(yōu)選為卯99.5wt。/。存在，基于干燥層重量，且在單個(gè)可成像層中包含10~100城％的全部聚合物粘合劑。多層可成像元件中，該支化羥基苯乙烯聚合物通常在涂層中(優(yōu)選地在最外可成像層中)以2099.5wt。/。存在，且包含10~100wt。/。的全部聚合物粘合劑，基于該層的干燥重量。單層可成像元件單層可成像元件為正性工作可成像元件，且本文中所述的支化羥基苯乙烯聚合物通常作為聚合物粘合劑存在于這些元件的單一可成像層中。優(yōu)選地，它們是該可成像層中唯一的聚合物粘合劑。通常，通過(guò)將含有一種或多種支化羥基苯乙烯聚合物和輻射吸收化合物的輻射-敏感性組合物的配方適當(dāng)?shù)厥┯玫竭m宜基底上以形成可成4象層，進(jìn)而形成單層可成^象元件。在施用該配方之前，通常以如下所述各種方式處理或涂覆該基底。可以將基底處理以提供"中間層"來(lái)改進(jìn)的粘合力或親水性，并將單個(gè)可成像層施用到該中間層之上。該基底通常具有親水性表面，或者至少比成像側(cè)上施用的成像配方親水性更好的表面。該基底包含可以是由通常用于制備可成像元件如平12版印刷板的任意材料組成的支持體。其通常為片材、膜、或箔的形式，并且是堅(jiān)固的、穩(wěn)定的、和柔性的，而且在使用條件下耐尺寸變化的，使得顏色記錄將記錄全色彩圖像。典型地，該支持體可以是任意自支撐材料，包括聚合物膜(如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纖維素酯聚合物、和聚苯乙烯膜)、玻璃、陶瓷、金屬片或箔，或者硬紙(包括涂覆樹脂的和金屬化紙)，或者任意這些材料的層壓體(如鋁箔層壓于聚酯膜上)。金屬支持體包括鋁、銅、鋅、鈦、及其合金的片材或箔?？梢栽谝粋€(gè)或個(gè)兩個(gè)面上采用"底，，層改性聚合物膜支持體以提高親水性，或者可以類似地涂覆紙支持體以提高平整性。底層材料實(shí)例包括但不限定于，烷氧基硅烷、氨基-丙基三乙氧基硅烷、縮水甘油氧基丙基-三乙氧基硅烷、和環(huán)氧樹脂功能聚合物，以及卣化銀照相膠片中使用的傳統(tǒng)親水性底層材料(如明膠和其它天然形成的與合成的親水性膠體和包括偏氯乙烯共聚物的乙烯基聚合物)。優(yōu)選基底是由可以采用本領(lǐng)域中已知技術(shù)涂覆或處理的鋁支持體形成，所述技術(shù)包括物理?；?，電化學(xué)粒化和化學(xué)?；S后陽(yáng)極化。優(yōu)選地，將鋁片機(jī)械或者電化學(xué)?；⒉捎昧姿峄蚴Ｋ岷蛡鹘y(tǒng)方法陽(yáng)相^化?？梢酝ㄟ^(guò)用例如硅酸鹽、糊精、氟化鋯鉀、六氟硅酸、磷酸鹽/氟化鈉、聚(乙烯基磷酸)(PVPA)、乙烯基磷酸共聚物、聚(丙烯酸)、或丙烯酸共聚物溶液處理鋁支持體，形成任選的中間層。優(yōu)選地，采用已知方法用聚(丙烯酸)處理?；完?yáng)極化的鋁支持體以改進(jìn)表面親水性?；缀穸瓤梢宰兓?，但是應(yīng)當(dāng)足以維持印刷中的磨損而且足夠薄以包裹印刷版。優(yōu)選實(shí)施方式包括厚度為100600微米的處理過(guò)的鋁箔?？梢圆捎每轨o電劑和/或滑動(dòng)層或遮光層涂覆基底的背面(非成像側(cè))以改進(jìn)可成Y象元件的處理和"感覺(jué)"?；滓部梢允蔷哂惺┯糜谄渖系妮椛?敏感性組合物的圓柱形表面，且由此是印刷機(jī)的組成部件。該成像圓柱體的^吏用描述于例如U.S.5,713,287(Gelbart)。由此，該可成像層包括一種或多種支化鞋基苯乙烯聚合物(如上所述)和一種或多種輻射吸收化合物。雖然這些化合物可以是對(duì)150~1500nm的任意合適能量形式(例如，UV和可見光輻射)敏感，但是它們優(yōu)選地對(duì)紅外輻射敏感，并且由此，該輻射吸收化合物公知為紅外輻射吸收化合物("IR吸收化合物")，其吸收600~1400nm且優(yōu)選700~1200nm的輻射。該可成像層通常為單層可成像元件中的最外層。適宜IR染料的實(shí)例包括但并不限定于，偶氮染料、squarylmm染料、croconate染料、三芳基胺染料、thioazolmm染料、indolium染料、oxonol染料、oxazolmm染料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚花青染料、吲哚三羰花青染料、半花青染料、鏈霉花青染料、氧雜三羰花青染料、硫代花青染料、硫代三羰花青染料、部花青染料、隱花青染料、萘酞花青染料、聚苯胺染料、聚他咯染料、聚噻吩染料、chalcogenopyryloarylidene禾口雙(chalcogenopyrylo)-聚甲川染料、氧化口引哚染料、吡喃染料、p比唑啉偶氮染料、喁嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亞胺染料、曱川染料、芳基甲川染料、聚曱川染料、斯夸苷染料、^惡唑染料、crocomne染料、卟啉染料、和前述染料類型的任意取代或離子形式。適宜染料描述于例如U.S.4,973,572(DeBoer)、5,208，135(Patel等)、5,244,771(JandmeSr.等)、和5，401,618(Chapman等)，和EP0823327A1(Nagasaka等)。具有陰離子發(fā)色團(tuán)的花青染料也是有用的。例如，花青染料可以含有具有含兩個(gè)雜環(huán)基團(tuán)的發(fā)色團(tuán)。另一實(shí)施方式中，該花青染料可以具有至少兩個(gè)石黃酸基團(tuán)，更特別地兩個(gè)磺酸基團(tuán)和兩個(gè)indolenme基團(tuán)。適用的這類IR-敏感性花青染料描述于例如美國(guó)專利申請(qǐng)文獻(xiàn)2005-0130059(Tao)。適用類型的適宜花青染料的一般描述由WO2004/101280(Munnelly等)的第0026段中式子所示。除了低分子量IR-吸收染料之外，也可以使用鍵合于聚合物的IR染料部分。另外，也可以使用IR染料陽(yáng)離子，即該陽(yáng)離子為與側(cè)鏈中包含羧基、磺基、磷酸基、或膦酸基的聚合物離子相互作用的染料鹽的IR吸收部分。近紅外吸收花青染津+也是適用的，且描述于例如U.S.6,309,792(Hauck等)、6,264，920(Achilefu等)、6,153,356(Urano等)、5,496,卯3(Watanate等)。適宜染料可以采用傳統(tǒng)方法和原材料來(lái)合成，或者由各種商購(gòu)來(lái)源獲得，包括AmericanDyeSource(BaieD'Urfe，Quebec,Canada)和FEWChemicals(德國(guó))。其它適用于近紅外二才及管激光束的染泮十描述于例如US4,973，572(如上所述)。適用的IR吸收化合物包括各種顏料，包括炭黑，如采用本領(lǐng)域中眾所周知的溶解基團(tuán)進(jìn)行表面官能化的炭黑。接枝于親水性、非離子聚合物的，如FX-GE-003(NipponShokubai生產(chǎn))，或者采用離子基團(tuán)進(jìn)行表面官能化的，如CAB腸0隱JET⑧200或CAB-O-JET300(Cabot公司生產(chǎn))的炭黑也是適用的。其它適用的顏料包括，但并非限定于，酞菁綠、苯胺黑堿、鐵(m)氧化物、氧化錳、普魯士藍(lán)、和巴黎藍(lán)。顏料顆粒的尺寸不應(yīng)大于可成像層的厚度，其優(yōu)選地顏料顆粒尺寸將小于可成像層厚度的一半。單層可成像元件中，輻射吸收化合物通常在干燥涂層中存在0.5~5wt%,且優(yōu)選地其為IR染料，存在量為0.5~3wt%?？蛇x4奪地該用量可以通過(guò)干燥膜中0.05-3、且優(yōu)選0.1~1.5的吸收率范圍來(lái)定義，通過(guò)反射率UV-可見光語(yǔ)技術(shù)來(lái)測(cè)量。這種目的所需的特定用量對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是顯而易見的，取決于所用的具體化合物?？蛇x擇地，該輻射吸收化合物可以包含在與單個(gè)可成像層熱接觸的單獨(dú)層中。由此，成像期間，可以將輻射吸收化合物的作用轉(zhuǎn)移到可成像層中，無(wú)需最初結(jié)合到其中的化合物?？沙上駥右部梢园ㄒ环N或多種其它化合物，其作為溶解抑制劑用于支化羥基苯乙烯聚合物的溶解性-抑制組分。溶解抑制劑典型地具有極性官能團(tuán)，認(rèn)為其作為用于與聚合物粘合劑中多種基團(tuán)氫鍵合的受體位點(diǎn)。該受體位點(diǎn)包括具有高電子密度的原子，優(yōu)選地選自電負(fù)性第一行元素如碳、氮、和氧。優(yōu)選可溶于堿性顯影劑的溶解抑制劑。適用于溶解抑制劑的極性基團(tuán)包括但并不限定于，醚基團(tuán)、胺基團(tuán)、偶氮基團(tuán)、硝基基團(tuán)、二茂鐵基團(tuán)、亞砜基團(tuán)、砜基團(tuán)、重氮基團(tuán)、重氮鹽基團(tuán)、酮基團(tuán)、磺酸酯基團(tuán)、磷酸酯基團(tuán)、三芳基甲烷基團(tuán)、錄基團(tuán)(如锍、碘鋪、磷鋪基團(tuán))，其中氮原子結(jié)合到雜環(huán)中的基團(tuán)，和含有帶正電原子(如括，例:口，四^基銨化合物和季:雜環(huán)化合物如喹啉;翁化合物、苯并噻唑錄化合物、吡啶錈化合物、和咪唑鋪化合物。適用作為溶解抑制劑的進(jìn)一步詳細(xì)內(nèi)容和示意性4^合物描述于例如U.S.6,294,311(如上所示)。特別適用的溶解抑制劑包括三芳基甲烷染料，如乙基紫、結(jié)晶紫、孔雀綠、亮綠、維多利亞藍(lán)B、維多利亞藍(lán)R、和維多利亞純藍(lán)BO、BASONYL⑧紫610和D11(PCAS,Longjumeau,法國(guó))。這些化合物也可以作為對(duì)比染料，在顯影的可成像元件中區(qū)分未成像區(qū)域與成像區(qū)域。當(dāng)溶解抑制劑存在于可成像層中時(shí)，其用量可以在很大程度上變化，但是通常其存在量為至少0.5wt。/。到高達(dá)30wt%,且優(yōu)選為1~15wt。/。(基于干層總重)。該可成像層也可以包括一種或多種其它粘合劑樹脂，具有或不具有極性基團(tuán)，或者粘合劑樹脂的混合物，一些具有極性基團(tuán)且其它不具有極性基團(tuán)。最適宜的其它粘合劑樹脂包括酚樹脂如酚醛清漆和可熔酚醛樹脂，且該樹脂也可以包括一種或多種側(cè)鏈重氮、羧酸酯、磷酸酯、石黃酸酯、亞磺酸酯、或醚基團(tuán)?？梢詫⒃摲訕渲牧u基轉(zhuǎn)化為-T-Z基團(tuán)，其中T表示極性基團(tuán)且Z表示非-二疊氮官能團(tuán)，例如如US6,218,083(McCullough等)和WO99/001795(McCullough等)中所述。也可以將羥基采用含有鄰-萘醌二疊氮部分的重氮基團(tuán)衍生化，例如如US5,705,308(West等)和5,705,322(West等)中所述。這些其它粘合劑樹脂可以以0~50wt。/。的用量存在于可成像層中，且優(yōu)選地為025wt。/Q(基于干層總重)。該可成像層可以進(jìn)一步包括傳統(tǒng)用量的多種添加劑，包括分散劑、潤(rùn)濕劑、殺菌劑、增塑劑、用于涂布性能或其它性能的表面活性劑、增粘劑、用于能使繪圖顯象的染料或著色劑、pH調(diào)節(jié)劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧劑、顯影助劑、流變學(xué)改性劑或其組合，或者平版印刷領(lǐng)域中常用的任意其它附加物。該正性工作單層可成像元件可以通過(guò)采用傳統(tǒng)涂布或?qū)訅悍椒▽优浞绞┯玫交妆砻?和提供用于其上的任意其它親水性層)之上來(lái)制備。由此，可以通過(guò)將所期望的組分分散或溶解于適宜涂布溶劑中，并采用適宜設(shè)備和方法(如旋涂、刮涂、照相凹板式涂布、浸涂、切槽涂布、棒涂、盤條涂布、輥涂、或擠出漏斗涂布)將所獲配方依次或者同時(shí)施用到基底上來(lái)施用該配方。也可以通過(guò)噴霧到適宜支持體(如凸壓印刷筒)來(lái)施用該配方。單一可成像層的涂布量為0.52.5g/m2且優(yōu)選為l~2g/m2。用于涂布層配方的溶劑的選擇取決于該配方中支化羥基苯乙烯聚合物和其它聚合物材料與非聚合物組分的性質(zhì)。通常，不采用丙酮或其它酮、四氬呋喃、l-曱氧基丙-2-醇、乙酸l-甲氧基-2-丙酯及其混合物，16采用本領(lǐng)域中眾所周知的條件和技術(shù)，涂布該可成^象層配方?？蛇x地，可以通過(guò)傳統(tǒng)沖齊出涂布方法由各個(gè)層組合物的熔體混合物來(lái)施用層。典型地，該熔體混合物含有非揮發(fā)性有機(jī)溶劑。多個(gè)層配方的施用之間可以采用中間干燥步驟，由此在涂布其它配方之前除去溶劑。干燥步驟也可以有助于防止多個(gè)層的混合。如下實(shí)施例1中描述了用于制備正性工作單層可成像元件的示意性方法。多層可成像元件通常，多層可成像元件包括基底、至少一個(gè)內(nèi)層(也公知為"底層")、和置于內(nèi)層之上的外層(也公知為"頂層"或"面層")。在熱成像之前，該外層是不可通過(guò)堿性顯影劑除去的，但是在熱成像之后，該外層的成像區(qū)域是可通過(guò)堿性顯影劑除去的。內(nèi)層也是可通過(guò)堿性顯影劑除去的。一種或多種支化羥基苯乙烯聚合物(如上所述)基本上全部存在于外層中。即，該元件中至少99wt。/。的全部支化羥基苯乙烯聚合物是在外層中。輻射吸收化合物(如上所定義)優(yōu)選地主要存在于內(nèi)層中，在干燥涂層中為525wto/o且優(yōu)選為5~15wt%?？蛇x地該4匕合物可以存在于內(nèi)層和外層之間的單獨(dú)層中。通過(guò)將內(nèi)層組合物適當(dāng)?shù)厥┯玫饺缟详P(guān)于單層可成像元件詳細(xì)描述的適宜基底上，形成該多層可成像元件。?；完?yáng)極化鋁片是用于多層可成^象元件的優(yōu)選基底。該鋁片也優(yōu)選地用PVPA處理(如上所迷)。將內(nèi)層置于外層與基底之間。將其置于基底之上且，更典型地，直接置于基底上。該內(nèi)層包括作為粘合劑的一種或多種聚合物材料。優(yōu)選的聚合物材料，存在時(shí)，為酚醛清漆樹脂，加入其以改進(jìn)使用后顯影烘焙工藝時(shí)印刷單元的運(yùn)轉(zhuǎn)周期。適用于內(nèi)層的其它聚合物材料包括聚乙烯縮醛、包含羧基的(甲基)丙烯酸樹脂、乙酸乙烯酯巴豆酸酯-新癸酸乙烯酯(vmylneodecanoate)共聚物酚樹脂、馬來(lái)酸化木松香、苯乙烯-馬來(lái)酸酐共聚物、(甲基)丙烯酰胺聚合物、衍生自N-取代環(huán)狀酰亞胺的聚合物，及其組合。提供了耐受潤(rùn)版液和腐蝕洗液二者的聚合物材料公開于US6,294,31l(如上所述)。特別適用的聚合物材料包括聚乙烯縮醛，和衍生自N-取代環(huán)狀酰亞胺(特別是N-苯基馬來(lái)酰亞胺)、(甲基)丙烯酰胺(特別是甲基丙烯酰胺)、和(甲基)丙烯酸(特別是甲基丙烯酸)的共聚物。這類優(yōu)選聚合物材料為包含20~75mol。/o且優(yōu)選35~60moiy。的共聚物，或衍生自N-苯基馬來(lái)酰亞胺、N-環(huán)己基馬來(lái)酰亞胺、N-千基馬來(lái)酰亞胺、或其混合物的重復(fù)單元，1050mol。/。且優(yōu)選1540mol。/。衍生自丙烯酰胺、曱基丙烯酰胺、或其混合物的重復(fù)單元，和5~30mol。/o且優(yōu)選10~30mol。/o衍生自甲基丙烯酸的重復(fù)單元?？梢允褂闷渌H水性單體如甲基丙烯酸羥基乙酯代替一些或全部甲基丙烯酰胺。可以使用其它堿性可溶單體如丙烯酸代替一些或全部甲基丙烯酸。任選地，這些聚合物也可以包括衍生自(曱基)丙烯腈或N-[2-p-氧代-l-咪唑啉基)乙基]曱基丙烯酰胺的重復(fù)單元。這些聚合物材料可溶于可以用作內(nèi)層涂布溶劑的乳酸曱酯/曱醇/二氧戊環(huán)(15:42.5:42.5wt。/。)混合物。但是它們不溶于可以用作將外層涂布在內(nèi)層之上且不使內(nèi)層溶解的溶劑如丙酮和甲苯。內(nèi)層也可以包括一種或多種輔助聚合物材料，其為具有活化羥甲基和/或活化烷基化羥曱基基團(tuán)的樹脂。這些樹脂包括，例如可熔酚醛樹脂和它們的烷基化類似物、鞋甲基蜜胺樹脂和它們的烷基化類似物(例如蜜胺-曱醛樹脂)、羥甲基甘脲樹脂和烷基化類似物(例如，甘脲-曱醛樹脂)、硫脲-甲醛樹脂、胍胺-甲醛樹脂、和苯并胍胺-曱醛樹脂?？缮藤?gòu)獲得的蜜胺-甲醛樹脂和甘脲-曱醛樹脂包括，例如，CYMEL⑧樹脂(CytecIndustries,Inc.)和MKALAC⑧樹脂(SanwaChemical)。具有活化鞋甲基和/或活化烷基化羥曱基基團(tuán)的樹脂優(yōu)選為可熔酚醛樹脂或者可熔酚醛樹脂混合物?？扇鄯尤渲潜绢I(lǐng)域技術(shù)人員所公知的。它們通過(guò)在堿性條件下使用過(guò)量苯酚由苯酚與醛的反應(yīng)制得?？缮藤?gòu)獲得的可熔酚醛樹脂包括，例如，GP649D99可熔酚醛(GeorgmPacific)。其它適用的輔助聚合物材料包括，包含1-30mol。/o且優(yōu)選3~20mol。/。衍生自N-苯基馬來(lái)酰亞胺的重復(fù)單元、1~30mol。/。且優(yōu)選5~20mol。/。衍生自曱基丙烯酰胺的重復(fù)單元、2075mol。/。且優(yōu)選35~60mol。/。衍生自丙烯腈的重復(fù)單元、和20~75mol。/。且優(yōu)選35~60mol%衍生自一種或多種如下結(jié)構(gòu)(IV)式的單體的重復(fù)單元的共聚物CH2=C(R3)-C02-CH2CH2-NH-CO-NH-p-C6H4-R2(IV)其中，R2為OH、COOH、或S02NH2,且R3為H或甲基，和任選地，1~30mol。/。且優(yōu)選地，存在時(shí)，3~20moP/。衍生自一種18或多種如下結(jié)構(gòu)式(V)的單體的重復(fù)單元的共聚物CH2=C(R5)-CO-NH-p-C6H4-R4(V)其中，R4為OH、COOH、或S02NH2，且Rs為H或甲基。其它適用的輔助聚合物材料可以包括，包含2575mol。/。且優(yōu)選35~60mol。/。衍生自N-苯基馬來(lái)酰亞胺的重復(fù)單元、10~50mol。/。且優(yōu)選15~40mol。/Q衍生自甲基丙烯酰胺的重復(fù)單元、和530mol。/。且優(yōu)選10~30mol。/。衍生自甲基丙烯酸的重復(fù)單元的共聚物。這些輔助共聚物公開于U.S.6,294,311和6,528,228(二者如上所述)。如上所述的任意其它聚合物材料的存在量可以為545wt。/。且優(yōu)選為525wt。/。，基于內(nèi)層的總干重。描述于例如Macromolecules.第2巻，第2版，H.G.Elms,Plenum,NewYork,1984第20和21章中方法如自由基聚合來(lái)制備。適用的自由基引發(fā)劑為過(guò)氧化物如過(guò)氧化苯曱酰、氬過(guò)氧化物如枯基過(guò)氧化氬和偶氮化合物如2,2'-偶氮雙(異丁腈)(AIBN)。適宜反應(yīng)溶劑包括對(duì)反應(yīng)物惰性且不會(huì)不利地影響反應(yīng)的液體。該內(nèi)層可以包括其它組分如表面活性劑、分散助劑、潤(rùn)濕劑、殺菌劑、增粘劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧劑、和著色劑。內(nèi)層通常具有0.52.5g/m2且優(yōu)選12g/m2的干層涂布量。將可成像元件的外層置于內(nèi)層之上，且優(yōu)選實(shí)施方式中，內(nèi)層與外層之間不存在中間層。外層通常包括一種或多種如上所定義的支化羥基苯乙烯聚合物。除了如上所述的支化羥基苯乙烯聚合物之外，該外層也可以包括作為成膜粘合劑材料的其它聚合物材料。該其它聚合物材料可以包括由馬來(lái)酸酐和一種或多種苯乙烯單體(即苯乙烯和苯環(huán)上具有多種取代基的苯乙烯衍生物)形成的聚合物、由甲基丙烯酸甲酯和一種或多種含羧基單體形成的聚合物、及其混合物。這些聚合物可以包括衍生自所述單體以及衍生自其它、但任選的單體[如(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈和(甲基)丙烯酰胺]的重復(fù)單元。如果存在，這些其它聚合物通常包括1~50mol%衍生自馬來(lái)酸酐的重復(fù)單元和剩余的衍生自苯乙歸單體與任選地其它可聚合單體的重復(fù)單元。由曱基丙烯酸甲酯和含羧基單體形成的聚合物通常包含80~98mol。/o衍生自曱基丙烯酸甲酯的重復(fù)單元。該含羧基重復(fù)單元可以衍生自，例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、馬來(lái)酸、和本領(lǐng)域中已知的類似單體。這些其它聚合物材料在外層中的存在量可以為25~90wt%、且優(yōu)選為2575wt。/。，同時(shí)支化羥基苯乙烯聚合物的存在量為10~75wt%、且優(yōu)選為2575wt。/。，都基于外層的總干重。該外層可以進(jìn)一步包括單體或聚合物化合物，包括苯醌二疊氮化物和/或萘醌二疊氮化物部分。該聚合物化合物可以是用苯醌二疊氮化物和/或萘醌二疊氮化物部分4汙生化的酴樹脂，例如描述于US5,705，308(West等)和5,705,322(West等)。也可以使用這些化合物的混合物。這類適用聚合物化合物的實(shí)例為P-3000,焦掊酚/丙酮樹脂的萘醌二疊氮化物(可從PCAS,法國(guó)獲得)。其它含二疊氮化物的部分適用化合物描述于例如U.S.6,294,311(如上所述)和5,143，816(Mizutam等)。該具有苯醌和/或萘醌二疊氮化物部分的單體或聚合物化合物在外層中的存在量通?？梢詾橹辽?。/。、且優(yōu)選為10~50%,基于外層的總干重。該外層可以任選地包括為著色劑的其它化合物，其可以起到堿性可溶聚合物的溶解性抑制組分的作用。這些著色劑典型地具有極性官能團(tuán)，認(rèn)為其起到用于與聚合物粘合劑中各種基團(tuán)氳鍵合的受體位點(diǎn)的作用。優(yōu)選可溶于堿性顯影劑的著色劑。適用的極性基團(tuán)包括但并不限于，重氮基團(tuán)、重氮f翁基團(tuán)、酮基團(tuán)、磺酸酯基團(tuán)、磷酸酯基團(tuán)、三芳基甲烷基團(tuán)、f翁基團(tuán)(如锍、碘f翁、磷f翁基團(tuán))，其中氮原子結(jié)合到雜環(huán)中的基團(tuán)，和含有帶正電原子(如季銨鹽基團(tuán))的基團(tuán)。進(jìn)一步詳細(xì)內(nèi)容和示意性著色劑描述于例如US6,294,31l(如上所示)。特別適用的著色劑包括三芳基曱烷染料，如乙基紫、結(jié)晶紫、孔雀綠、亮綠、維多利亞藍(lán)B、維多利亞藍(lán)R、和維多利亞純藍(lán)BO。這些化合物也可以作為對(duì)比染料，在顯影的可成像元件中區(qū)分未成像區(qū)域與成像區(qū)域。當(dāng)著色劑存在于外層時(shí)，其用量可以寬泛地變化，但是通常其存在量為至少0.1%到高達(dá)30%,且優(yōu)選為0.5~15%，基于外層的總干重。該外層也可以任選地包括曬印染津+、表面活性劑、分散助劑、潤(rùn)濕劑、殺菌劑、增粘劑、千燥劑、消泡劑、防腐劑、和抗氧劑。該外層通常具有0.2~lg/n^且優(yōu)選0.4~0.7g/m2的干燥涂布量。20層。該單獨(dú)層可以作為阻隔層以使輻射吸收化合物從內(nèi)層到外層的遷移合物材料^溶于其中的i少一種有i溶劑。這類優(yōu)°選聚、:物材料為聚(^烯醇)。通常，這種阻隔層厚度應(yīng)當(dāng)小于內(nèi)層的1/5,且厚度優(yōu)選地小于內(nèi)層的1/10。該多層可成像元件可以通過(guò)采用傳統(tǒng)涂布或?qū)訅悍椒ㄒ来螌?nèi)層配方施用到基底表面上(和提供于其上的任意其它親水層)、并隨后將外層配方施用到內(nèi)層之上來(lái)制備。重要的是避免內(nèi)外層配方互混?？梢酝ㄟ^(guò)將所期望的組分溶解于適宜涂布溶劑中，并采用適宜設(shè)備和工序(如旋涂、刮涂、照相凹板式涂布、浸涂、切槽涂布、棒涂、盤條施用該內(nèi)層禾:外層。；也可以通過(guò)噴霧到適宜支;寺體5(如凸壓印^i"筒)來(lái)施用該配方。用于涂布內(nèi)外層二者的溶劑的選擇取決于該配方中聚合物材料與其它組分的性質(zhì)。為了防止在施用外層配方時(shí)內(nèi)外層配方混合或者內(nèi)層不采用曱乙酮(MEK)、l-甲氧基丙-2-醇、Y-丁內(nèi)酯、和水的溶劑混合物，二乙酮(DEK)、水、乳酸曱酯、和Y-丁內(nèi)酯的混合物，或者DEK、水、和乳酸甲酯的混合物來(lái)涂布內(nèi)層配方。通常不采用DEK或DEK和乙酸1-曱氧基-2-丙酯的混合物來(lái)涂布外層配方?？蛇x地，可以通過(guò)傳統(tǒng)擠出涂布方法由各個(gè)層組合物的熔體混合物來(lái)施用到內(nèi)層和外層。典型地，該熔體混合物含有非揮發(fā)性有機(jī)溶劑。多個(gè)層配方的施用之間可以采用中間干燥步驟，由此在涂布其它配方之前除去溶劑。干燥步驟也可以有助于防止多個(gè)層的混合。如下實(shí)施例2~5中描述了用于制備多層可成像元件的示意性方法。調(diào)濕(conditioning)通常，在如上所述的適宜基底上提供一個(gè)或多個(gè)可成像層，其中至少一個(gè)含有支化羥基苯乙烯聚合物。也在一個(gè)或多個(gè)層中提供輻射吸收化合物，在相同或不同層中作為支化羥基苯乙烯聚合物。在基底上使一個(gè)或多個(gè)可成像層干燥之后(即，該涂層是自支撐的且21干燥到可接觸)，可以將所獲單層或多層可成像元件在4090。C(優(yōu)選5070。C)下熱處理至少4小時(shí)且優(yōu)選至少20小時(shí)，且更優(yōu)選至少24小時(shí)。該熱處理也公知為"調(diào)濕"步驟。也可以期望地，在熱處理期間，將可成^象元件包裹或者封閉在水不可滲透片材中，以提供從前體中水分揮發(fā)的有效阻隔。優(yōu)選地，該片材足夠柔軟以與可成像元件(或其組件)的形狀接近一致，且通常與可成像元件(或其組件)緊密接觸。更優(yōu)選地，將水不可滲透片材密封在可成像元件或其組件的邊緣周圍。優(yōu)選的水不可滲透片材是聚合物膜或金屬箔，其被密封在可成像元件或其組件的邊緣周圍?？蛇x地，在其中相對(duì)濕度控制到至少25%、優(yōu)選至少30%、且更優(yōu)選至少35%的環(huán)境中進(jìn)行可成^象元件(或其組件)的熱處理(或調(diào)濕)。相對(duì)濕度定義為空氣中存在的水蒸汽的量，表示為在給定溫度下飽和所需水的量的百分比。優(yōu)選地，將含有至少IOO個(gè)多層可成像元件的組件在相同溫度下處理。更一般地，該組件包括至少500個(gè)可成像元件。可能在使用水不可滲透片材的該組件的頂部和底部難以獲得良好翹曲，且此時(shí)，可以期望地在該組件的這些區(qū)域中使用"虛設(shè)"或廢棄元件。由此，熱處理的(或者"調(diào)濕的，，)組件可以包4舌至少100個(gè)有用的可成像元件以及虛設(shè)或廢棄元件。這些虛設(shè)或廢棄元件也起到保護(hù)有用元件免受翹曲或密封工藝導(dǎo)致的損傷的作用?？蛇x地，可以將可成〗象元件以箔的形式進(jìn)行熱處理在稍后時(shí)間切割為單個(gè)元件。這些箔可以包括至少1000m2的可成^象表面且更典型地包括至少3000m2的可成像表面。如果期望的話，可以通過(guò)間隔材料將相鄰箔或"螺旋形物，，或巻'、或者組件的層分開，例如紙張或可以采用塑料或樹脂(如聚乙烯)按規(guī)定尺寸制作的織物。關(guān)于這種"調(diào)濕"工藝的其它詳細(xì)內(nèi)容提供在共同待審且通常指定的U.S.S.N.11/366,076中，其由J.Mulligan、E.Clark和K.Ray在2006年3月2日提交。成像條件本發(fā)明的單層和多層可成像元件可以具有任意有用形式，包括但不限定于，印刷板前體、印刷筒、印刷套管和印刷膠帶(包括柔性印刷網(wǎng))。優(yōu)選地，可成像單元為用于形成平版印刷板的印刷板前體。印刷板前體可以是任意適用尺寸和形狀(例如，正方形或矩形)，具有置于適宜基底上的必要可成像層。印刷筒和套管公知為具有圓柱形基底和可成像層的旋轉(zhuǎn)印刷元件。中空或?qū)嵭慕饘傩究梢杂米饔∷⑻坠艿幕住Ｊ褂闷陂g，將單層和多層可成像元件曝光于適宜輻射源如UV、可見光、或紅外輻射，取決于輻射-敏感性組合物中存在的輻射吸收化合物，波長(zhǎng)為150~1400nm。優(yōu)選地采用波長(zhǎng)為700~1200nm的紅外激光器進(jìn)行成像。用于曝光成像單元的激光器優(yōu)選為二極管激光器，由于二極管激光器系統(tǒng)的可靠性和低維護(hù)性，但是也可以使用其它激光器如氣體或固態(tài)激光器。激光器成像的能量、強(qiáng)度和曝光時(shí)間的組合對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見。目前，可商購(gòu)獲得的圖像制版機(jī)(setter)中使用的高性能激光器或激光器二極管發(fā)出波長(zhǎng)為800~850nm或者1060~1120nm的紅外輻射。成像設(shè)備可以僅起到制版機(jī)的作用，或者可以將其直接結(jié)合到平版印刷機(jī)中。后一種情形下，印刷可以在成像之后立即開始，由此大大降低了印刷準(zhǔn)備時(shí)間。成像設(shè)備可以成形為平板記錄器或者鼓式記錄器，其中將可成像元件安裝在鼓的內(nèi)或外圓柱表面上。適用的成像設(shè)備可從EastmanKodakCompany的子公司Creo(Bumaby,BritishColumbia,Canada)以型號(hào)CreoTrendsetter圖像制版機(jī)獲得，其含有發(fā)出波長(zhǎng)830nm的近紅外輻射的激光器二極管。其它適宜的成像源包括在1064nm波長(zhǎng)下操作的Crescent42TPlatesetter(可從GerberScientific,Chicago,IL獲得)，和ScreenPlateRite4300系列或8600系列制版機(jī)(可從Screen,Chicago,IL獲得)。其它有用的輻射源包括直接成像印刷機(jī)，其可以使元件成像，同時(shí)將其連接于印刷板筒體。適宜直接成像印刷機(jī)的實(shí)例包括HeidelbergSM74-Dl印刷機(jī)(可從Heidelberg,Dayton,OH獲得)。IR成像速率范圍可以為50~1500mJ/cm2，且更特別地為75~400mJ/cm2。雖然在實(shí)施本發(fā)明時(shí)優(yōu)選激光器成像，但是可以通過(guò)以成影像模式提供熱能的任意其它方式來(lái)提供成像。例如，可以采用熱敏頭(熱印刷頭)實(shí)現(xiàn)成像，其公知為"熱印刷"，描述于例如U.S.5,488,025(Martin等)。熱印刷頭可商購(gòu)獲得(例如以FujitsuThermalHeadFTP-040MCS001和TDKThermalHeadF415HH7-1089)。通常采用直接數(shù)字成像來(lái)進(jìn)行成像。將圖像信號(hào)以位圖數(shù)據(jù)文件存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)上。這些數(shù)據(jù)文件可以通過(guò)光柵圖像處理機(jī)(RIP)或其它適宜設(shè)備產(chǎn)生。構(gòu)成位圖以定義色彩色調(diào)以及篩網(wǎng)頻率和角度?？沙上裨某上癞a(chǎn)生包括成像(曝光)和未成像(未曝光)區(qū)域的潛像的成像元件。采用適宜堿性顯影劑使該成像元件顯影，除去最外層和其下層(包括內(nèi)層)的曝光區(qū)域，并使基底的親水表面曝光。由此，該可成像元件為"正性工作"(例如，"正性工作"平版印刷板前體)。親水表面的曝光(或者成像)區(qū)域排斥油墨，同時(shí)外層的未曝光(或者未成像)區(qū)域-接收油墨。更特別地，進(jìn)行顯影足夠時(shí)間以除去外層和其下層的成像(或者曝光)區(qū)域，但是不會(huì)長(zhǎng)到除去外層的未成像(或者未曝光)區(qū)域。由此，外層的成像(曝光)區(qū)域描述為在堿性顯影劑中"可溶解"或者"可除去"的，因?yàn)榭梢韵鄬?duì)于外層的未成像(或者未曝光)區(qū)域更容易地除去、溶解、或者分散于堿性顯影劑中。由此，術(shù)語(yǔ)"可溶解，，也表示"可分散"。成像元件通常采用傳統(tǒng)加工條件來(lái)顯影?？梢赃m用含水堿性顯影劑和有機(jī)溶劑基堿性顯影劑二者，其中對(duì)于單層元件優(yōu)選更高pH的含水堿性顯影劑，且對(duì)于多層元件優(yōu)選更高pH的有機(jī)溶劑基堿性顯影劑。含水堿性顯影劑通常具有至少7且優(yōu)選至少11的pH值。通常對(duì)于加工單層元件來(lái)說(shuō)更高pH值的顯影劑是最佳的。適用的堿性含水顯影劑包括3000Developer、9000Developer、GOLDSTARDeveloper、GOLDSTARPremiumDeveloper、GREENSTARDeveloper、ThermalProDeveloper、PROTHERMDeveloper、MX1813Developer、和MX1710Developer(均可從EastmanKodakCompany的子公司KodakPolychromeGraphics獲得)。這些組合物通常也包括表面活性劑、螯合劑(如乙二胺四乙酸的鹽)、和石咸性組分(如無(wú)機(jī)偏石圭酸鹽、有才幾偏硅酸鹽、氫氧化物、和碳酸氬鹽)。溶劑基堿性顯影劑通常為與水混溶的一種或多種有機(jī)溶劑的單相溶液。適用的有才幾溶劑包括酚與環(huán)氧乙烷和環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物[如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)],節(jié)醇，乙二醇和丙二醇與具有6個(gè)或更少碳原子的酸的酯，和乙二醇、二甘醇、和丙二醇與具有小于6個(gè)或更少碳原子的烷基的醚，如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。有機(jī)溶劑的存在量通常為0.5~15%,基于顯影劑總重。示意性溶劑基堿性顯影劑包括ND-IDeveloper、955Developer和956Developer(均可從EastmanKodakCompany的子公司KodakPolychromeGraphics獲得)。通常，通過(guò)用含顯影劑的敷料器摩擦或擦拭外層，將堿性顯影劑施用到成像元件?？蛇x地，可以采用顯影劑刷成像元件或者可以通過(guò)足夠力噴涂外層來(lái)施用顯影劑以除去曝光區(qū)域。再次，可以將成像元件浸入顯影劑中。在所有情形下，在具有優(yōu)異耐印刷室化學(xué)品的平版印刷板中制備顯影圖像。顯影之后，可以將成像元件用水沖洗并以適宜才莫式干燥。也可以將干燥元件用傳統(tǒng)樹膠溶液(優(yōu)選阿拉伯樹膠)進(jìn)行處理。也可以將成像和顯影元件在后烘焙操作中烘焙，可以進(jìn)行該操作以才是高所獲成像元件的運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間。烘焙可以在例如220°C24(TC下進(jìn)4亍7~10分鐘，或者在120。C下進(jìn)行30分鐘。可以通過(guò)將平版油墨和潤(rùn)版液施用到成像元件的印刷表面上進(jìn)行印刷。通過(guò)外層的非成像(或者未曝光或者未去除)區(qū)域吸收油墨，且通過(guò)成像和顯影處理而露出的基底親水表面吸收潤(rùn)版液。隨后將油墨轉(zhuǎn)移到適宜接收材料(如布料、紙張、金屬、玻璃、或塑料)中以在其上提供期望的圖像印花。如果期望的話，可以使用中間"轉(zhuǎn)印布"輥將油墨從成像單元轉(zhuǎn)移到接收材料。如果期望的話，可以采用傳統(tǒng)清潔方式和化學(xué)品在印花之間清潔成〗象單元。實(shí)施例提供如下實(shí)施例來(lái)闡述本發(fā)明的實(shí)施，但是并非旨在以任意方式限定本發(fā)明。實(shí)施例和分析方法中使用的組分和材料如下ACR1478表示N-苯基馬來(lái)酰亞胺/甲基丙烯酰胺/曱基丙烯酸(58:24:18wt%)的共聚物，采用傳統(tǒng)聚合方法和原材料制備。ACR1755表示N-[4-羧基苯基]曱基丙烯酰胺/丙烯腈/曱基丙烯酰胺/N-苯基馬來(lái)酰亞胺(37:48:10:5wt。/。)的共聚物，采用傳統(tǒng)聚合方法和原材料制備。BC表示2-丁氧基乙醇(ButylCELLOSOLVE)。BLO表示Y-丁內(nèi)酯。Byk307為聚乙氧基化二曱基聚硅氧烷共聚物，由BykChemie(Wallmgford,CT)獲得，以25wt。/。二曱苯/乙酸甲氧基丙酯溶液。結(jié)晶紫為三芳基甲烷染料(CI.42555),從AldnchChemicalCo.(Milwaukee,WI)獲得。Cymel303為改性蜜胺樹脂，從CytecIndustries,Inc.(WestPatterson,NJ)獲得。DAA表示雙丙酮醇。DEK表示二乙酮。Dll表示三芳基曱烷染料(CI.42555),即ethanammmm,N-[4-[[4-(二乙基氨基)苯基][4-(乙基氨基)-l-萘基]亞曱基]-2,5-亞環(huán)己烯-l-基]-N-乙基,鹽與5-苯甲?；?4-羥基-2-甲氧基苯磺酸(l:l),從PCAS(Longjumeau,France)獲得。956顯影劑為有機(jī)溶劑基(苯氧基乙醇)堿性顯影劑(KodakPolychromeGraphics,Norwalk,CT,EastmanKodakCompany的子公司》乙基紫為C丄42600(CAS2390-59-2,入max=596nm)，分子式為(p-(CH3CH2)2NC6H4)3C+Cr(AldrichChemicalCompany,Milwaukee,WI,USA)。IR染#牛A/人EastmanKodakCompany獲得且如下式所示IR染料AIR染料B為KayasorbPS21OCnE、IR染料，從NipponKayakuCo.,Ltd.(Tokyo,Japan)獲得。染料C從EastmanKodakCompany(Rochester,NY)獲得，且具有如下結(jié)構(gòu)26IR染料CMarukaLynkurMS-4P(或者"MS-4P")為線性聚(4-鞋基苯乙烯)(Mw7000-11,000)，從MamzenPetrochemicalCo.Ltd.(Japan)獲得。MEK表示曱乙酮。P3000表示焦掊酚/丙酮樹脂的萘醌二疊氮化物，可從PCAS(France)獲得。PB5表示支化聚0-羥基苯乙烯)(Mw5500-MOO),從HydnteChemicalCo.(Brookfield，MA)獲得。PD140表示曱基苯酚/曱醛清漆樹脂(75:25間-甲基苯酚/對(duì)-曱基苯酚，Mw7000),從BordenChemicalCo.(Louisville,KY)獲得。PGME表示l-甲氧基丙烷-2-醇(或者DowanolPM)。PHS-B表示高支化聚(4-羥基苯乙烯)(Mw4500),從HydriteChemicalCo.獲得。PMA表示乙酸l-甲氧基-2-丙酯。RX04表示苯乙烯-馬來(lái)酸酐共聚物，從GifuShellac(Japan)獲得。S0451為IR染料(入max=775nm)，從FEWChemicals(Germany)獲3曰付。S0094為IR染料(入max=813nm)，也從FEWChemicals獲得。基底A表示0.3mm規(guī)格鋁片，且已采用聚(乙烯基膦酸)進(jìn)行電化學(xué)?；?、陽(yáng)極化處理。SudanBlackB表示中性重氮染料(CI.26150)，從AldnchChemicalCo.(Milwaukee,WI)獲得。發(fā)明實(shí)施例1和對(duì)比實(shí)施例CI正性工作單層可成像元件如下制備本發(fā)明的單層可成像元件和本發(fā)明之外的對(duì)比元件(Cl)。由下面表I中所示的組分制備可成像涂層配方。27表I<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>將涂層配方過(guò)濾，施用到基底A上，并在ll(TC下在Gkmz&Jensen"UmgraphQuartz"爐中干燥2.5分鐘，由此提供約1.5/m2的干燥涂層重量。將所獲可成^象元件在CREOTMLotem400Quantum成像才幾上在50mJ/cm2~110mJ/cm2的能量范圍下曝光，并隨后在Glunz&Jensen"InterPlater85HD"處理器中施用GOLDSTARPremium顯影劑在21。C下顯影20秒鐘。評(píng)價(jià)所獲印刷板的敏感度(即澄清點(diǎn)通過(guò)顯影劑完全除去成像區(qū)域時(shí)的最小成像能量)和未成像區(qū)中青色密度損失。在BrookfieldDV-II+粘度計(jì)(20。C，軸N18,200rpm)中測(cè)量每個(gè)可成像層涂層配方的粘度(cps)。結(jié)果示于下表II中。表n<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>這些結(jié)果顯示，含有支化羥基苯乙烯聚合物的單層可成像元件提供了高熱敏感性，其中可成像層的曝光與非曝光區(qū)域之間的溶解性差距明顯。相反地，對(duì)比元件Cl對(duì)成像輻射相當(dāng)不敏感，且其可成像層在顯影劑中的溶解性變化也不大。實(shí)施例2和3和對(duì)比實(shí)施例C2和C3正性工作多層可成像元件按如下制備本發(fā)明的多層可成像元件2和3與對(duì)比實(shí)施例C2和C3。通過(guò)將ACR1478(6.34g)、IR染料A(1.13g)、Byk307(0.38g,10%NV,PGME中)溶解于(92.ng)MEK/PGME/BLO/水的溶劑混合物中，制得內(nèi)層涂布配方(每100g)。采用0.012英寸(0.03cm)盤條將所獲溶液涂布到基底A上并干燥，由此提供1.5g/n^干燥涂層重量。采用下表III中所示的組分制備外層涂布配方(每30g)。采用0.006英寸(0.015cm)線繞棒將每種涂布配方施用到干燥內(nèi)層上并干燥，由此提供0.7g/n^干燥涂層重量。表m元件PD140P3000PHS-BRX04EthylvioletByk307溶劑*C21-25g0.53g000.01g0.12g28.09g2001.78g00.01g0.12g28.09gC30001.78g0.0]g0.12g28.09g300l-34g0.44g0.01g0.12g28.09g*DEK/PMA比例為92/8(重量)。特的能量下施用內(nèi)圖表O,采用鼓速率序列以提供92、97、102、110、115、120、130、140、和150mJ/cm2的曝光。隨后將成像元件在72。F(約22。C)和5英尺/分(1.7m/mm)的處理速率下在含有956顯影劑的KodakPolychromeGraphicsNE34處理器中處理。評(píng)價(jià)處理后印刷板的清除能量(制得無(wú)掃描線的清潔圖像所需的最小曝光能量)和最佳曝光(產(chǎn)生最佳圖像質(zhì)量的曝光)。結(jié)果示于如下表IV中。將擦亮油墨施用到實(shí)施例C2和本發(fā)明實(shí)施例2上，且發(fā)現(xiàn)成像區(qū)域是容易受油墨的。曝光和加工之后制得高品質(zhì)圖像。29表IV元件C2清除能量130最佳曝光>1502<92<92C3120150397140結(jié)果顯示，當(dāng)PHS-B存在于元件的外層時(shí)，相對(duì)于不存在PHS-B時(shí)(例如，參見元件C2)所需的清除和最佳曝光能量更低。在CreoTrendsetter3244制版機(jī)成像本發(fā)明實(shí)施例2的另一樣品，并在8瓦特的能量下施用內(nèi)圖表O,采用巻鼓速率序列以提供50、60、70、80、90、和100mJ/cm2的曝光。將成像元件在72。F(約22。C)和5英尺/分(1.7m/mm)的處理速率下在含有956顯影劑的KodakPolychromeGraphicsNE34處理器中處理。評(píng)價(jià)所獲印刷板的清除能量(制得無(wú)掃描線的清潔圖像所需的最小曝光能量)和最佳曝光(產(chǎn)生最佳圖像質(zhì)量的曝光)。產(chǎn)生高質(zhì)量圖像。結(jié)果示于如下表V中。表V元件C2清除能量130最佳曝光>15026070結(jié)果顯示，當(dāng)PHS-B存在于外層時(shí)，相對(duì)于不存在PHS-B時(shí)(參見元件C2)所需的清除和最佳曝光能量顯著更低。實(shí)施例4和5和對(duì)比實(shí)施例C4和C5正性工作可成^象元件采用下表VI中所示的組分制備內(nèi)層涂布配方(每100g),并采用0.012英寸(0.03cm)線繞棒施用到基底A上并干燥，由此提供約1.5g/m2干燥涂層重量。表VI<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>DEK/PMA比例為92/8(重量)。采用傳統(tǒng)CreoTrendsetter3244制版機(jī)使可成像元件成像。在8瓦特的能量下施用內(nèi)圖表O,采用鼓速率序列以提供92、97、102、110、115、120、130、140、和150mJ/cm2的曝光。隨后將成像元件在72。F(約22。C)和5英尺/分(1.7m/min)的處理速率下在含有956顯影劑的KodakPolychromeGraphicsNE34處理器中處理。評(píng)^介處理后印刷一反的清除能量(制得無(wú)掃描線的清潔圖像所需的最小曝光能量)和最佳曝光(產(chǎn)生最佳圖像質(zhì)量的曝光)。結(jié)果示于如下表VIII中。曝光和加工之后制得高品質(zhì)圖像。表VIII<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>結(jié)果顯示，當(dāng)PHS-B存在于外層時(shí)，相對(duì)于不存在PHS-B時(shí)(參見元件C4和C5)所需的清除和最佳曝光能量更低。對(duì)比實(shí)施例6:多層可成像元件在外層中使用"MS-4P"線性聚(4-羥基苯乙烯)(Mw7,000-11,OOO)代替上述本發(fā)明實(shí)施例4中使用的支化聚(4-羥基苯乙烯)，制備本發(fā)明之外的可成l象元件。所有其它涂布配方組分、成像條件、處理?xiàng)l件、和評(píng)價(jià)與本發(fā)明實(shí)施例4相同。結(jié)果顯示，線性聚(4-羥基苯乙烯)的使用在曝光和顯影之后不能提供圖像。該結(jié)果與依據(jù)本發(fā)明、例如上述實(shí)施例4中支化聚(4-羥基苯乙烯)的使用相反。權(quán)利要求1、一種非成色的、正性工作輻射-敏感性組合物，在曝光于輻射時(shí)，其變?yōu)榭扇苡诨蛘呖煞稚⒂趬A性溶液，所述組合物包含輻射-吸收化合物和支化羥基苯乙烯聚合物。2、權(quán)利要求1的組合物，其中所述支化羥基苯乙烯聚合物包含衍生自4-羥基苯乙烯的支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，該重復(fù)單元進(jìn)一步邱皮位于羥基鄰位的重復(fù)4-羥基苯乙烯單元取代，且其重均分子量為1,000~30,000和多分散性小于2。3、權(quán)利要求1的組合物，其中所述支化羥基苯乙烯聚合物為如下結(jié)構(gòu)式(II)所示的均聚物或共聚物-(A)f(B)y-(II)其中，A和B—起提供聚合物主鏈，其中A包括支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，B表示非支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，x表示90~100mol%,且y表示0~10mol%。4、權(quán)利要求1的組合物，其中所述支化羥基苯乙烯聚合物為共聚物，其中至少60mol。/o的重復(fù)單元書f生自羥基苯乙烯，且其中至少90mol。/。的所述羥基苯乙烯重復(fù)單元進(jìn)一步一皮位于羥基鄰位的重復(fù)羥基苯乙烯單元取代。5、權(quán)利要求1的組合物，其中所述支化鞋基苯乙烯聚合物為如下結(jié)構(gòu)式(III)所示的共聚物陽(yáng)(A)x陽(yáng)(B)y-(C)z漏(III)其中，A、B、和C一起提供聚合物主鏈，其中A表示支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，B表示非支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，且C表示不同于A和B重復(fù)單元的重復(fù)單元，x表示60~95mol%,y表示010mo1。/0，z表示0~40mol%。6、權(quán)利要求5的組合物，其中C表示衍生自羥基苯乙烯單體之外的一種或多種(甲基)丙烯酸酯、(曱基)丙烯酰胺、乙烯基醚、乙烯基酯、乙烯基酮、烯烴、不飽和酰亞胺、不飽和酸酐、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基呼唑、4-乙烯基吡啶、(曱基)丙烯腈、和苯乙烯單體的重復(fù)單元。7、權(quán)利要求6的組合物，其中C表示衍生自一種或多種(曱基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、N-取代的馬來(lái)酰亞胺、和(曱基)丙烯酰胺的重復(fù)單元。8、權(quán)利要求1的組合物，其中所述輻射-吸收化合物為紅外輻射-敏感性化合物。9、一種正性工作可成像元件，包括其上具有可成像層的基底，該:羥基苯乙烯聚合物，所述元;進(jìn)一^包括口輻射吸收化合物':10、權(quán)利要求9的元件，其中所述支化羥基苯乙烯聚合物包含衍生自4-羥基苯乙烯的重復(fù)單元，該重復(fù)單元進(jìn)一步被位于羥基鄰位的重復(fù)4-羥基苯乙烯單元取代，且其重均分子量為1,000~30,000和多分散性小于2。11、權(quán)利要求9的元件，其中所述輻射吸收化合物是在600~1400nm波長(zhǎng)處吸收輻射的紅外輻射吸收染料。12、權(quán)利要求9的元件，其中所述支化羥基苯乙烯聚合物為如下結(jié)構(gòu)式(m)所示的均聚物或共聚物-(A)x-(B)y-(C)z-(III)其中，A、B和C一起提供聚合物主鏈，其中A表示支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，B表示非支化羥基苯乙烯重復(fù)單元，且C表示不同于A和B重復(fù)單元的重復(fù)單元，x表示60~95mol%,y表示010mo1。/。，z表示0~40mol%。13、權(quán)利要求12的元件，其中x表示75-90molo/o,y表示05mol%,z表示0~20mol%。14、權(quán)利要求12的元件，其中C表示衍生自羥基苯乙烯單體之外的一種或多種(甲基)丙烯酸酯、(曱基)丙烯酰胺、乙烯基醚、乙烯基酯、乙烯基酮、烯爛、不飽和酰亞胺、不飽和酸酐、N-乙烯基吡咯烷酮、N陽(yáng)乙烯基。卡唑、4-乙烯基吡啶、(甲基)丙烯腈、和苯乙烯單體的重復(fù)單元。15、權(quán)利要求12的元件，其中C表示衍生自一種或多種(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、N-取代的馬來(lái)酰亞胺、和(甲基)丙烯酰胺的重復(fù)單元。16、權(quán)利要求9的元件，其包含置于包含所述支化羥基苯乙烯聚合物和所述輻射吸收化合物二者的所述基底之上的單個(gè)可成像層。17、權(quán)利要求16的元件，其中所述支化羥基苯乙烯聚合物在干燥涂層中存在80~99.5wt%,且所述輻射吸收化合物為IR染料，其在干燥涂層中存在0.5-5wt%。18、權(quán)利要求9的元件，其在所述基底上依次包含內(nèi)層，和油墨接受外層，其在曝光于成像輻射之前不可使用堿性顯影劑去除，所述外層包含所述支化羥基苯乙烯聚合物。19、權(quán)利要求18的元件，其中所述輻射吸收化合物主要存在于所述內(nèi)層中。20、權(quán)利要求19的元件，其中所述支化羥基苯乙烯聚合物在所述外層中在干燥涂層中存在2099.5wt。/。且包含所述外層中10~100wt%的全部聚合物粘合劑，且所述輻射吸收化合物為IR染料，其主要存在于所述內(nèi)層中，在干燥涂層中為5~25wt%。21、一種形成圖像的方法，包括A)使權(quán)利要求9的可成像元件熱成像，從而形成在所述可成像層中具有曝光和非曝光區(qū)域的成像元件，B)使所述已成像層與堿性顯影劑接觸以僅除去所述曝光區(qū)域，和C)任選地，烘焙所述已成像和已顯影元件。22、庫(kù)又利要求21的方法，其中使用具有700~1200nm的最大吸收率的輻射進(jìn)行成4象。23、權(quán)利要求21的方法，其中所述可成像元件包括置于包含所述支化羥基苯乙烯聚合物和所述輻射吸收化合物二者的所述基底之上的單個(gè)可成像層。24、權(quán)利要求21的方法，其中所述可成像元件在所述基底上依次包括內(nèi)層，和油墨接受外層，其在曝光于成像輻射之前使用堿性顯影劑不可去除，所述外層包含所述支化羥基苯乙烯聚合物。25、通過(guò)權(quán)利要求21的方法獲得的成像元件。26、一種提供正性工作可成像元件的方法，包括A)在基底上提供可成像層以提供正性工作可成像元件，所述可成像層包括支化羥基苯乙烯聚合物，B)在所述元件之內(nèi)提供輻射吸收化合物，和C)在所述可成像層干燥之后，在抑制從所述干燥的可成像層中除去水份的條件下使所述可成像層在4090。C下加熱處理至少4小時(shí)。27、權(quán)利要求26的方法，其中所述輻射吸收化合物和支化羥基苯乙烯聚合物在不同層中提供。全文摘要單層和多層正性工作可成像組合物二者都可以用于具有基底和至少一個(gè)可成像層的正性工作元件。這些元件可以用于制備平版印刷板。該可成像元件包括輻射吸收化合物和具有重復(fù)的支化羥基苯乙烯單元的羥基苯乙烯聚合物。文檔編號(hào)B41C1/10GK101479106SQ200780023515公開日2009年7月8日申請(qǐng)日期2007年6月14日優(yōu)先權(quán)日2006年6月23日發(fā)明者J·雷,K·B·雷,L·J·科里奧諾夫,L·波斯特爾,M·萊瓦農(nóng)申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司