專利名稱：：具有改進(jìn)的耐化學(xué)性的多層可成像的元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及具有改進(jìn)的耐加工和印刷化學(xué)品性能的正性可成像的元件。它還涉及通過^f吏用熱成〗象方式/人該可成<象的元件形成成^f象元件的方法。
背景技術(shù)：
：在常規(guī)的或"濕"平版印刷中，接受油墨的區(qū)域(已知為成像的區(qū)域)是在親水性表面上產(chǎn)生的。當(dāng)表面被水潤濕和施加油墨時，親水性區(qū)域保持水分和排斥油墨，并且該接受油墨的區(qū)域接受油墨和排斥水。該油墨被轉(zhuǎn)移至材料的表面上，在該表面上圖像得以再現(xiàn)。例如，油墨能夠首先被轉(zhuǎn)移至中間包覆橡皮(blanket),它進(jìn)而被用于將油墨轉(zhuǎn)移至材料的表面上，在該材料的表面上圖像得以再現(xiàn)。用于制備平版印刷板的可成像的元件通常包括施涂在基材的親水性表面上的可成像的層。可成像的層包括能夠分散在合適的粘結(jié)劑中的一種或多種輻射敏感的組分。另外地，輻射敏感組分也能夠是粘結(jié)劑材料。在成像之后，可成像的層的已成像區(qū)域或未成像區(qū)域通過合適的顯影劑被除去，顯露了基材的底下親水性表面。如果已成像的區(qū)域被除去，則該元件被認(rèn)為是正性的。相反地，如果未成像的區(qū)域被除去，則該元件被認(rèn)為是負(fù)性的。在各情況下，可成像的層的剩下的區(qū)域(即，圖象區(qū)域)是油墨接受性的，并且由顯影過程所顯露的親水性表面的區(qū)域接受水和水溶液(通常為潤版液)，并且排斥油墨?？沙上竦脑米贤饩€和/或可見光輻射的成像通常通過掩^^莫來進(jìn)行，該掩模具有透明和不透明的區(qū)域。成像是在掩模的透明區(qū)域之下的那些區(qū)域中發(fā)生，但是不在不透明的掩模區(qū)域之下的區(qū)域中發(fā)生。如果在最終圖像中需要校正，則必須制備新的掩模。這是耗時的過程。另夕卜，由于溫度和濕度的變化，掩模的尺寸會發(fā)生輕微的變化。因此，同一掩模，當(dāng)在不同時間中或在不同環(huán)境中使用時，會得到不同的結(jié)果并能夠引起對準(zhǔn)問題。直接的數(shù)字成像使得不需要通過掩模的成像，并且在印刷工業(yè)中變6得越來越重要。已經(jīng)開發(fā)了與紅外激光器一起使用的用于平版印刷板的制備中的可成像的元件?？蔁岢上竦亩鄬釉衙枋鲈诶缑绹鴮＠鸑o.6,294,311(Shimazu等人)，美國專利No.6,352,812(Shimazu等人)，美國專利No.6,593,055(Shimazu等人)，美國專利No.6,352,811(Patel等人)，美國專利No.6,358,669(Savariar-Hauck等人)和美國專利No.6,528,228(Savariar-Hauck等人)，美國專利申請出版物2004/0067432Al(Kitson等人)。美國專利申請出版物2005/0037280(Loccufier等人)描述了在同一層中包含酚類顯影劑-可溶性聚合物和紅外輻射吸收劑的熱每丈印刷版前體。具有包括環(huán)烯烴共聚物的外涂層的可成像的元件已描述在美國專利No.6,969,570(Kitson)中。此外，美國專利申請出版物2004/0137366(Kawauchi等人)描述了包含側(cè)掛羧基或馬來酸酐的共聚物在熱敏正性元件的頂層中的使用，以改進(jìn)耐劃性和顯影寬容度。這些共聚物能夠在相對"弱的"顯影劑中顯影，這些顯影劑被認(rèn)為是環(huán)境更"友好的"。美國專利No.6,152,036(Verschueren等人)描述了硬化或交聯(lián)的環(huán)氧樹脂在正性成像元件的頂層中的使用。待解決的技術(shù)問題在使用中，平版印刷版與潤版液和油墨接觸。另夕卜，該元件常常進(jìn)行包覆橡皮洗滌以便為包覆橡皮和壓輥(pressrollers)除去油墨和各種清洗液。盡管在各種正性可成像的元件中有進(jìn)展，但是不斷需求可成像的元件，這些元件耐壓印化學(xué)品，如油墨，潤版液和在洗滌如UV洗滌中使用的溶劑。另外，希望能夠使用具有可忽略的殘留物或淤泥的含水負(fù)性堿性顯影劑來顯影該可成像的元件。發(fā)明概述本發(fā)明提供正性可成像的元件，它在熱成像之后可用堿性顯影劑顯影，并且包括輻射吸收性化合物和基材，在該基材上具有(按順序)包含第一種聚合物粘結(jié)劑的內(nèi)層，和包含與第一種聚合物粘結(jié)劑不同的第二種聚合物粘結(jié)劑的接受油墨的外層，該第二種聚合物粘結(jié)劑包含由下面結(jié)構(gòu)(I)或(II)表示的重復(fù)單元，該重復(fù)單元占該第二種聚合物粘結(jié)劑中的總重復(fù)單元的至少其中n是l-3，Rs和Rt獨立地是氫或烷基或卣素基團，X是多價連接基團，Y是氧基或-NR-,其中R是氫或烷基和Z是一價有機基團。本發(fā)明還提供形成圖像的方法，該方法包括A)將本發(fā)明的正性可成像的元件進(jìn)行熱成像(如上所述)，由此形成具有成像和未成像區(qū)域的成像元件，和B)讓該成像元件與堿性顯影劑接觸以僅僅除去已成像的區(qū)域，和C)任選地，烘烤已成像的和顯影的元件。本發(fā)明另外包括使用本發(fā)明的方法形成的圖像和成像元件。本發(fā)明的可成像的元件含有在外層(頂層)中的提供改進(jìn)的耐化學(xué)性的某些聚合物粘結(jié)劑，并且成像元件能夠尤其在具有最少量殘留物或淤泥的負(fù)性顯影劑中處理。這些優(yōu)點通過引入包含由這里所定義的結(jié)構(gòu)(I)或(II)表示的重復(fù)單元的聚合物粘結(jié)劑來實現(xiàn)。發(fā)明詳述定義除非上下文中另外指明，否則，當(dāng)在這里使用時，術(shù)語"可成像的元件"、"正性可成像的元件"和"印刷版前體，，指本發(fā)明的實施方案的參考。o4一一Rl/lgI+II.o另外，除非上下文另外指明，否則這里描述的各種組分如"第一種聚合物粘結(jié)劑"、"第二種聚合物粘結(jié)劑"、"不溶解抑制劑"、"添加的共聚物，，、"涂料溶劑，，、"紅外輻射吸收性化合物"、"顯影劑"和類似的術(shù)語也指此類組分的混合物。因此，冠詞"a"或"an"的4吏用不一定僅僅指單種組分。除非另有說明，否則百分?jǐn)?shù)指干重百分?jǐn)?shù)。為了闡明與聚合物相關(guān)的任何術(shù)語的定義，應(yīng)該參考由InternationalUnionofPureandAppliedChemistry("IUPAC，，)出X反的"GlossaryofBasicTermsinPolymerScience",PureAppl.Chem.68,22872311(1996)。然而，在這里明確地闡述的任何定義應(yīng)該^皮認(rèn)為是對照(controlling)。除非另有說明，術(shù)語"聚合物"指高分子量和低分子量聚合物，包括低聚物，并且包括均聚物和共聚物。術(shù)語"共聚物"指從兩種或多種不同單體形成的聚合物。也就是說，它們包括具有至少兩種不同的化學(xué)結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。術(shù)語"骨架"指在聚合物中的原子的鏈，有多個側(cè)基可連接于其上。此類骨架的例子是從一種或多種烯屬不飽和的可聚合的單體的聚合反應(yīng)獲得的"全部碳"骨架。然而，其它骨架能夠包括雜原子，其中聚合物是通過縮合反應(yīng)或一些其它方式來形成。用途正性可成像的元件能夠以許多方式使用。優(yōu)選的用途是作為平版印刷版的前體，如下面更細(xì)描述。然而，這不指本發(fā)明的唯一用途。例如，可成像的元件也能夠用作熱圖案化系統(tǒng)并形成掩蔽元件和印刷電路板?？沙蒠象的元件一般，可成像的元件包括基材，內(nèi)層(也已知為"下層")和布置在內(nèi)層上的外層(也已知為"頂層"或"外涂層，，)。在熱成像之前，外層一般無法在顯影所規(guī)定的常用時間內(nèi)被堿性顯影劑除去，但是在熱成像之后，外層的已成像區(qū)域更容易被堿性顯影劑除去或更可溶于堿性顯影劑中。該內(nèi)層一般也可通過堿性顯影劑除去。紅外輻射吸收性化合物(下面所定義)也存在于可成像的元件中，并且優(yōu)選存在于該內(nèi)層中但任選地存在于在內(nèi)層和外層之間的隔離層中。一基:才能夠是未處理的或未涂覆的載體，i是它通常在內(nèi)層、組合物的施涂之前以下面所述的各種方式進(jìn)行處理或涂覆?；囊话憔哂幸粋€親水性表面或至少一個比外層組合物更加親水性的表面。基材包括載體，該載體能夠由通常用于制備可成像的元件如平版印刷版的任何材料組成。它通常是片、膜或箔的形式，并且是高強度、穩(wěn)定和柔性的和在使用條件下耐尺寸變化，因此顏色記錄將記錄下全色圖像。該載體通常能夠是任何自支持材料，其中包括聚合物膜(如聚酯，聚乙烯，聚碳酸酯，纖維素酯聚合物和聚苯乙烯膜)，玻璃，陶瓷，金屬片或箔或高勁度紙(其中包括樹脂涂覆過的和金屬鍍層的紙)或任何這些材料的疊層材料(如鋁箔疊層到聚酯膜上)。金屬載體包括鋁，銅，鋅，鈦和它們的合金的片材或箔。聚合物膜載體可以在一個或兩個表面上被"附屬，，層改性以增強親水性或紙載體可以類似地被涂覆以增強平面性。附屬層材料的例子包括但不限于，烷氧基硅烷、氨基-丙基三乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基丙基-三乙氧基甲硅烷和環(huán)氧基官能化聚合物，以及在卣化銀感光膠片中使用的常規(guī)親水性附屬材料(如明膠和其它天然和合成的親水膠體和包括偏二氯乙烯共聚物在內(nèi)的乙烯基聚合物)。優(yōu)選的基材由鋁載體組成，該載體可使用現(xiàn)有技術(shù)中已知的技術(shù)來處理，其中包括物理?；?、電化學(xué)粒化、化學(xué)?；完枠O化。優(yōu)選地，鋁片已經(jīng)進(jìn)行電化學(xué)?；?graining)和陽極化。中間層可以通過用例如硅酸鹽、糊精、氟化鈣鋯、六氟硅酸、磷酸鈉/氟化鈉、聚(乙烯基膦酸)(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚(丙烯酸)或丙烯酸共聚物處理鋁載體來形成。優(yōu)選，電化學(xué)法?；暮完枠O化的鋁載體通過使用已知的程序用PVPA處理，以改進(jìn)表面親水性。基材的厚度能夠改變，但是應(yīng)該足以經(jīng)受住由印刷造成的磨損并且是足夠的薄以便包裹印刷形式。優(yōu)選的例子包括具有100-600jum的厚度的處理鋁箔?；牡谋趁?非成像側(cè))可以涂覆抗靜電劑和/或滑移層或消光層，以改進(jìn)可成像的元件的處理和"觸感，，。基材也能夠是在其上施涂有各種層組合物的圓柱形表面，并且因此是印刷機的不可分割的部分。成像的圓柱形體的用途例如已描述在美國專利No.5,713,287(Gelbart)中。該內(nèi)層布置在外層和基材之間。它通常直接布置在基材上。內(nèi)層包括聚合物材料，后者可被顯影劑除去并且優(yōu)選可溶于顯影劑中以減少顯影劑的淤泥形成。另外，該聚合物材料優(yōu)選不溶于用于涂覆外層的溶劑中，這樣外層能夠被涂覆在內(nèi)層上但不會溶解該內(nèi)層。這一聚合物材料在這里被確定為"第一種聚合物粘結(jié)劑"，以便將它與下面所述的用于外層的"第二種聚合物粘結(jié)劑"區(qū)分開。如果需要的話，這些第一種聚合物粘結(jié)劑的混合物能夠用于內(nèi)層中。用于內(nèi)層的有用的第一種聚合物粘結(jié)劑包括(甲基)丙烯腈聚合物，包含羧基的(曱基)丙烯酸樹脂、聚乙烯醇縮醛、馬來酸化的木松香、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、(曱基)丙烯酰胺聚合物如從N-烷氧基烷基甲基丙烯酰胺形成的聚合物、從N-取代環(huán)狀酰亞胺形成的聚合物、具有側(cè)掛環(huán)狀脲基團的聚合物和它們的組合。提供潤版液和侵蝕性洗滌劑同時耐受性的第一種聚合物粘結(jié)劑已公開于美國專利No.6,294,311(以上指出)中。特別有用的第一種聚合物粘結(jié)劑包括(甲基)丙烯腈聚合物和從N-取代環(huán)狀酰亞胺(尤其N-苯基馬來酰亞胺)、(甲基)丙烯酰胺(尤其曱基丙烯酰胺)、具有側(cè)掛環(huán)狀脲基團的單體和(甲基)丙烯酸(尤其甲基丙烯酸)形成的聚合物。這一類型的優(yōu)選的第一種聚合物粘結(jié)劑是包含20-75mol。/o和優(yōu)選35-60moiy。的從N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-(4-羧基苯基)馬來酰亞胺、N-千基馬來酰亞胺或它們的混合物形成的重復(fù)單元，10-50mol。/o和優(yōu)選15-40molQ/o的從丙烯酰胺、曱基丙烯酰胺或它們的混合物形成的重復(fù)單元，以及5-30mol。/o和優(yōu)選10-30mol。/o的從曱基丙烯酸形成的重復(fù)單元。其它親水性單體，如曱基丙烯酸羥乙酯，可以被用來代替一些或全部的曱基丙烯酰胺來使用。其它可溶于堿的單體，如丙烯酸，可以;波用來代替一些或全部的甲基丙烯酸來使用。任選地，這些聚合物也能夠包括從(甲基)丙烯腈或N-[2-(2-氧代-l-咪唑烷基)乙基]-曱基丙烯酰胺形成的重復(fù)單元。也可以使用描述在WO2005/018934(Kitson等人)和美國專利No.6，893,783(Kitson等人)中的可烘烤的內(nèi)層，該文獻(xiàn)被引入這里。其它有用的第一種聚合物粘結(jié)劑能夠包括，已聚合形式的，5mol%-30mol%(優(yōu)選10mol%-30mol%)的/人具有羧基的烯屬不々包和的可聚合單體(如丙烯酸、曱基丙烯酸、衣康酸和現(xiàn)有技術(shù)中已知的其它類似單體(丙烯酸和甲基丙烯酸是優(yōu)選的)形成的重復(fù)單元，20mol%-75mol%(優(yōu)選35mol%-60mol%)的從N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺或它們的混合物形成的重復(fù)單元，任選地，5mol%-50mol%(優(yōu)選當(dāng)存在時15mol%-40mol%)的/人甲基丙烯酰胺形成的重復(fù)單元，以及3mol%-50mol%(優(yōu)選10mol°/。-40mol%)的從下列結(jié)構(gòu)(IV)的單體化合物形成的一種或多種重復(fù)單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(IV)其中R4是d-d2丈絲、苯基、C廣d2取代苯基、d-Cu芳綠、或Si(CH3)3,和R2是氫或甲基。這些聚合物材料中某些的制備方法已公開在美國專利No.6,475,692(Jarek)中。可用于本發(fā)明的第一種聚合物粘結(jié)劑也能夠是由從兩種或多種烯屬不飽和單體形成的重復(fù)單元組成的含羥基的聚合物材料，其中"50mol%(優(yōu)選10-40mol%)的重復(fù)單元是從一種或多種的由下列結(jié)構(gòu)(V)表示的單體形成的<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(V)其中R3、R4、R5、R6獨立地是氫，具有1-10個碳原子的取代或未一支取代的低級烷基(如甲基、氯甲基、乙基、異丙基、叔丁基和正癸基)或取代或未被取代的苯基，和m是1-20。含羥基的第一種聚合物粘結(jié)劑的優(yōu)選例子能夠由下面的結(jié)構(gòu)(VI)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(VI)其中A表示由下面的結(jié)構(gòu)(VII)表示的重復(fù)單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>其中R7至Ru)和p與以上對于結(jié)構(gòu)(V)指明的R3至R6和m的定義相同。在結(jié)構(gòu)(VI)中，B表示包含酸性官能團或N-馬來酰亞胺基團的重復(fù)單元，和C表示與A和B不同的重復(fù)單元,x是1-50mol%(優(yōu)選10-40mol%),y是40-90mol%(40-70mol%),和z是0-70mol%(優(yōu)選0-50mol%)，以總重復(fù)單元為基礎(chǔ)計。在結(jié)構(gòu)(VI)的一些實例中.-A表示從N-羥基甲基丙烯酰胺和N-羥曱基曱基丙烯酰胺中的一種或兩者形成的重復(fù)單元，B表示從N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-千基馬來酰亞胺、N_(4-羧基苯基)馬來酰亞胺、(甲基)丙烯酸和乙烯基苯曱酸中的一種或多種形成的重復(fù)單元，C表示從苯乙烯單體(如苯乙烯和它們的衍生物)、(曱基)丙烯酸酯、N-取代(甲基)丙烯酰胺、馬來酸酐、(曱基)丙烯腈、丙烯酸烯丙酯和由下面的結(jié)構(gòu)(VII)表示的化合物中的一種或多種形成的重復(fù)單元(vn)其中Rn是氫、甲基或鹵素，X，是具有2-12個碳原子的亞烷基，q是1-3,x是10-40mol%,y是40-70mo1。/。，和z是0-50mo10/。，全部以總重復(fù)單元為基礎(chǔ)計。在結(jié)構(gòu)VI的更優(yōu)選實例中，B表示從20-50mol。/o的從至少一種的N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-節(jié)基馬來酰亞胺、N-(4-羧基苯基)馬來酰亞胺形成的重復(fù)單元和10-30mol。/()的從至少一種的(甲基)丙烯酸和乙烯基苯曱酸形成的重復(fù)單元，以總重復(fù)單元為基礎(chǔ)計。在此類實例中，C表示從甲基丙烯酰胺、(曱基)丙烯腈、馬來酸酐或以下單體形成的重復(fù)單元再一些其它有用的第一種聚合物粘結(jié)劑是在聚合物骨架上連接有側(cè)掛磷酸基團，側(cè)掛金剛烷基或兩種類型的側(cè)掛基團的加聚物或縮聚物。側(cè)掛金剛烷基至少經(jīng)由脲或脲烷連接基團連接到聚合物骨架上，但是其它連接基團也能夠存在。這一類型的優(yōu)選的第一種聚合物粘結(jié)劑能夠由以下結(jié)構(gòu)(VIII)表示-(A)x-(B)r(VIII)其中A和B—起表示聚合物骨架，其中A進(jìn)一步包括包含側(cè)掛磷酸基團、側(cè)掛金剛烷基或兩者的重復(fù)單元，B進(jìn)一步地表示不同的重復(fù)單元，x表示5-100wt%,和y表示0-95wt。/0,前提條件是，如果A包含側(cè)掛金剛烷基，則此類基團經(jīng)由脲或脲烷連接基團連接到聚合物骨架上(但其它連接基團也能夠存在)。14更優(yōu)選，此類第一種聚合物粘結(jié)劑能夠由下面的結(jié)構(gòu)(IX)表示:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>(IX)其中Ru表示氬、具有1-4個碳原子的取代的或未被取代的低級烷基(如曱基、乙基、正丙基或叔丁基)或卣素基團。L表示直接的鍵或在連接鏈中的包含1個或多個碳原子和任選的1個或多個雜原子的連接基團。有用的連接基團能夠包括，但不限于，具有l(wèi)-10個碳原子的取代或未被取代的、直鏈或支鏈亞烷基(如亞曱基、曱氧基亞甲基、亞乙基、異亞丙基、正亞丁基、叔亞丁基和正亞己基)，或在環(huán)狀基團中具有5-10個碳原子的取代或未被取代的亞環(huán)烷基(如1,3-亞環(huán)戊基和1,4-亞環(huán)己基)，在環(huán)狀基團中具有6-10個碳原子的取代或未被取代的亞芳基(如1,4-亞苯基、3-甲基-l、4-亞苯基或亞萘基)或它們的組合，如亞芳基亞烷基、亞烷基亞芳基和亞烷基亞芳基亞烷基基團。L連接基團還可以包括在連接鏈內(nèi)的一個或多個氧基、硫基、酰胺基、羰基、氧基羰基、羰基氧基、酰胺基、磺酰胺基、脲、脲烷和碳酸酯[-O-C(=0)-O-]基團，有或沒有如上所述的亞烷基、亞環(huán)烷基和亞芳基中的任何一種。L能夠包括兩種或多種的這些基團中的組合。優(yōu)選，L是直接的鍵或一種或多種的在連接鏈內(nèi)的具有1-4個碳原子的亞烷基、羰基氧基、脲、脲烷、亞烷基氧基、亞烷基羰基氧基和羧基亞烷基。更優(yōu)選，L包括至少一種-C(=0)0-(羰基氧基)、-NH-C(=0)-NH-(脲)、-C(=0)隱O-(CH2)2-,或-NH-C(=0)-O國(脲烷)基團。在結(jié)構(gòu)(IX)中，R43表示側(cè)掛磷酸基團，側(cè)掛金剛烷基基團或這兩種類型的側(cè)基。耐溶劑的聚合物能夠包括具有磷酸基團的一種或多種不同的重復(fù)單元或具有金剛烷基的一種或多種不同的重復(fù)單元。另外地，聚合物能夠包括具有磷酸基團的一種或多種不同的重復(fù)單元和具有金剛烷基的一種或多種不同的重復(fù)單元的混合物。當(dāng)R，是側(cè)掛金剛烷基時，L包括在連接鏈內(nèi)的脲或脲烷連接基團。在提及"磷酸"基團時，希望它還包括磷酸的相應(yīng)鹽，其中包括但不限于，堿金屬鹽和銨鹽。任何合適的正的抗衡離子能夠與側(cè)掛磷酸基團一起使用，只要抗衡離子不會負(fù)面影響所得聚合物的特性或其它所需的成像性能。在結(jié)構(gòu)VIII和IX的更優(yōu)選實例中，z是5-20wt。/。和y是80-95wt%,當(dāng)A表示包含側(cè)掛磷酸基團的重復(fù)單元時。另外地，x是5-40wt。/。和B是60-95wt%,當(dāng)A表示包含側(cè)掛金剛烷基的重復(fù)單元時。能夠用于提供以上對于結(jié)構(gòu)VIII和IX所述的A重復(fù)單元的特別有用的烯屬不飽和的可聚合單體包括，但不限于由下面結(jié)構(gòu)Al至A5表示的下列化合物其中X是氧基，硫基或-NH-(優(yōu)選氧基)，X，是-NH-或氧基，X"是氧基或-NH-,和n是1-6(優(yōu)選2-4)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(A2)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>乙烯基膦酸(A3)1,3-丙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(A4)o1,4-正丁二醇曱基丙烯酸酯^^酸酯(A5)在結(jié)構(gòu)(VIII)和(IX)中，B表示從不具有側(cè)掛磷酸基團或金剛烷基的一種或多種烯屬不飽和的可聚合單體形成的重復(fù)單元。各種單體能夠用于提供B重復(fù)單元，其中包括苯乙烯單體、(甲基)丙烯酰胺、(曱基)丙烯酸或它的酯、(甲基)丙烯腈、乙酸乙烯酯、馬來酸酐、N-取代馬來酰亞胺或它們的混合物。優(yōu)選，由B表示的重復(fù)單元是從苯乙烯、N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酸、(曱基)丙烯腈或曱基丙烯酸曱酯或這些單體中的兩種或多種的混合物形成的。在一些實施方案中，第一種聚合物粘結(jié)劑能夠由如上所述的結(jié)構(gòu)(VIII)表示，其中x是5-30wt%(更優(yōu)選，5-20wt%)和B表示從下面單體形成的重復(fù)單元a)—種或多種的苯乙烯、N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酸和曱基丙烯酸曱酯，其中這些重復(fù)單元占耐溶劑的聚合物中的全部重復(fù)單元的0-70wt%(更優(yōu)選10-50wt%),和b)—種或多種的丙烯腈或甲基丙烯腈或它們的混合物，其中這些重復(fù)單元占耐溶劑的聚合物中的全部重復(fù)單元的20-95wt%(更優(yōu)選20-60wt%)。其它有用的第一種聚合物粘結(jié)劑包括骨架并具有連接于骨架上的下列結(jié)構(gòu)Q基團<formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula>(Q)其中L1,L和I^獨立地表示連接基團，T1、丁2和f獨立地表示端基，以及a、b和c獨立地是0或l。更具體地說，L1、1^和！^中的每一個獨立地是具有l(wèi)-4個碳原子的取代的或未被取代的亞烷基(如亞曱基、1,2-亞乙基、1,1-亞乙基、正亞丙基、異亞丙基、叔亞丁基和亞正丁基)，在環(huán)狀基團中具有5-7個碳原子的取代亞環(huán)烷基(如亞環(huán)戊基和1,4-亞環(huán)己基)，在芳族環(huán)中具有6-10個碳原子的取代或未被取代的亞芳基(如1,4-亞苯基、亞萘基、2-曱基-l,4-亞苯基和4-氯-l,3-亞苯基)，或在環(huán)狀基團中具有5-10個碳原子和一個或多個雜原子的取代或未被取代的，芳族或非芳族的二價雜環(huán)基團(如亞吡啶基、亞吡唑基、亞嘧啶基或亞噻唑基)，或這些二價連接基團中兩種或多種的任何組合。另外地，l和l7—起能夠表示為了形成碳環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)所需要的原子。優(yōu)選，L1是碳-氬單鍵或亞曱基、亞乙基或亞苯基，以及I和L"蟲立地是氬，曱基，乙基，2-羥乙基或環(huán)狀-(CH2)20(CH2CH2)-基團。T1,f和f獨立地是端基，如氫或具有1-10個碳原子的取代或未被取代的烷基(如曱基、乙基、異丙基、叔丁基、正己基、曱氧基甲基、苯基甲基、羥乙基和氯乙基)，具有2-10個碳原子的取代或未被取代的鏈烯基(如乙烯基和己烯基)，取代或未被取代的炔基(如乙炔基和辛炔基)，在環(huán)中具有5-7個碳原子的取代或未被取代的環(huán)烷基(如環(huán)戊基、環(huán)己基和環(huán)庚基)，在環(huán)中具有碳原子和一個或多個雜原子的取代或未被取代的雜環(huán)基團(芳族和非芳族)(如吡啶基、吡唑基、嘧啶基、噻唑基和吲哚基)，以及在芳族環(huán)中具有6-10個碳原子的取代或未#:取代的芳基(如苯基、萘基、3-甲氧基苯基、芐基和4-溴苯基)。另外地，丁2和T3—起表示為了形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)(它也能夠含有稠環(huán))所需要的原子。另外，當(dāng)"a"是0時，丁3不是氫。在一些實施方案中，該結(jié)構(gòu)Q基團能夠直接連接于在聚合物骨架中的OC-碳原子上，該OC-碳原子還有連接于其上的吸電子基團。在其它實施方案中，結(jié)構(gòu)Q基團經(jīng)由連接基團間接地連接于聚合物骨架上。這些第一種聚合物粘結(jié)劑能夠通過在聚合物前體中的a-氫與包含醛基的第一種化合物和包含胺基的第二種化合物的反應(yīng)來制備，按照在美國專利申請出版物2005/0037280(Loccufier等人)中所述。這些第一種聚合物粘結(jié)劑能夠含有一種類型以上的取代結(jié)構(gòu)Q基團。不同的結(jié)構(gòu)Q基團能夠相繼被引入或作為不同的第一和第二種化合物的混合物在與含羥基的聚合物之間的反應(yīng)中被引入。結(jié)構(gòu)Q基團的量和類型僅僅受到所得改性樹脂粘結(jié)劑在堿性顯影劑中的溶解度限制。一般，至少1mol。/。和至多99mol。/。的第一種聚合物粘結(jié)劑重復(fù)單元包括相同的或不同的結(jié)構(gòu)Q基團。第一種聚合物粘結(jié)劑也能夠由下面的結(jié)構(gòu)(X)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage19</formula>其中A表示從包含相同或不同Q基團的一種或多種烯屬不飽和的可聚合單體形成的重復(fù)單元，B表示從不包含Q基團的一種或多種不同的烯屬不飽和的可聚合單體形成的重復(fù)單元。更具體地說，在結(jié)構(gòu)X中的A重復(fù)單元能夠由下面的結(jié)構(gòu)(Xa)或(Xb)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage19</formula>其中&4和1116獨立地是氫或卣素，具有1-7個碳原子的取代或未被取代的烷基(如曱基、乙基、正丙基、異丙基或千基)，或取代的或未被取代的苯基。優(yōu)選，RM和Rw獨立地是氫或甲基或鹵素基團，和更優(yōu)選它們獨立地是氫或曱基。在結(jié)構(gòu)Xa中的Rb是以上定義的吸電子基團，其中包括但不限于，氰基，硝基，在碳環(huán)中具有6-10個碳原子的取代或未被取代的芳基，在雜芳族環(huán)中具有5-10個碳、硫、氧或氮原子的取代或未被取代的雜芳基，-C(=0)OR2o和-C(=0)R2o基團，其中1120是氫或具有1-4個碳原子的取代的或未被取代的烷基(如甲基、乙基、正丙基、叔丁基)，取代的或未被取代的環(huán)烷基(如取代的或未被取代的環(huán)己基)，或取代的或未被取代的芳基(如取代或未被取代的苯基)。氰基、硝基、-C(=0)OR2o,和-C(K))R2o基團是優(yōu)選的以及氰基、-C(=0)CH3,和-C(=0)OCH3是最優(yōu)選的。在結(jié)構(gòu)(Xb)中的Rn和Rw獨立地是氫或具有1-6個碳原子的取代的或未被取代的烷基(如甲基、乙基、正丙基、叔丁基、正己基)，具有5或6個碳原子的取代或未被取代的環(huán)烷基(如環(huán)己基)，具有6-10個碳原子的取代的或未被取代的芳基(如苯基、4-甲基苯基和萘基)或-C(=0)R49基團，其中R19是取代的或未被取代的烷基(與對于R17和Rw的定義相同)，具有2-8個碳原子的取代的或未被取代的鏈烯基(如乙烯基和1,2-丙烯基)，取代的或未被取代的環(huán)烷基(與以上對于Rn和1118的定義相同)，或取代的或未,皮取代的芳基(與以上對于R17和Rl8的定義相同)。優(yōu)選，Rl7和Rl8獨立地是氳或以上定義的取^f戈的或未被取代的烷基、環(huán)烷基、芳基或-C(-O)1119基團，其中1119是具有1-4個碳原子的烷基。在結(jié)構(gòu)(Xb)中，Y是直接的鍵或二價連接基團。有用的二價連接基團包括但不限于氧基、硫基、-NR21-、取代或未被取代的亞烷基、取代或未被取代的亞苯基、取代或未被取代的亞雜環(huán)基、-C(=0)-、和-C(=0)O-基團或它們的組合，其中Ru是氬或與以上對于Rn和R18的定義相同的取代的或未被取代的烷基，取代或未被取代的環(huán)烷基，或取代或未被取代的芳基。優(yōu)選，Y是直接的鍵或氧基、-C(=0)0-、-C(=0)OCH2CH2。畫或-C(=0)CH2CH2OC(=0)012-基團。在結(jié)構(gòu)(X)中，x是l-70mo1。/。，和y是30-99mo1。/。，以總重復(fù)單20元為基礎(chǔ)。優(yōu)選，x是5-50moP/。和y是50-95mol%,以總重復(fù)單元為>^礎(chǔ)o同樣在結(jié)構(gòu)(X)中，B能夠表示從各種各樣的烯屬不飽和的可聚合單體形成的重復(fù)單元。特別有用的重復(fù)單元是從一種或多種N-取代馬來酰亞胺、N-取代(甲基)丙烯酰胺、未被取代的(甲基)丙烯酰胺、(曱基)丙烯腈，或具有酸性基團的乙烯基單體形成的，并且更優(yōu)選從一種或多種N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-千基馬來酰亞胺、N_(4-羧基苯基)馬來酰亞胺、(曱基)丙烯酸、乙烯基苯甲酸、(甲基)丙烯酰胺和(曱基)丙烯腈形成的。這些單體中的幾種能夠共聚合，得到多種類型的B重復(fù)單元。B重復(fù)單元的特別有用的組合包括從甲基丙烯酸、甲基丙烯酰胺和N-苯基馬來酰亞胺中的兩種或多種形成的那些。第一種聚合物粘結(jié)劑是在內(nèi)層中占優(yōu)勢的聚合物材料。也就是說，它們占內(nèi)層中的總聚合物材料的大于50%和至多100%(千重)。然而，該內(nèi)層也可包括一種或多種的初級(primary)附加聚合物材料，前提條件是，這些初級附加聚合物材料不會負(fù)面影響內(nèi)層的耐化學(xué)性和溶解性臺匕a匕。有用的初級附加聚合物材料包括共聚物，該共聚物包括1-30mol%和優(yōu)選3-20mol。/。的從N-苯基馬來酰亞胺形成的重復(fù)單元，1-30mol%和優(yōu)選5-20mol。/。的/人曱基丙烯酰胺形成的重復(fù)單元，20-75mol。/。和優(yōu)選35-60mol。/o的從丙烯腈形成的重復(fù)單元，以及20-75mol。/。和優(yōu)選35-60mol。/。的從結(jié)構(gòu)(XI)的一種或多種單體形成的重復(fù)單元CH2=C(R23)-C02-CH2CH2-NH-CO-NH-p-C6H4-R22(XI)其中R22是OH，COOH或S02NH2,和R23是H或曱基，和，任選1-30mol%,和優(yōu)選，當(dāng)存在時，3-20mol。/。的從結(jié)構(gòu)(XII)的一種或多種單體形成的重復(fù)單元CH2=C(R25)-CO-NH-p-C6H4-R24(XII)其中R24是OH、COOH或S02NH2，以及R25是H或曱基。該內(nèi)層也可包括一種或多種二級附加聚合物材料，這些材料是具有活化羥甲基和/或活化烷基化羥曱基的樹脂。在內(nèi)層中的這些"二級附加聚合物材料"不應(yīng)該與用于外層中的"第二種聚合物粘結(jié)劑"混淆。二級附加聚合物材料能夠包括，例如可溶酚醛樹脂和它們的烷基化類似物，羥甲基蜜胺樹脂和它們的烷基化類似物(例如蜜胺-甲醛樹脂)，羥曱基甘脲樹脂和烷基化類似物(例如甘脲-甲醛樹脂)、硫脲-甲醛樹脂、二氨基三嗪-甲醛樹脂，和苯代三聚氰胺-曱醛樹脂?？缮藤彽拿郯?甲醛樹脂和甘脲-曱醛樹脂包括，例如，CYMEL⑧樹脂(DynoCyanamid)和NIKALAC⑧樹脂(SanwaChemical)。具有活化羥甲基和/或活化烷基化羥甲基的樹脂優(yōu)選是可溶盼醛樹脂或可溶酚醛樹脂的混合物?？扇芘稳渲潜绢I(lǐng)域中的技術(shù)人員公知的。它們是通過使用過量的苯酚，由苯酚與醛在堿性條件下的反應(yīng)制備的。可商購的可溶酚醛樹脂包括，例如，GP649D99可溶酚醛樹脂(GeorgiaPacific)和BKS-5928可溶酚醛樹脂(UnionCarbide)。有用的二級附加聚合物材料也能夠包括共聚物，該共聚物包括25-75mol。/。和35-60mol。/o的從N-苯基馬來酰亞胺形成的重復(fù)單元，10-50mol。/。和優(yōu)選15-40moiy。的/人甲基丙烯酰胺形成的重復(fù)單元，和5-30mol。/o和優(yōu)選10-30mol。/。的/人曱基丙烯酸形成的重復(fù)單元。這些二級附加共聚物已7>開在美國專利No6,294，311和6,528,228(兩者已在上文中列出)。可用于內(nèi)層中的第一種聚合物粘結(jié)劑以及初級和二級附加聚合物材料能夠通過一些方法制備，如自由基聚合法，這些是本領(lǐng)域中的技術(shù)人員公知的并且已描述在例如Macromolecules,Vo1.2,第二版的20和21章中,H.G.Elias,Plenum,N.Y.,1984。有用的自由基引發(fā)劑是過氧化物如過氧化苯曱酰，氫過氧化物如氳過氧化枯基和偶氮化合物如2,2，-偶氮雙(異丁腈)(AIBN)。合適的反應(yīng)溶劑包括對反應(yīng)物惰性的和另外不會負(fù)面影響反應(yīng)的液體。在優(yōu)選的實施方案中，該內(nèi)層進(jìn)一步包括在600-1200和優(yōu)選在700-1200nm處吸收輻射，在300到600nm處有最少吸收的紅外輻射吸收性化合物("IR吸收性化合物")。該化合物(有時已知為"光熱轉(zhuǎn)化材料")吸收輻射并將它轉(zhuǎn)化成熱。雖然聚合物材料中的一種可以本身包括IR吸收性結(jié)構(gòu)部分，但紅外輻射吸收性化合物通常是單獨的化合物。該化合物可以是染料或顏料,如鐵氧化物和炭黑。有用顏料的例子是ProJet900,ProJet860和ProJet830(全部可從ZenecaCorporation獲得)。有用的紅外輻射吸收性化合物也包括炭黑類，其中用增溶基團進(jìn)行表面官能化的炭黑類是現(xiàn)有技術(shù)中公知的。接枝到親水性、非離子的聚合物上的炭黑，如FX-GE-003(由NipponShokubai制造)，或用陰離子基團進(jìn)行表面官能化的炭黑，如CAB-O-JET200或CAB-O-JET300(由CabotCorporation制造)也是有用的。防止由;溶性物質(zhì)引起"i影劑的淤泥化。合適iR染料的例子包括但不限于，偶氮染料、squarilium染料、克酮酸酯(croconate)染料、三芳基胺染料、噻唑櫞(thioazolium)染料、吲咮镥(indolium)染料、氧雜菁染料、oxaxolnim染料、菁染料、部花青染料、酞菁染料、。引味菁(indocyanine)染并牛、錠苯胺染津牛、merostyryl染津牛、？引"朵三羧菁(indotricarbocyanine)染料、氧雜三羧菁(oxatricarbocyanine)染料、碌u菁(thiocyanine)染沖牛、石危雜三羧菁(thiatricarbocyanine)染泮+、部花青染料、隱花青染料、萘菁(naphthalocyanine)染料、聚苯胺染料、聚他p各染泮牛、聚p塞p分染誶牛、chalcogenopyryloarylidene和bi(chalcogenopyrylo)聚甲炔染詩牛、oxyindolizine染并+、p比喃鑣染津牛、外匕唑啉偶氮染料、嗜嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、quinoneimine染料、曱川型染料、芳基甲川型染料、斯夸苷(squarine)染料、哺唑染料、croconme染料、卟啉染料和前述染料類型的任何取代或離子形式。合適染料也已描述在^艮多的出版物中，其中包括美國專利No.6，294,311(以上所指出)和美國專利No.5,208,135(帕特爾等人)。ADS-830A和ADS-1064(AmericanDyeSource,BaieD'Urfe,Quebec,Canada),EC2117(FEW,Wolfen,Germany),CyasorbIR99和CyasorbIR165(GPTGlendaleInc.Lakeland,FL)和IR吸收性染料A。近紅外的吸收性菁染料也是有用的并且描述在例如美國專利No.6,309,792(Hauck等人),美國專利No.6,264,920(Achilefu等人),美國專利No.6,153,356(Urano等人)，美國專利No.5,496,903(Watanate23等人)中。合適的染料可以通過使用常規(guī)的方法和起始原料來形成或從各種商業(yè)來源獲得，其中包括AmericanDyeSource(Canada)和FEWChemicals(Germany)。近紅外二極管激光光束所用的其它有用染料已描述在例如美國專利No.4,973,572(DeBoer)中。除低分子量IR-吸收性染料之外，鍵接于聚合物上的IR染料結(jié)構(gòu)部分同樣能夠使用。另外，能夠使用IR染料陽離子，即，陽離子是與在側(cè)鏈中包含羧基、磺基、磷光體或膦?；鶊F的聚合物進(jìn)行離子相互作用的染料鹽的IR吸收性部分。紅外輻射吸收性化合物能夠以一般至少5%和至多30%和優(yōu)選12%-25%的量存在于可成像的元件中，以元件的總干重為基礎(chǔ)。優(yōu)選地，這一用量是以它所處于的層的總干重為基礎(chǔ)的。所要使用的特定化合物的具體量能夠容易地由本領(lǐng)域中技術(shù)人員確定。該內(nèi)層能夠包括其它組分，如表面活性劑、分散助劑、濕潤劑、生物殺傷劑、增粘劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑和著色劑。內(nèi)層一般具有0.5-2.5g/n^和優(yōu)選1-2g/m2的干燥涂層覆蓋率。如上所述的第一種聚合物粘結(jié)劑一般占至少50wt。/o和優(yōu)選60-90wt%,以總干燥層重量為基礎(chǔ)，并且這一用量能夠根據(jù)存在什么樣的其它聚合物和化學(xué)組分來改變。任何初級和二級附加聚合物材料(如線型酚醛清漆，可溶酚醛樹脂或以上指出的共聚物)能夠以5-45wt。/。和優(yōu)選5-25wt%的量存在，以內(nèi)層的總干重為基礎(chǔ)。可成像的元件的外層,皮布置在內(nèi)層之上并且在優(yōu)選的實施方案中，在內(nèi)層和外層之間沒有中間層。外層包括與如上所述的第一種聚合物粘結(jié)劑不同的第二種聚合物材料。它一般是如以下所定義的光穩(wěn)定的、水不溶性的、堿性顯影劑可溶的、成膜用的粘結(jié)劑材料。外層基本上不含紅外輻射吸收性化合物，意即這些化合物都沒有故意引入在其中并且沒有較大量從其它層擴散到其中。第二種聚合物粘結(jié)劑包括一般由下面結(jié)構(gòu)(I)或(II)表示的具有側(cè)掛羧基的重復(fù)單元，該重復(fù)單元占在第二種聚合物粘結(jié)劑中的總重復(fù)單元的至少3mol%:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>其中n是l-3(優(yōu)選1或2和更優(yōu)選1)。在結(jié)構(gòu)(I)或(II)中，Rs和Rt獨立地是氫或具有l(wèi)-7個碳原子的取代的或未被取代的烷基(如曱基、乙基、叔丁基或千基)，或卣素基團(如氯或溴)。優(yōu)選，Rs和Rt獨立地是氫或取代的或未被取代的曱基或氯基團，和更優(yōu)選，它們獨立地是氫或曱基。X是多價連接基團，其中包括但不限于多價脂肪族和芳族連接基團和它們的組合。在大部分的實施方案中，X是二價連接基團。此類基團能夠包括亞烷基、亞芳基、亞烷基亞芳基、亞芳基亞烷基、亞烷基氧基亞烷基、亞芳基氧基亞芳基和亞烷基氧基亞芳基，它們?nèi)磕軌蚴俏幢蝗〈幕虮徊粫?fù)面影響第二種聚合物粘結(jié)劑的特性的一種或多種取代基所取代的。優(yōu)選，X是取代的或未被取代的亞苯基基團，尤其當(dāng)n是l時。在結(jié)構(gòu)(II)中，Y是氧基或-NR-，其中R是氬或具有l(wèi)-10個碳原子的取代或未被取代的烷基(如曱基、乙基、異丙基、正己基和千基)或取代或未被取代的芳基(如苯基)。優(yōu)選Y是氧基。同樣在結(jié)構(gòu)(II)中，Z是一價有機基團，其中包括但不限于，一價脂肪族或芳族基團或它們的組合。此類基團與以上對于X所述的多價基團定義相似，但是也能夠包括亞芳基或亞烷基或它們的組合，有或沒有羰基[C(=0)]或酰胺基(-NH-)基團或它們的組合。例如，有用的Z基團包括-R，-NHC(=0)R"基團，其中R，是具有2-6個碳原子的取代或未被取代的亞烷基(如亞乙基和亞異丙基)，和R"是具有1-10個碳原子的取代或未被取代的烷基(如甲基、甲氧基甲基、乙基、異丙基、正己基和千基)或取代或未被取代的芳基(如苯基)。一個特別有用的Z基團是-CH2CH2NHC(=0)-苯基。Z也能夠是具有l(wèi)-10個碳原子的取代的或未被取代的烷基(如甲基、乙基、異丙基、叔丁基、正己基和芐基)。Z的特別有用的烷基包括具有l(wèi)-8個碳原子的那些(其中包括直鏈和支鏈丁基)。第二種聚合物粘結(jié)劑一4&具有至少20mgKOH/g的酸值和優(yōu)選25-45mgKOH/g的酸值。為了改變第二種聚合物粘結(jié)劑的酸性，側(cè)掛的羧酸基團的量能夠使用已知方法通過與惡唑啉反應(yīng)或通過用醇或烷基卣化物進(jìn)行酯化來調(diào)節(jié)(例如減少)。第二種聚合物粘結(jié)劑還一般具有至少1,000和至多250,000和優(yōu)選10,000到150,000的數(shù)均分子量，使用已知的技術(shù)測量。第二種聚合物粘結(jié)劑也能夠由下面的結(jié)構(gòu)(ni)表示-(A)x-(B)y-(III)其中A表示由結(jié)構(gòu)(I)或(II)或結(jié)構(gòu)(I)和(II)兩者定義的重復(fù)單元。因此，多種類型的單體能夠用于提供A重復(fù)單元。同樣在結(jié)構(gòu)(III)中，x是3-15mo10/。(優(yōu)選5-10mo10/。)，和y是85-97mol%(優(yōu)選90-95mol%)。在結(jié)構(gòu)(III)中，B表示與由A表示的那些不同的重復(fù)單元。它們能夠從一種或多種烯屬不飽和的可聚合單體形成，該單體能夠與用于形成A重復(fù)單元的單體共聚合，其中包括馬來酸肝。B重復(fù)單元的代表性有用單體包括但不限于，(甲基)丙烯酸酯、(曱基)丙烯酰胺、乙烯基醚、乙烯基酯、乙烯基酮、烯烴、不飽和酰亞胺(其中包括N-馬來酰亞胺)、不飽和酸酐(如馬來酸酐)、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基口卡唑、4-乙烯基吡啶、(甲基)丙烯腈或苯乙烯單體，或這些單體的任何組合。這些特定單體和類似類型已描述在例如美國專利申請出版物2004/0137366(對應(yīng)于EP1,433,594A)的段落至中。優(yōu)選，B表示結(jié)構(gòu)(m)的重復(fù)單元，它們從一種或多種(甲基)26丙烯酸酯，(曱基)丙烯腈，N-苯基馬來酰亞胺，或(甲基)丙烯酰胺如N-烷氧基烷基甲基丙烯酰胺或兩種或多種此類單體的組合形成。用于形成B重復(fù)單元的一些特別有用的單體包括曱基丙烯酸甲酯、苯乙烯、具有側(cè)掛環(huán)狀脲基團的烯屬不飽和的可聚合單體和它們的組合?？捎糜诒景l(fā)明的第二種聚合物粘結(jié)劑能夠使用各種方法來制備。例如，具有側(cè)掛羧酸基團的馬來酰亞胺聚合物能夠容易地通過使用常規(guī)的自由基引發(fā)劑[如2,2，-偶氮雙(異丁腈)或AIBN]所進(jìn)行的與結(jié)構(gòu)(I)的重復(fù)單元對應(yīng)的馬來酰亞胺單體的自由基聚合反應(yīng)，或通過在對反應(yīng)含結(jié)構(gòu)(ii)重復(fù)單元的聚:物能夠ii^馬來酸:的聚合反應(yīng)以及與醇或仲胺的后續(xù)反應(yīng)來獲得。這些反應(yīng)的反應(yīng)物和條件對于本領(lǐng)域中技術(shù)人員是容易獲知的，例如描述在Macromolecules的20和21章，2巻，第二版，H.G.Elias，Plenum,NewYork1984中。制備最優(yōu)選的共聚物1-3的代表性合成方法將提供在實施例之前的下文中。含有式(II)重復(fù)單元的聚合物也可作為商品如Scripset⑧540苯乙烯-馬來酸酐共聚物(/人Hercules,Wilmington,DE)獲得。第二種聚合物粘結(jié)劑能夠是均聚物或共聚物，這些術(shù)語是現(xiàn)有技術(shù)中所理解的。第二種聚合物粘結(jié)劑一般以1_100wt。/。和優(yōu)選85-100wty。的干燥覆蓋率存在于外層中，以該層的總干重為基礎(chǔ)。外層能夠任選包括著色劑。特別有用的著色劑已描述在例如美國專利No.6,294,311(以上已指出)中，其中包括三芳基甲烷染料如乙基紫、結(jié)晶紫、孔雀綠、亮綠、維多利亞藍(lán)B、維多利亞藍(lán)R和維多利亞純藍(lán)BO。這些化合物能夠用作對比染料，它在已顯影的可成像的元件中的將未成像的區(qū)域與成像區(qū)域區(qū)分開。外層能夠任選地還包括對比染料、打印輸出染料、涂覆用表面活性劑、分散助劑、濕潤劑、生物殺傷劑、增粘劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑和抗氧化劑。涂覆用表面活性劑是特別有用的。外層一般具有0.2-1g/n^和優(yōu)選0.4-0.7g/m2的干燥涂層覆蓋率。雖然不是優(yōu)選的，但是可能還有在內(nèi)層和外層之間并與內(nèi)層和外層接觸的隔離層。這一隔離層能夠用作阻隔層，以最大程度減少輻射吸收性化合物從內(nèi)層遷移到外層。這一隔離"阻隔"層一般包括可溶于堿性顯影劑中的第三種聚合物粘結(jié)劑。如果該第三種聚合物粘結(jié)劑與內(nèi)層中的第一種聚合物粘結(jié)劑不同，則它優(yōu)選可溶于至少一種有機溶劑，在該溶劑中內(nèi)層第一種聚合物粘結(jié)劑是不溶的。優(yōu)選的第三種聚合物粘結(jié)劑是聚(乙烯醇)。一般，該阻隔層應(yīng)該低于內(nèi)層厚度的五分之一，和優(yōu)選低于內(nèi)層厚度的十分之一。可成像的元件的制備可成像的元件能夠通過使用常規(guī)的涂覆方法或疊層方法，順序地將內(nèi)層配制劑施涂在基材(和在基材上提供的任何其它親水性層)的表面上，然后將外層配制劑施涂在內(nèi)層上來制備的。重要的是避免內(nèi)層和外層配制劑的摻混。內(nèi)部和外層能夠通過如下方法來施涂將所需成分分散或溶解在合適的涂覆溶劑中，所得配制劑隨后或同時使用合適的設(shè)備和程序施涂于基材上，如旋涂、刮刀涂布、凹版涂布、口模式涂布、槽縫涂覆、條形涂覆、繞線棒涂覆、滾涂或擠出機料斗涂覆。該配制劑也能夠通過被噴霧在合適的載體(如在壓印機筒)上來施涂。用于涂覆內(nèi)層和外層的溶劑的選擇取決于第一種和第二種聚合物止內(nèi)層和外層配制劑發(fā)生混合或防止當(dāng)施涂外層配制劑時內(nèi)層發(fā)生溶解，該外層配制劑應(yīng)該從一種溶劑中施涂，其中內(nèi)層的第一種聚合物粘結(jié)劑不溶于該溶劑中。一般，該內(nèi)層配制劑是從曱基乙基酮(MEK)、乙酸1-甲氧基-2-丙基酯(PMA)、y-丁內(nèi)酯(BLO)和水的溶劑混合物，MEK、BLO、水和i_甲氧基丙_2-醇(也已知為DowanolPM或PGME)的混合物，二乙基曱酮(DEK)、水、乳酸甲酯和BLO的混合物，DEK、水和乳酸曱酯的混合物，或乳酸曱酯、甲醇和二氧戊環(huán)的混合物涂覆的。外層配制劑能夠從不溶解內(nèi)層的溶劑或溶劑混合物中涂覆。用于此目的的典型溶劑包括但不限于，乙酸丁酯、乙酸異丁基酯、曱基異丁基酮、DEK、乙酸l-甲氧基-2-丙基酯(PMA)、異丙醇、PGME和它們的混合物。特別有用是DEK和PMA的混合物或DEK、PMA和異丙醇的混合物。另外地，該內(nèi)層和外層可以利用擠出涂覆方法從各層組合物的熔融混合物來施涂。此類熔融混合物通常不包含揮發(fā)性有機溶劑。中間干燥步驟可以在各種層配制劑的各自施涂之間使用，以便在涂覆其它配制劑之前除去溶劑。干燥步驟還有助于防止各層的混合。在干燥這些層之后，該元件能夠進(jìn)一步在抑制水分從干燥層中除去的條件下用在40。C-9(TC下的熱處理"調(diào)理"至少4小時(優(yōu)選至少20小時)。更優(yōu)選地，熱處理是在50。C到70。C下進(jìn)行至少24小時。在熱處理過程中，可成像的元件#:包裹或包圍在水不滲透性的片材中，以代表從版坯(precursor)中水分除去的有效屏障，或可成像的元件的熱處理是在相對濕度被控制到至少25%的環(huán)境中進(jìn)行的。另外，水不滲透性的片材能夠密封在可成像的元件周圍，其中水不滲透性的片材是聚合物膜或金屬箔，它被密封在可成像的元件周圍。在一些實施方案中，這一熱處理能夠用包括至少IOO個同樣的可成像的元件的堆疊，或當(dāng)可成像的元件是線圏形式時來進(jìn)行。制備本發(fā)明的可成像的元件的代表性方法示于下面的實施例1-5中。可成像的元件能夠具有任何有用的形式，其中包括但不限于，印刷版版坯，印刷筒、印刷套管和印刷帶(包括柔性印刷網(wǎng)幅)。優(yōu)選，該可成像的元件是用于提供平版印刷版的印刷版版坯。印刷版版坯能夠具有任何有用的尺寸和形狀(例如，正方形或矩形)，具有布置在合適基材上的必不可少的內(nèi)層和外層。印刷筒和套管已知為具有基材以及內(nèi)層和外層的圓柱形的輪轉(zhuǎn)印刷元件。中空或?qū)嵭慕饘傩灸軌蛴米饔∷⑻坠艿幕?。成像和顯影在《吏用過程中，可成《象的元件曝光于采用600-1500nm和優(yōu)選700-1200nm的波長的紅外激光器所發(fā)出的合適紅外光源。用于4吏可成像的元件曝光的激光器優(yōu)選是二極管激光器，歸因于二極管激光器系統(tǒng)的可靠性和低保養(yǎng)，但是其它激光器如氣態(tài)或固態(tài)激光器也可以使用。用于激光成像的功率、強度和曝光時間的結(jié)合對于本領(lǐng)域中技術(shù)人員是顯而易見的。目前，用于商購圖像定形機(imagesetter)中的高性能激光器或激光二才及管發(fā)射800-850nm或1040-1120nm的波長的紅外輻射。該成像裝置能夠僅僅用作版裝定機或它能夠直接引入到平版印刷機中。在后一種情形下，印刷可以緊接著在成像之后立即開始，由此顯著地減少印刷機設(shè)置時間。該成像裝置能夠構(gòu)型設(shè)計為平臺式記錄器或構(gòu)型設(shè)計為滾筒記錄器，其中可成像的元件被安裝到轉(zhuǎn)筒的內(nèi)部或外部圓柱形表面上。有用的成像裝置的例子是作為可從CreoCorporation(加拿大不列顛哥侖比亞省Burnaby市的EastmanKodakCompany的子公司)商購的CreoTrendsette^型號圖像定形機來獲得的，它裝有發(fā)射830nm波長的近紅外線輻射的激光二極管。其它合適的成像光源包括在1064nm波長下才喿作的Crescent42TPlatesetter和ScreenPlateRite4300系列或8600系列版裝定機(可以從Screen,Chicago,IL商購)。其它有用的輻射源包括直接成像的印刷機，它能夠用于使元件成像，與此同時該元件附著于印刷版圓柱形體上。合適的直接成像印刷機的例子包括HeidelbergSM74-DI印刷機(可以從Heidelberg,Dayton,OH獲得)。成像速度可以在50-1500mJ/cm2范圍內(nèi)和更特別地在75-400mJ/cm2范圍內(nèi)。盡管激光成像在本發(fā)明的實施中是優(yōu)選的，但是能夠由以圖像方式提供熱能的任何其它方式進(jìn)行成像。例如，成像能夠通過使用所謂的"熱敏印刷"的耐熱頭(熱印刷頭)來進(jìn)行，如已描述在例如美國專利No.5,488,025(Martin等人)中并且如已用于熱傳真機和升華印刷機中的那樣。熱印刷頭是可/人市場上獲得的(例如，作為FujitsuThermalHeadFTP-040MCS001和TDKThermalHeadF415朋7隱1089)。成像一般通過直接數(shù)字成像法來進(jìn)行。圖像信號作為位圖數(shù)據(jù)文件存儲在計算機上。此類文件可通過光柵圖像處理器(RIP)或其它合適方式來產(chǎn)生。該位圖經(jīng)過構(gòu)造來確定顏色的色調(diào)以及屏幕頻率和角度?？沙上竦脑某上駮a(chǎn)出成像元件，該元件包括已成像(曝光)和未成像(未曝光)區(qū)域的潛像。用合適的堿性顯影劑將成像元件顯影除去外層和底下層(包括內(nèi)層)的曝光區(qū)域，并且將基材的親水性表面曝光。因此，本發(fā)明的可成像的元件是"正性"的。親水性表面的曝光(或已成像)區(qū)域拒斥油墨，而外層的未曝光(或未成像)區(qū)域接受油墨。更具體地說，顯影進(jìn)行一段時間，該時間足以除去外層和底下層的已成像(曝光)區(qū)域，但是不足以除去外層的未成像(未曝光)區(qū)域。因此，外層的已成像(曝光)區(qū)域被描述為在堿性顯影劑中"可溶，，或"可除去"，因為與外層的未成像(未曝光)區(qū)域相比，它們在堿性顯影劑內(nèi)更容易被除去、溶解或分散。因此，術(shù)語"可溶，，也指"可分散的"。因為在外層中使用的第二種聚合物粘合劑的性質(zhì)，曝光區(qū)域的除30去在顯影過程中容易發(fā)生，但是外層的已除去部分在較長時間中保持懸浮或可溶于顯影劑溶液中。成像元件一般使用常規(guī)的處理條件來顯影。含水堿性顯影劑和溶劑型堿性顯影劑兩者都能夠使用，其中后一類型的堿性顯影劑是優(yōu)選的。用于本發(fā)明的特別有用的顯影劑是溶劑型堿性顯影劑，它們一般是可與水混溶的一種或多種有機溶劑的單相溶液。有用的有機溶劑能夠含有苯酚與環(huán)氧乙烷和環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物[如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)]、千醇、乙二醇和丙二醇與具有6個或更少碳原子的酸所形成的酯或乙二醇、二甘醇和丙二醇與具有6個或更少碳原子的烷基所形成的醚，如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。有機溶劑一般以0.5-15%的量存在，基于總顯影劑重量。特別希望的是，堿性顯影劑含有包括至少一個N-氫原子和一個烷基的一種或多種硫代硫酸鹽或氨基化合物，該烷基被親水基團如羥基、聚氧化乙烯鏈或pKa低于7(更優(yōu)選低于5)的酸性基團或它們的相應(yīng)鹽(如羧基、磺基、磺酸鹽基團、硫酸鹽基團、膦酸和磷酸鹽基團)取代。這一類型的特別有用的氨基化合物包括，但不限于，單乙醇胺、二乙醇胺、甘氨酸、丙氨酸、氨基乙基磺酸和它的鹽，氨基丙基磺酸和它的鹽和杰夫胺(Jeffamine)化合物(例如，氨基終止的聚氧化乙烯)。代表性溶劑型負(fù)性的堿性顯影劑包括ND-1顯影劑，955顯影劑，989顯影劑，980顯影劑和956顯影劑(可以從EastmanKodakCompany的子公司KodakPolychromeGraphics獲得)。這些負(fù)性顯影劑能夠優(yōu)選用于本發(fā)明的方法中，在由本發(fā)明提供的成像元件的顯影之后留下最少量的殘留物。另一種有用的顯影劑是如下所述的正性堿性顯影劑W129C3A顯影劑。在使用這一顯影劑之后留下最少量的殘留物。含水的堿性顯影劑一般具有至少7和優(yōu)選至少11的pH。有用的堿性濕顯示劑包括3000顯影劑、9000顯影劑、GOLDSTAR顯影劑、GREENSTAR顯影劑、ThermalPro顯影劑、PROTHERM顯影劑、MX1813顯影劑和MX1710顯影劑(全部可從EastmanKodakCompany的子公司KodakPolychromeGraphics獲得)。這些組合物還一般包括表面活性劑、螯合劑(如乙二胺四乙酸的鹽)，和堿性組分(如無機硅酸鹽、有機硅酸鹽、氫氧化物和碳酸氬鹽)和任選的溶劑。一般，堿性顯影劑通過用含有顯影劑的施涂器摩擦或擦拭外層而被施涂于成像元件上。另外地，成像元件能夠被刷涂以顯影劑或顯影劑可通過用足夠的力噴霧外層，以除去曝光區(qū)域來施涂。成像元件優(yōu)選被浸于顯影劑中。在全部例子中，生產(chǎn)顯影的圖像，特別在平版印刷版中。在顯影之后，成像元件能夠用水漂洗并以合適的方式干燥。干燥后的元件也能夠用常規(guī)的涂膠溶液(優(yōu)選阿拉伯樹膠)處理。已成像和顯影的元件也能夠在后烘烤操作中烘烤，該操作能夠進(jìn)行以便增大所形成的成像元件的游程(run)長度。烘烤能夠在例如220。C-240。C下進(jìn)行7分鐘-10分鐘或在120°C下進(jìn)行30分鐘。平版油墨和潤版液能夠被施涂于用于印刷的成像元件的印刷表面上。油墨被外層的未成像(未曝光或未除去)區(qū)域吸收并且潤版液被基材的通過成像和顯影過程所顯露的親水性表面吸收。該油墨然后被轉(zhuǎn)移到合適的接收材料(如布料、紙、金屬、玻璃或塑料)上，以在其上面提供圖像的所需壓印層。如果需要的話，中間體"包覆橡皮"輥可用于將油墨從成像元件中轉(zhuǎn)移到接收材料。如果需要的話，成像元件能夠在壓印層之間清洗，其中使用常規(guī)的清洗手段和化學(xué)品。下列實施例一皮提供來舉例說明本發(fā)明的實施，但是絕不是以任何方式限制本發(fā)明。實施例在實施例和分析方法中4吏用的組分和材料是如下MEK是曱基乙基酮。DEK是二乙基甲酮。PGME是l-甲氧基丙-2-醇(也已知為DowanolPM)。BLO是Y-丁內(nèi)酯。PMA是乙酸l-曱氧基-2-丙基酯。DMAC是二甲基乙酰胺。IRDyeA是乂人EastmanKodakCompany獲得的并且由下面通式表IRDyeAIRDyeB是KayabsorbPS210CNE,它是紅外吸收性染料(NipponKayakuCo,Ltd.，Japan)。IRDyeC由EastmanKodak(Rochester,NY)供應(yīng)并具有下面通式IRDyeC聚合物A是具有從N-苯基馬來酰亞胺(41.5mol%),甲基丙烯酰胺(37.5mol%)和曱基丙烯酸(21mol%)形成的重復(fù)單元的共聚物，它從Clariant(德國)獲得。聚合物B是具有從N-苯基馬來酰亞胺(40mol%),曱基丙烯酰胺(19mol%),甲基丙烯酸(15mol%)和N-(2-曱基丙烯酰氧基乙基)乙烯(26mol%)形成的重復(fù)單元的共聚物并具有57的酸值。聚合物C是具有下面結(jié)構(gòu)的聚合物Scripset540是/人苯乙烯以及馬來酸酸酐的丁基酯形成的共聚物(Monsanto)。GPResole是雙酴A可溶酚醛樹脂(GeorgiaPacificChemicals,Atlanta,GA)。JK58是聚(N-苯基馬來酰亞胺-共聚-甲基丙烯酰胺-共聚-甲基丙烯酸)(50:35:15mol%),從Clariant(德國)獲得。ACR1755是聚(苯曱酸甲基丙烯酰胺-共聚-丙烯腈-共聚-曱基丙烯酰胺-共聚-N-苯基馬來酰亞胺)(37:48:10:5wt%)。乙基紫是C.I.42600(CAS2390-59-2,入腿=596nm),具有通式(p-(CH3CH2)2NC6H4)3C+Cr(AldrichChemicalCompany,Milwaukee,WI,USA)。Byk307是可從BykChemie(Wallingford,Conn.)獲得的聚乙氧基化的二曱聚硅氧烷共聚物在25wt。/。二甲苯/-乙酸甲氧基丙基酯中的溶液?；腁是已經(jīng)電粒化的、陽極化和經(jīng)受聚(乙烯基膦酸)處理的0.3mm類L才各鋁片。989顯影劑、956顯影劑、980顯影劑和ND1顯影劑是可從KodakPolychromeGraphics(Norwalk,CT,EastmanKodakCompany的子公司)獲得的負(fù)性顯影劑。W129C3A是含有硅酸鈉，DowanolEPH和二乙醇胺(pH13)的溶劑型正性顯影劑。制備下列聚合物并用于在實施例中所述的一些可成像的元件的外34￡III;ff-H:c—cIc-OICICIN—CI:fr*層中共聚物1的合成在裝有攪拌器、氮氣導(dǎo)入管和冷凝器的三頸圓底燒瓶中添加已經(jīng)加熱至85。C的甲基乙基酮(150g)和二甲基乙酰胺(10g)。在該溶劑混合物中添加甲基丙烯酸甲酯(46.55g)和N-(4-羧基苯基)馬來酰亞胺(7.6g),4吏之溶解。在用氮氣徹底吹洗15分鐘之后，添加AIBN(0.12g),然后降〗氐氮氣壓力。在1小時的反應(yīng)后，再次添加AIBN(0.7g),反應(yīng)在85。C下繼續(xù)進(jìn)行3小時。溶液在600ml的石油醚(Waschbenzin135/180)中沉淀。所得共聚物1被過濾并在4(TC下在真空烘箱中干燥。共聚物1的酸值被測得是35。共聚物2的合成在已溶于曱基乙二醇乙酸酯(200g)的Scripset540共聚物(20g)中添加乙基噹唑啉(15g)。溶液在氮氣下在110。C下加熱6小時。所得共聚物2在水中沉淀，洗滌，并且在4(TC下在真空烘箱中干燥。干燥的共聚物2^皮測得具有33的酸值。共聚物3的合成在裝有攪拌器、氮氣導(dǎo)入管和冷凝器的三頸圓底燒瓶中添加已經(jīng)加熱至85。C的MEK(150g)和DMAC(10g)。向這一溶劑混合物中添加曱基丙烯酸甲酯(46.55g)和馬來酸酸酐(3.43g)，然后使之溶解。在用氮氣徹底吹洗15分鐘之后，添加AIBN(0.12g),然后降低氮氣壓力。在l小時后，再次添加AIBN(0.70g),反應(yīng)在85。C下繼續(xù)進(jìn)4亍3小時。在這一溶液中添加正丁醇(2.59g),然后添加三乙胺(0.26g)和將其進(jìn)一步在85。C下加熱2小時，在室溫下方文置一夜。溶液然后沉淀在600ml的石油醚(Waschbenzin135/180)中，所得共聚物3被過濾并在40。C下在真空烘箱中干燥。共聚物3的酸值被測得是34。實施例1本發(fā)明的正性可成像的元件制備如下。通過將表I中所示的下列組分溶解在包含MEK(45%),PMA(35%),BLO(10%)和水(10%)的溶劑混合物中來制備內(nèi)層配制劑(6%固體)。表I<table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>該內(nèi)層配制劑溶液;故涂覆在基材A上并在135。C下干燥45秒，以提供1.3g/m"的干涂層重量。上層配制劑用已溶于20g的由DEK和DowanolPM(9:1重量比)形成的溶劑混合物中的共聚物2(2.4g),Byk307(0.012g)和乙基紫(0.013g)來制備，并涂覆在干燥的內(nèi)層上以提供0.65g/m2的干燥外涂層重量。所形成的可熱成像的元件在135'C下干燥45秒。通過使用CreoQuantum800圖像定形機(67-161mJ/cm2)，在9W功率以及150rpm-360rpm之間的轉(zhuǎn)筒速度下以30rpm的步進(jìn)，該元件用測試圖案來成像。所得已成像的印刷版用989顯影劑顯影30秒，以便在大于93mJ/cm2的曝光功率下得到具有優(yōu)異分辯率和清潔背景的良好圖像。共聚物l在989顯影劑中的溶解度通過將0.3g的共聚物l在30ml的顯影劑中攪拌來評價。共聚物2完全地溶解，沒有留下任何殘留物。實施例2本發(fā)明的正性可成像的元件制備如下。通過將表II中所示的下列組分溶解在包含MEK(45%),PMA(35%),BLO(10%)和水(10%)的溶劑混合物中來制備內(nèi)層配制劑(6%固體)。表n<table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>該內(nèi)層配制劑溶液被涂覆在基材A上并在135。C下干燥45秒，以提供1.35g/m2的干涂層重量。上層配制劑用已溶于20g的由DEK、DowanolPM和異丙醇(8:1:1重量比)形成的溶劑混合物中的共聚物1(2.4g),Byk307(0.012g)和乙基紫(0.013g)來制備，并涂覆在干燥的內(nèi)層上以提供0.55g/m2的干燥外涂層重量。所形成的可熱成^^的元件在135。C下干燥45秒。通過使用CreoQuantum800圖^f象成形機(67-161mJ/cm2),在9W功率以及150rpm-360rpm之間的轉(zhuǎn)筒速度下以30rpm的步進(jìn)，該元件用測試圖案來成像。所得已成像的印刷版用980顯影劑在GlunzandJensen處理器中在1200mm/min下顯影，以便在大于93mJ/cm2的曝光功率下得到具有優(yōu)異分辯率和清潔背景的良好圖像。共聚物1在980顯影劑中的溶解度通過將0.3g的共聚物1在30ml的顯影劑中攪拌來評價。共聚物l完全地溶解，沒有留下任何殘留物。本發(fā)明的正性可成像的元件制備如下。通過將表III中所示的下列組分溶解在包含MEK(45%),PMA(35%),BLO(10%)和水(10%)的溶劑混合物中來制備內(nèi)層配制劑(6%固體)。<table>tableseeoriginaldocumentpage37</column></row><table>該內(nèi)層配制劑溶液^皮涂覆在基材A上并在135。C下干燥45秒，以提供1.35g/n^的干涂層重量。上層配制劑用已溶于20g的由DEK、DowanolPM和異丙醇(8:1:1重量比)形成的溶劑混合物中的共聚物2(2.4g),Byk307(0.012g)和乙基紫(0.013g)來制備，并涂覆在干燥的內(nèi)層上以提供0.60g/m2的干燥外涂層重量。所形成的可熱成#^的元件在135'C下干燥45秒。通過使用CreoQuantum800圖像成形機(67-161mJ/cm2),在9W功率以及150rpm-360rpm之間的轉(zhuǎn)筒速度下以30rpm的步進(jìn)，該元件用測試圖案來成像。所得已成像的印刷版用W129C3A顯影劑顯影30秒，以便在大于93mJ/cm2的曝光功率下得到具有優(yōu)異分辯率和清潔背景的良好圖像。共聚物2在W129C3A顯影劑中的溶解度通過將0.3g的共聚物2在30ml的顯影劑中攪拌來評價。共聚物2完全地溶解，沒有留下任何殘留物。實施例4本發(fā)明的正性可成像的元件制備如下。通過將表IV中所示的下列組分溶解在包含MEK(45%),PMA(35%),BLO(10%)和水(10%)的溶劑混合物中來制備內(nèi)層配制劑(6%固體)。表IV<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>該內(nèi)層配制劑溶液祐:涂覆在基材A上并在135。C下干燥45秒，以提供1.35g/n^的干涂層重量。上層配制劑用已溶于20g的由DEK、DowanolPM和異丙醇(8:1:1重量比)形成的溶劑混合物中的共聚物3(2.4g)，Byk307(0.012g)和乙基紫(0.013g)來制備，并涂覆在干燥的內(nèi)層上以提供0.55g/m2的干燥外涂層重量。所形成的可熱成像的元件在135。C下干燥45秒。通過使用CreoQuantum800圖J象成形糸L(67-161mJ/cm2)，在9W功率以及150rpm-360rpm之間的轉(zhuǎn)筒速度下以30rpm的步進(jìn)，該元件用測試圖案來成〗象。所得已成像的印刷版用956顯影劑顯影30秒，以便在大于89mJ/cn^的曝光功率下得到具有優(yōu)異分辯率和清潔背景的良好圖像。共聚物3在956顯影劑中的溶解度通過將0.3g的共聚物3在30ml的顯影劑中攪拌來評價。共聚物3幾乎完全溶解，有極少的殘留物。比較起來，聚(曱基丙烯酸曱酯)的相同尺寸樣品沒有溶于顯影劑中。實施例5通過使用在下表V中所示組分制備內(nèi)層和外層配制劑(各100g的溶液，有7%固體)。表V<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>^溶劑二DEK/PGMEA(92/8,按重量)內(nèi)層配制劑通過使用0.012英寸(0.03cm)繞線棒被施涂于基材A上，并在135。C下干燥30秒，以得到約1.5g/n^的干燥涂層。外層配制劑通過使用0.006英寸(0.015cm)繞線棒被施涂于千燥內(nèi)層上，并在135。C下干燥30秒，以得到約0.60g/n^的干燥涂層。本發(fā)明的所得可成<象的元件進(jìn)行下列測試顯影劑溶解度水:ND1(4:1重量比)的液滴被施加于未曝光元件上，以10-秒間隔，長達(dá)120秒。該顯影劑溶液隨即用水洗掉。記錄顯影劑溶液開始侵蝕外層所需要的時間。成^象試-驗該元件通過4吏用ScreenPTR4300圖X反裝定器，采用Cl2400Dpi內(nèi)部測試圖案，在1000rpm的滾筒轉(zhuǎn)速下，以50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%和90%功率的曝光功率，進(jìn)行成像。成像元件然后在含有水/NDl(4.5:1重量比)的KodakPolychromeGraphicsPK910II處理器中進(jìn)行處理。該處理器在洗片桶內(nèi)裝有兩個絨輥，顯影劑溫度是3(TC和顯影時間是12秒。所得處理的印刷版被評價清除性(生產(chǎn)潔凈圖像所需要的最短曝光時間)和最佳曝光率(生產(chǎn)最佳圖像質(zhì)量的曝光率)。試驗結(jié)果顯示在下表VI中。未曝光的元件顯示出良好的耐顯影劑溶液性能并且印刷版的曝光外層容易地在處理器中被顯影劑溶液除去。印刷版提供了優(yōu)異的，高對比度的和高分辨率的圖像。表VI<table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table>共聚物1的進(jìn)一步評價如下進(jìn)行。ND1顯影劑用4份水稀釋，形成ND1(1+4)顯影劑溶液。共聚物1(0.1g)一皮添加到9.9g的ND1(1+4)顯影劑溶液中并混合24小時，在此之后顯影劑、溶液一皮才企查不溶性殘余物。顯影劑溶液,皮發(fā)現(xiàn)完全清除了不溶性物質(zhì)。共聚物1已經(jīng)完全地溶解。在本實施例中的評價結(jié)果表明，雖然外層共聚物l提供優(yōu)異的耐顯影劑溶液性能以便在曝光和顯影的印刷版中形成優(yōu)異的圖像，但它最終完全地溶于該顯影劑溶液中。共聚物l被認(rèn)為是外層的清潔處理聚合物粘結(jié)劑。當(dāng)根據(jù)本發(fā)明使用顯影劑溶液時該顯影劑溶液是不需要過濾的，并且隨著時間的推移，在洗片桶中涂層殘留物的固體淀積物不可能產(chǎn)生。因此，共聚物l和在本發(fā)明的范圍內(nèi)的其它第二種聚合物粘結(jié)劑可理想地用于可成像的元件中，該元件在浸桶中使用負(fù)性顯影劑以為了維持顯影劑所需要的最小過濾進(jìn)行處理。權(quán)利要求1.正性可成像的元件，它在熱成像之后可用堿性顯影劑顯影，并且包括紅外輻射吸收性化合物和基材，在該基材上順序具有包含第一種聚合物粘結(jié)劑的內(nèi)層，和包含與所述第一種聚合物粘結(jié)劑不同的第二種聚合物粘結(jié)劑的接受油墨的外層，該第二種聚合物粘結(jié)劑包含由下面結(jié)構(gòu)(I)或(II)表示的重復(fù)單元，該重復(fù)單元占該第二種聚合物粘結(jié)劑中的總重復(fù)單元的至少3mol％其中n是1-3，Rs和Rt獨立地是氫或烷基或鹵素基團，X是多價連接基團，Y是氧基或-NR-，其中R是氫或烷基或芳基，和Z是一價有機基團。2.權(quán)利要求1的元件，其中n是1或2,Rs和Rt獨立地是氳或甲基，X是多價的脂肪族或亞芳基基團或它們的組合，R是烷基，和Z是一價脂肪族或芳族基團或它們的組合。3.權(quán)利要求l的元件，其中Rs和Rt獨立地是氫或甲基，X是亞苯基基團，n是l,Y是氧基，和Z是-R，-NHC(=0)R"基團，其中R，是亞烷基和R"是烷基或芳基，或Z是烷基。4.權(quán)利要求l的元件，其中Rs和Rt獨立地是氫或甲基，Y是氧基和Z是-CH2CH2NHC(=0)-苯基或具有1-8個碳原子的烷基。5.權(quán)利要求1的元件，其中所述第二種聚合物粘結(jié)劑具有至少20mgKOH/g的酸值。6.權(quán)利要求1的元件，其中所述第二種聚合物粘結(jié)劑是以1-100wty。的干燥覆蓋率存在于所述外層沖，基于該外層的總干重。7.權(quán)利要求1的元件，其中所述第二種聚合物粘結(jié)劑是由以下結(jié)構(gòu)(III)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(III)其中A表示由結(jié)構(gòu)(I)或(II)或由結(jié)構(gòu)(I)和(II)兩者定義的重復(fù)單元，B表示不同于結(jié)構(gòu)(I)和(II)兩者的重復(fù)單元，x是3-15mo10/0和y是85-97mol%。8.權(quán)利要求7的元件，其中B表示從一種或多種(曱基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺，乙烯基醚，乙烯基酯，乙烯基酮，烯烴，不飽和酰亞胺，不飽和酸酐，N-乙烯基吡咯烷酮，乙烯基。卡唑，4-乙烯基吡啶，(甲基)丙烯腈，苯乙烯單體或它們的組合形成的重復(fù)單元。9.權(quán)利要求7的元件，其中B表示從一種或多種(曱基)丙烯酸酯，(曱基)丙烯腈，N-苯基馬來酰亞胺，具有側(cè)掛環(huán)狀脲基團的單體或(甲基)丙烯酰胺形成的重復(fù)單元。10.權(quán)利要求7的元件，其中x是5-10molQ/o和y是90-95mol%(優(yōu)選范圍)。11.權(quán)利要求1的元件，其中所述紅外輻射吸收性化合物是炭黑或在700-1200nm處有最大吸收率的IR吸收性染料并且是以至少5wt。/o的量存在于所述內(nèi)層。12.權(quán)利要求l的元件，其中所述第一種聚合物粘結(jié)劑是包含羧基的(曱基)丙烯酸樹脂、馬來酸化木松香、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、(甲基)丙烯酰胺聚合物、(甲基)丙烯腈聚合物、從N-取代環(huán)狀酰亞胺形成的聚合物、具有側(cè)掛環(huán)狀脲基團的聚合物，以及從N-烷氧基烷基-甲基丙烯酰胺形成的聚合物。13.權(quán)利要求l的元件，其中所述第一種聚合物粘結(jié)劑是從N-取代環(huán)狀酰亞胺、(曱基)丙烯腈、(甲基)丙烯酸和具有側(cè)掛環(huán)狀脲基團的單體中的一種或多種形成的共聚物。14.權(quán)利要求1的元件，其中所述內(nèi)層具有0.5-2.5g/n^的干燥涂層覆蓋率和該外層具有0.2-1g/m"的干燥涂層覆蓋率。15.形成圖^f象的方法，該方法包括A)將正性可成像的元件進(jìn)行熱成像，該元件在熱暴露之前可在堿性顯影劑中顯影，并且包括紅外輻射吸收性化合物和基材，在該基材上按順序具有包含第一種聚合物粘結(jié)劑的內(nèi)層，和包含與所述第一種聚合物粘結(jié)劑不同的第二種聚合物粘結(jié)劑的接受油墨的外層，該第二種聚合物粘結(jié)劑包含由下面結(jié)構(gòu)(I)或(II)表示的重復(fù)單元，該重復(fù)單元占該第二種聚合物粘結(jié)劑中的總重復(fù)單元的至少3mol%:(I)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>其中n是l-3，Rs和Rt獨立地是氫或烷基或卣素基團，X是二價連接基團，Y是氧基或-NR-,其中R是氫或烷基，和Z是一價有機基團。因此形成具有成像和未成像區(qū)域的成像元件，B)讓該成像元件與堿性顯影劑接觸以便僅僅除去所述已成像的區(qū)域5和C)任選地，烘烤所述已成像的和顯影的元件。16.權(quán)利要求15的方法，其中在步驟A中的成像是通過使用在700nm-1200nm范圍內(nèi)的紅外輻射來進(jìn)行的。17.權(quán)利要求15的方法，其中所述第二種聚合物粘結(jié)劑是由以下結(jié)構(gòu)(III)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>(III)其中A表示由結(jié)構(gòu)(i)或(n)或由結(jié)構(gòu)(i)和(n)兩者定義的重復(fù)單元，B表示不同于結(jié)構(gòu)(I)和(II)兩者的重復(fù)單元，x是3-15mo10/。，和y是85-97mol%。18.權(quán)利要求17的方法，其中B表示從一種或多種(曱基)丙烯酸酯，(曱基)丙烯酰胺，乙烯基醚，乙烯基酯，乙烯基酮，烯烴，不飽和酰亞胺，不飽和酸酐，N-乙烯基吡咯烷酮，N-乙烯基口卡唑，4-乙烯基吡啶，(曱基)丙烯腈，苯乙烯單體或它們的組合形成的重復(fù)單元，x是5-10mo1。/。，y是90-95mol%(優(yōu)選的范圍)，和該紅外輻射吸收性化合物是炭黑或IR吸收性染料并且以5-30wt。/。的量存在于該內(nèi)層中。19.權(quán)利要求15的方法，其中堿性顯影劑是溶劑型的負(fù)性的堿性顯影劑。20.從權(quán)利要求15的方法獲得的成像元件。全文摘要正性可成像的元件，包括內(nèi)層和外層以及紅外輻射吸收性化合物如IR吸收性染料。該內(nèi)層包括第一種聚合物材料。接受油墨的外層包括包含側(cè)掛羧基的第二種聚合物粘結(jié)劑，該粘結(jié)劑為可成像的元件提供了改進(jìn)的耐化學(xué)性并減少了顯影帶來的殘留物。文檔編號B41C1/10GK101426649SQ200780013848公開日2009年5月6日申請日期2007年4月10日優(yōu)先權(quán)日2006年4月17日發(fā)明者A·P·基特森,C·薩瓦里爾豪克,H·鮑曼申請人:伊斯曼柯達(dá)公司