專利名稱：：平版印版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及制作平版印版的方法，其中，采用堿性顯影液對成像曝光前體(image-wiseexposedprecursor)進行顯影，其中在所述前體或所述顯影液中，或者在所述前體連同所述顯影液中存在抗淤渣劑，所述抗淤渣劑是包含-NH-基團的5-元芳香雜環(huán)化合物，該-NH-基團中的所迷H在所述堿性顯影液中能被去質(zhì)子化，所述芳香雜環(huán)化合物選自任選取代的苯并三唑，1，2，3-三唑，四唑或吲唑化合物。本發(fā)明還涉及包含所述抗淤渣劑的堿性顯影液或補充液。本發(fā)明還涉及包含所述抗淤渣劑的平版印版前體。
背景技術(shù)：
：平版印刷一般包括使用所謂的印刷底版，比如裝在輪轉(zhuǎn)印刷機的滾筒上的印版。一該底版的表面上帶有平版圖像，在所述圖像上施涂油墨，然后將油墨從底版轉(zhuǎn)印至接受材料上而制得印刷品，所述接受材料通常是紙。在傳統(tǒng)的平版印刷中，將油墨和水性潤版液(也稱作潤濕液)供給平版圖像，平版圖像由親油的(或疏水的，即接受油墨而排斥水)區(qū)域以及親水的(或疏油的，即接受水而排斥油墨的)區(qū)域組成。在所謂的無水膠印中，平版圖像由油墨接受和油墨防粘(排斥油墨的)區(qū)域組成，而且在無水膠印過程中，僅將油墨供給底版。-印刷底版通常通過對稱為印版前體的成像材料進行成像曝光和處理獲得。典型的陽片版前體包含親水載體和親油涂層，親油性涂層在非曝光狀態(tài)下在含水堿性顯影劑中不易溶解，而經(jīng)輻射啄光后變成可溶于顯影劑中。除了眾所周知的適于透過膜掩模(所謂的預(yù)制感光版)接觸紫外光而曝光的感光成像材料，熱敏印版前體也變得非當普及。這樣的熱材料提供日光穩(wěn)定性的優(yōu)點，特別用于所謂的計算機至印版方法(CtP)，在該方法中使印版前體直接曝光，即不使用膜掩模。使該材料暴露于熱或紅外光，產(chǎn)生的熱量觸發(fā)(物理)化學(xué)過程，比如燒蝕、聚合，因聚合物的交聯(lián)或熱塑性聚合物膠乳的微粒凝聚而導(dǎo)致的不溶解，以及通過破壞分子間相互作用或提高砂顯影屏蔽層的滲透性而導(dǎo)致的增溶。雖然這些熱加工中的一些能夠在不進行濕法處理下制版，但是最普及的熱印版是在堿性顯影劑中，通過涂層的皞光和非曝光區(qū)之間的由熱引起的溶解性差異而形成罔像。涂層一般包含油的粘合劑(binder),其在顯影劑中的溶解速率通過成像曝光而降低(陰圖制版)或增加(陽圖制版)。典型地，熱敏印版中的親油性樹脂為酚醛樹脂，比如線型酚醛樹脂、曱階酚醛辨脂或聚乙烯基酚醛樹脂。該酚醛樹脂可以被化學(xué)改性，由此酚醛單體單元被諸如下列文獻中所述的基團取代W09窗795、EP934882、EP1072432、US3,929,488、WO2004/035687、WO2004/035686、WO2004/035645、WO2004/035310。該酚醛樹脂也可與其它的聚合物混合，這些聚合物描述于WO2004/020484、US6,143,464、WO2001/09682、EP933682、WO99/63407、WO2002/53626、EP1433594和EP1439058中。涂層也可以由兩層或更多層組成，其中每層均包括一種或多種上述的樹脂:如描述于EP864420、EP卯9657、EP-A1011970、EP-A1263590、EP-A1268660、EP-A1072432、EP-A1120246、EP-A1303399、EP-A1311394、EP-A1211065、EP-A1368413、EP-A1241003、EP-A1299238、EP-A1262318、EP-A1275498、EP-A1291172、WO2003/74287、WO2004/33206、EP-A1433594和EP-A1439058中。對于陽圖制版熱印版，將溶解抑制劑加到作為粘合劑的酚醛樹脂中，從而降低備層的溶解速率。一經(jīng)加熱，膝光區(qū)與非爆光區(qū)相比，該涂層的降低了的溶解速率就余升高，導(dǎo)致在經(jīng)受熱或紅外輻射的成像記錄后，涂層的溶解性產(chǎn)生足夠大的差異。許多不同的溶解抑制劑是已知的并在文獻中被公開，比如具有芳族基團和氫鍵位點的有機化合物或包含硅氧烷或氟代烷基單元的聚合物或表面活性劑。在處理過程中，溶解性差異導(dǎo)致去除涂層的非圖像(非印刷)區(qū)域，從而暴露出親水的栽體，而涂層的圖像(印刷)區(qū)域仍保留在載體上。因此，非圖像(非印席'()區(qū)域的涂層溶解于堿性顯影液中，造成構(gòu)成涂層的組分在顯影液中累積，可能導(dǎo)致'i渣(sludge)的形成。應(yīng)理解所有種類的不溶物，比如未溶解的，絮凝的或沉淀的產(chǎn)物或凝膠結(jié)構(gòu)都屬于淤渣，它們在顯影液中通過涂層的成分和顯影液間的相互作用而形成。這種不溶物可能粘附于印版表面而損害印版上的圖像，也可能粘附于墨輥或孕影槽的表面而污染顯影臺。由于淤渣的形成，顯影過程可能受阻(增加了顯影液的粘度，損壞印版上的圖像，并污染顯影臺，阻塞過濾器)，因此，顯影液需定期更換。:WO97/39894公開了一種親油的熱敏組合物，其包含可溶于水性顯影劑的聚會物，和抑制性化合物，比如含氮的雜環(huán)化合物(例如喹淋和1，2，4-三唑)，該抑制性化合物降低了聚合物在水中的溶解性，并且一經(jīng)加熱，該組合物在顯影劑中的溶解性就會升高。發(fā)明概述本發(fā)明的一方面是提供一種制作熱敏平版印版的方法，由此可以獲得優(yōu)異的印刷性能，并且抑制或減少淤渣的形成。通過權(quán)利要求1中定義的方法來實現(xiàn)該目標，垂方法的特征在于前體或顯影液，或前體連同顯影液包含抗淤渣劑，所述抗淤渣劑是包含-NH-基團的5-元芳香雜環(huán)化合物，該-NH-基團中的所述H在堿性顯影液中能ft去質(zhì)子化，所述芳香雜環(huán)化合物選自任選取代的苯并三唑，1，2,3-三唑，四唑或巧l如化合物。本發(fā)明的另一方面是提供一種包含抗淤渣劑的堿性顯影液或補充液，所述抗淤渣劑是包含-NH-基團的5-元芳香雜環(huán)化合物，該-NH-基團中的所述H在所述堿性顯影液中能被去質(zhì)子化，所述芳香雜環(huán)化合物選自任選取代的苯并三唑，1，2，3-三唑，四唑或丐l喳4t合物。本發(fā)明的又一方面是提供一種包含抗淤渣劑的平版印版前體，所述抗淤渣劑是包含-NH-基團的5-元芳香雜環(huán)化合物，該-NH-基團中的所述H在所述堿性顯影液中能被去質(zhì)子化，所述芳香雜環(huán)化合物選自任選取代的笨并三唑，1，2，3-三唑，四唑或叼l唑化合物。。發(fā)明人驚奇地發(fā)現(xiàn)，該前體還具有改善的成像曝光感光度的額外益處。本發(fā)明的具體實施方式限定于從屬權(quán)利要求中。發(fā)明詳述根據(jù)本發(fā)明，提供了制作平版印版的方法，其包括如下步驟(1)提供熱敏平版印版前體，其在栽體上包含熱敏涂層，所述載體具有親水i面或具備親水層，(2)用紅外輻射或熱量使所述前體成像曝光，和(3)用堿性顯影液使所述成像曝光的前體顯影，其特征在于，在所述前體或所述顯影液中，或者在所述前體連同所述顯影液中含有抗淤渣劑，其中所述抗淤渣劑是包含-NH-基團的5-元芳香雜環(huán)化合物，該-NH-基團中的所述H在所述堿性顯影液中能被去質(zhì)子化，所述芳香雜環(huán)化合物選自任選取4、的苯并三哇、1，2，3-三哇、四峻或p引唑化合物。在一個優(yōu)選的實施方式中，本發(fā)明所述的芳香雜環(huán)化合物選自任選取代的苯并三峻或四哇；更優(yōu)選任選取代的苯并三峻。本發(fā)明的苯并三唑、1，2，3-三唑、四唑或吲唑化合物可被選自以下的至少一個奉團取代烷基、環(huán)烷基、鏈烯基或環(huán)烯基，例如甲基、乙基、丙基、丁基、丁烯基義環(huán)己基、環(huán)己烯基、辛基、癸基、十一烷基或十二烷基；芳基或雜芳基，例如苯基、萘基、吡t基、咪唑基或四唑基；烷基芳基或芳基烷基，例如芐基；烷氧基或芳氧基，例如甲氧基或苯氧基；芳香醇基，例如苯酚；硫代烷基、硫代芳基或硫代雜芳基，例如—S-曱基、-S-乙基、-8-苯基或-8《61113;幾基；-SH;羧酸基或其烷基酯；磺酸基或其烷基酯；磷酸基或其烷基酯；氨基，例如伯、仲或叔氨基；氨磺?；?；酰胺基；硝基；腈基；鹵素，例如氯或溴；或上述基團中至少兩個的組合，包括這些基團中的至少一個被這些基團之一進一步取代。在一個優(yōu)選的實施方式中，苯并三峻、1,2，3-三喳、四唑或吲唑化合物包含選自以下的增溶基羧酸或其鹽、磺酸或其鹽、硫酸或其鹽、膦酸或其鹽、磷酸或其鹽以及芳香醇或其鹽。在另一個優(yōu)選的實施方式中，所述增溶基包含非離子親水基團，例如環(huán)氧乙烷或環(huán)氧丙烷基團，其任選地與至少一個以上定義的增溶基相組合。在一個更優(yōu)選的實施方式中，本發(fā)明的芳香雜環(huán)化合物為苯并咪唑。本發(fā)明的苯并三唑化合物的例子為苯并三峻(Benztria)-01:苯并三唑-02:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>苯并三唑-03:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>苯并三唑-04:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>苯并三唑-05:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>苯并三唑-06:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>本發(fā)明四喳化合物的例子為:四峻(Tetraz)-01:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>四哇-03:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>四峻-04:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>本發(fā)明1，2，3-三唑化合物的例子為:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>在本發(fā)明的抗淤渣劑中，可存在至少兩種所述芳香雜環(huán)化合物，其任選地通過連接基團連接在一起。連接基團可選自直鏈、支鏈或環(huán)狀的亞烷基，例如亞甲基、亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞環(huán)己基(cyclohexamethyene)或l-甲基-亞乙基；亞芳基，例如亞苯基、亞萘基或亞雜芳基；芳基亞烷基，例如千基；氧-亞烷基，例如曱醛(methyleneoxide)基、環(huán)氧乙烷基或環(huán)氧丙烷基；氧-亞芳基或氧-亞雜芳基，例如苯醚基(phenyleneoxide);-O-;-S-;-C(-O)-;-C(=S)-;-S02-;-S02-NRa-;-NRaRb-;-N=N-;或這些基團中兩種或更多種的組合，其中Ra和Rb獨立地為氫或任選取代的烷基、芳基、芳烷基或雜芳基。連接基團可以是兩價的，三價的或四價的，優(yōu)選兩價連接基團。在成像曝光的熱敏平版印版前體的顯影過程中，抗淤渣劑存在于含水堿性顯影液中。才艮據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選的實施方式，在顯影過程的開始時，抗淤渣劑存在于堿性顯影液中。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實施方式，在顯影過程中，將抗淤渣劑加入堿性顯影液中，優(yōu)選以溶液或分散體的形式加入。在一個更優(yōu)選的實施方式中，通過在顯影過禾呈中加入包含抗淤渣劑的補充液而將抗淤渣劑加入堿性顯影液中。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實施方式，在顯影過程中通過去除至少部分的包含抗淤渣劑的印版前體涂層而將抗淤渣劑加入堿性顯影液中。抗淤渣劑可存在于熱敏涂層中，其為印版的頂層和/或在印版背面的層。顯影液含水堿性顯影液(以下也稱作"顯影劑，，)可包含堿劑。所述含7jC堿性顯影液組合物可選自常規(guī)的堿性顯影劑。本發(fā)明的含水堿性顯影液的pH值優(yōu)選至少為10，更優(yōu)選至少為11.5，最優(yōu)選至少為12。對于pH值沒有具體的上限，但是其通常不高于14。堿劑包括無;W劑，例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、磷酸鈉(sodiumtertiaryphosphate),磷酸鉀、褲酸銨、碌酸氫二鈉(sodiumsecondaryphosphate)、磷酸氫二鉀、磷酸氫二銨、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銨、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、碳酸氫銨、硼酸鈉、硼酸鉀、硼酸銨、以及檸檬酸鉀、檸檬酸鈉等。堿劑還可包括有機堿劑，例如一甲胺、二甲胺、三曱胺、一乙胺、二乙胺、三乙胺、一異丙胺、二異丙胺、三異丙胺、正丁胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、單異丙醇胺、二異丙醇胺、乙二胺、吡啶等。堿性水溶液還可包括堿性硅酸鹽。堿性硅酸鹽可以是那些溶于水時呈堿性的硅酸鹽，其例子包括堿金屬硅酸鹽和堿金屬偏硅酸鹽、例如珪酸鈉、偏硅酸鈉、硅酸鉀和硅酸鋰、以及硅酸銨。所述堿性珪酸鹽可單獨或組合使用?？赏ㄟ^調(diào)節(jié)堿性硅酸鹽(用氧化硅(Si02)表示)和堿金屬氫氧化物(用堿金屬氧化物(alkalioxide)(M20，其中M代表堿金屬或銨基))的摩爾比來容易地調(diào)整堿性水溶液的顯影性能。堿性水溶液的Si02/M20摩爾比優(yōu)選為0.5~3.0，更優(yōu)選為1.0~2.0。當SKVM20摩爾比小于0.5時，則溶液的堿性會增強以致產(chǎn)生有害影響，例如對一般用作平版印板前體基材的鋁板產(chǎn)生腐蝕。當Si02/M20摩爾比大于3.0時，溶液的顯影性能會下降。顯影劑中堿性硅酸鹽的濃度一般為1~14重量％,優(yōu)選為3~14重量％,更優(yōu)選為.4~14重量％。當所述濃度小于1重量％時，顯影性能或處理能力會下降。當所述濃度大于14重量％時，容易產(chǎn)生沉淀物或結(jié)晶，并且在中和廢液的過程中容易產(chǎn)生凝膠化，給廢液的處置帶來障礙?；趬A性水溶液的顯影劑還可包含非還原糖。非還原糖指由于缺少游離的醛基或游離的酮基而不具有還原性的糖。所述的非還原糖分類為海藻糖型低聚糖，其中一個還原性基團和另一個還原性基團鍵合；糖苷，其中糖中的還原性基團與非糖化合物連接；以及通過氫化還原糖而制備的糖醇。所述的海藻糖型低聚糖包括蔗糖和海藻糖，所述的糖苷包括烷基糖苷、苯酚糖苷，芥子油糖苷等。所述的糖醇包括D，L-阿拉伯糖醇、核糖醇、木糖醇、D，L-山梨糖醇、D，L-甘露糖醇、D，L-艾杜糖醇、塔羅糖醇、半乳糖醇、異半乳糖醇(allodulcitol)等。此外，優(yōu)選使用由二糖氫化得到的甘露酵；由低聚糖(還原淀粉糖漿)氫化得到的還原物質(zhì)等。上述非還原糖中，優(yōu)選糖醇和^糖，特別優(yōu)選D-山梨糖醇、蔗糖和還原淀粉糖漿，因為它們在適當?shù)膒H值范圍內(nèi)具有緩沖作用。上述非還原糖可單獨使用或與其它成分聯(lián)合使用，其在顯影劑中的濃度范圍一般為0.1~30重量％，優(yōu)選為1~20重量％。在顯影劑中，堿劑可作為堿與以上提到的堿性硅酸鹽或非還原糖聯(lián)合使用，并直所述堿劑可選自氫氧化納和氫氧化鉀。此外，磷酸鈉、磷酸鉀、碳酸鈉和碳酸鉀也是優(yōu)選的，因為他們本身就具有緩沖作用。上述堿劑可以單獨使用或聯(lián)合使用。顯影劑可以任選地含有其它組分，例如緩沖物質(zhì)、配位劑、消泡劑、有機溶劑、腐蝕抑制劑、染料、表面活性劑和/或本領(lǐng)域已知的水溶助長劑。在含水堿性顯影液中，根據(jù)需要可能同時使用在20"C水中的溶解度不超過15重量。/。的有機溶劑。這樣的有機溶劑的例子有羧酸酯，如乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、乙酸千酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、乳酸丁酯和乙酰丙酸丁酯；酮，如乙基丁基酮、甲基異丁基酮和環(huán)己酮；醇，如乙二醇單丁基醚，乙二醇芐基醚、乙二醇單苯基醚、千醇、曱基苯基曱醇，正戊醇和甲基戊醇；烷基取代的芳烴，如二甲苯；以及卣代烴，如二氯甲烷和一氯代苯。這些有機溶劑可以單獨使用或聯(lián)合使用。本泉明中特別優(yōu)選的是千醇。這些有機溶劑在顯影劑或補充劑中的加入量一般不超過10重量％,優(yōu)選不超過5重量％。除了上述組分以外，本發(fā)明的顯影液包含非離子表面活性劑。此類非離子表面活性劑可用作防溶解劑，由此減少非曝光區(qū)的側(cè)壁腐蝕(undercutting),非離子表面活性劑的例子包括乙氧基化醇、聚乙二醇和多元醇。優(yōu)選乙氧基化醇，并且尤其更優(yōu)選親水-親油平衡(HLB)值高于5的乙氧基化醇。非離子表面活性劑的具體例子如下聚乙二醇、聚氧化亞乙基二醇、月桂醚、月桂醇聚乙二醇醚、乙氧基化油醇(oleyialcoholethoxylated)、乙氧基化羊毛脂醇、乙氧基化十二烷醇、乙氧基化十六/十八烷醇、乙氧基化四甲基癸二醇、聚氧乙烯壬基醚、聚氧乙烯十六烷基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯二十二烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物、聚氧乙烯聚氧丙烯十六烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯二十二烷基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚；聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯十八烷基胺、聚氧乙烯油胺、聚氧乙烯硬脂酰胺、舉氧乙烯油酰胺、聚氧乙烯蓖麻油、聚氧乙烯松香醚、聚氧乙烯羊毛脂醚、聚氧乙烯卑月桂酸酯、聚氧乙烯單硬脂酸酯、聚氧乙烯甘油單油酸酯、聚氧乙烯甘油單硬脂酸酯、聚氧乙烯丙二醇單硬脂酸酯、聚氧乙烯脫水山梨糖醇單月桂酸酯和脫水山梨糖醇單月桂酸酯。這些非離子表面活性劑的平均分子量優(yōu)選為500~10，000,優(yōu)選1000-5000、。它們可以包含單一化合物或為兩種或更多種化合物的混合物，以顯影液的總重量if,它們的含量為0.05~5%，優(yōu)選為0.1-1%。本發(fā)明所用的顯影劑可同時含有另一表面活性劑以改善其顯影性能。通過將表面活性劑加入顯影液中，顯影液的表面張力急劇降低，因此變得有效，即與不含表面活性劑的相同顯影液相比，可以在較低的pH值除去非圖像區(qū)域而不會產(chǎn)生污點/著色(stain/toning)。顯影劑可含有離子型表面活性劑，如陰離子表面活性劑或陽離子表面活性劑；非離子表面活性劑和/或兩性表面活性劑如LibratericAA30(LibraChemicalsLimited的商標)。這類表面活性劑的例子包括高級醇(C8C22)硫酸酯的鹽，例如月桂醇硫酸酯鈉鹽、辛醇硫酸酯鈉鹽、月桂醇硫酸酯銨鹽、TeepolB-81(商標，購自ShellChemicalsCo.,Ltd.)和硫酸烷基酯鈉；脂肪醇磷酸酯的鹽，如鯨蠟醇磷酸酯鈉鹽；烷基芳基磺酸鹽，如十二烷基^璜酸鈉鹽、異丙基萘磺酸鈉鹽、聯(lián)萘二磺酸鈉鹽和間硝基苯磺酸鈉鹽；烷基酰胺的磺酸鹽，如C17H33CON(CH3)CH2CH2S03Na和二元脂肪酸酯的磺酸鹽，如琥珀酸二辛酯磺酸鈉和琥珀酸二己酯磺酸鈉。這些表面活性劑可以單獨或聯(lián)合使用。特別優(yōu)選的是磺酸鹽。這些表面活性劑的用量通常不超過5重量。/。，優(yōu)選不超過3重量％。顯影劑中所用的陽離子表面活性劑可以包括胺鹽、季銨鹽、鱗鹽、锍鹽等。胺卑的例子為伯胺鹽、仲胺鹽、叔胺鹽和咪唑啉鹽。季銨鹽的例子包括四烷基季銨鹽、三烷基芐基季銨鹽、烷基吡啶総鹽、烷基全啉鎗鹽、咪唑啉鎗鹽和苯并咪唑啉総鹽。兩性表面活性劑的例子包括甜菜堿衍生物，如烷基酰胺丙基甜菜堿、烷基二甲奉甜菜堿、雙羥基乙基甜菜堿、烷基酰胺丙基甜菜堿、月桂基甜菜堿等；甘氨酸衍生物，如N-椰油酰胺基乙基-N-羥乙基-N-象曱基氨基乙酸鈉(cocoamphocarboxyglycinate)、N-月桂酰胺基乙基-N-羥乙基-N-羧甲基氨基乙酸鈉(lauroamphocarboxyglycinate)、N-辛酰胺基乙基畫N-羥乙基-N-羧甲基氨基乙酸鈉(caprylamphocaboxyglycinate)、畫N-油酰胺基-N-幾乙基-N-羧甲基氨基乙酸鈉(oleoamphopolycarboxyglycinate)、N-烷基甘氨酸鹽等；亞氨基衍生物、如椰油亞氨基二丙酸鹽、辛基亞氨基二丙酸鹽等；咪,啉衍生物，如椰油咪唑啉等；卵磷脂衍生物以及氨基羧酸。這些兩性表面活性劑的平均分子量優(yōu)選為500-10,000，優(yōu)選1000~5000。它們可以包含單一化合物或為兩種或更多種化合物的混合物。本發(fā)明顯影液中上述陰離子表面活性劑和兩性表面活性劑的總量占全部顯影液重量的0.5%~10%,優(yōu)選1%~6%，更優(yōu)選1%~3%。為了提高顯影劑的顯影穩(wěn)定性，可以同時使用以下化合物。此類化合物的例子為中性鹽，例如JN-A-58-75152中所公開的NaCl、KC1和KBr;螯合劑，例如JN-A-58-l卯952(U.S-A-4469776)中所公開的EDTA和NTA;配合物，例如JN-A-59-121336(US-A-4606995)中所公開的[Co(NH3)6lCl3;元素周期表第IIa、IIIa或IIIb族元素的可離子化化合物。例如JN-A-55-25100中所^^開的那些；陰離子或兩性表卑'活性劑，例如JN-A-50-51324中所公開的烷基萘磺酸鈉和N-四癸基-N，N-二羥乙基甜菜堿；US-A-4374920中所公開的四曱基癸炔二醇；JN-A-60213943中所公開的非離子表面活性劑；陽離子聚合物，例如JN-A-55-95946中所公開的對-二甲基嚴.,基甲基聚苯乙烯的甲基氯化物季產(chǎn)物(methylchloridequaternaryproducts);兩性聚電解質(zhì)，例如JN-A-56-142528中所公開的乙烯基千基三曱基氯化銨和丙烯酸鈉的共聚物；還原性無機鹽，例如JN-A-57-192952(US-A-4467027)中所公開的亞硫酸鈉，以及堿溶性的巰基化合物或硫醚化合物，如硫代水楊酸，半胱氨酸和巰基乙酸；無機鋰化合物，例如JN-A-58-59444中所公開的氯化鋰；有機鋰化合物，例如JN-A-5034442中所公開的苯甲酸鋰；JN-A-59-75255中所公開的含Si,Ti等的有機金奉表面活性劑；JN-A-59-84241(US-A-4500625)中所公開的有機硼化物；季銨鹽，例如EP-A-101010中所公開的四烷基銨氧化物；和殺菌劑，例如JN-A-63-226657中所公開的脫氫乙酸鈉。補充液在顯影過程中，用含水堿性顯影液(任選與機械摩擦相結(jié)合，如采用旋轉(zhuǎn)刷)除去涂層的非圖像區(qū)域。在顯影步驟中，優(yōu)選將存在的任何水溶性層也除去。優(yōu)選在本領(lǐng)域常規(guī)的自動處理單元中于2040"C下進行顯影。為了長時間穩(wěn)定地實施顯影處理，控制顯影劑中堿的強度以及珪酸鹽與其它成分的濃度尤為重要。因此，在顯影液中加入補充液(下文也稱補充劑)(通常以少量加入)，從而可長時間穩(wěn)定地實施顯影處理而不用更換顯影劑。因此，為了預(yù)防淤渣的形成，本發(fā)明抗淤渣劑以足夠高的的濃度水平存在于顯影液中也是重要的，這可通過添加含有本發(fā)明的抗淤渣劑的補充劑來實現(xiàn)。對于再生，補充液優(yōu)選包含顯影液的活性成分，例如堿劑。為了將顯影液中活性成分的濃度調(diào)節(jié)至足夠高或含量恒定，以使成像曝光前體的顯影保持在恒定的水平，在顯影過程中或之后在顯影液中連續(xù)或少量地加入補充液。再生物料的所需量必須符合所用的顯影設(shè)備、印版的日生產(chǎn)量、圖像區(qū)域等，每平方米印版前體的用量通常為1~150ml?？梢哉{(diào)節(jié)補充劑的加入量，例如如EP-A0，556，6卯中所述，通過測量顯影劑的電導(dǎo)率來調(diào)節(jié)。在顯影處理的方法中，也可以采用將補充劑添加到顯影劑中的任何已知方法。優(yōu)選使用的此類方法的例子為JN-A-55-115039(GB-A-2046931)中所公開的一種間歇或連續(xù)添加補充劑的方法，其中補充劑的添加量隨處理的印版數(shù)量和時間而變化；JN-A-58-95349(US-A-4537496)中所公開的一種方法，其包括配置傳感器用來檢測在顯影區(qū)中部中溶解掉的光敏層的程度，并按檢測到的溶解掉的光敏層的程度，成比例添加補充劑；GB-A-2208249中所公開的一種方法，其包括測定顯影劑的阻抗值，通過用計算機處理測定的阻抗值來實施補充劑的添加。在本發(fā)明一個優(yōu)選的實施方式中，補充液中抗淤渣劑的濃度至少為0.5g/l，優(yōu)選濃度范圍為1~50g/1,更優(yōu)選為2~30g/l，更優(yōu)選為5~20g/l，最優(yōu)選為5~15g/l。在另一個優(yōu)選的實施方式中，抗淤渣劑在補充液(至少含有0.5g/1的抗淤渣矛j)中的濃度與其在顯影液中的濃度之比優(yōu)選為0.5-100，更優(yōu)選為1.1~100，最優(yōu)選為2~50。補充液的pH值優(yōu)選至少為10，更優(yōu)選至少為11.5，最優(yōu)選至少為12。pH值通常沒有具體的上限值，但pH通常不高于14。在本發(fā)明的另一個實施方式中，在顯影處理過程中或之后，可以在顯影液中添加多于一種的補充液，并且這些補充劑可以包含不同種類和不同量的本發(fā)明抗淤渣劑，以及不同種類和不同量的用于改善顯影處理的其它化合物。在本發(fā)明的一個更優(yōu)選的實施方式中，在首次顯影處理的開始，新鮮的顯影液基本上不含有本發(fā)明的抗淤渣劑，在前體處理過程中或之后，將含有本發(fā)明抗淤渣劑的補充液加入到顯影液中，且/或使包含本發(fā)明抗淤渣劑的前體的層在顯影液中至少部分除去。本發(fā)明的熱敏平版印版前體包含具有親水表面或具備親水層的載體，以及在所述載體上的熱敏涂層。載體平版印版前體的栽體具有親水表面或具備親水層。該載體可以是片狀材料(例如板材)，或者它可以是圓筒形部件，例如可繞印刷機的印刷滾筒滑動的套筒。優(yōu)選的載體為金屬載體，如鋁或不銹鋼。也可將所述金屬層壓到塑料層，如聚酯膜上。特別優(yōu)選的平版印刷載體為電化學(xué)磨版(grained)并陽極氧化的鋁載體。鋁的磨版和陽極氧化處理在本領(lǐng)域是眾所周知的。可以對陽極氧化鋁栽體進行處理，以改善其表面的親水性質(zhì)。例如，可通過在高溫(如95X:)下用硅酸鈉溶液處理鋁栽體的表面而使其硅酸鹽化(silicated)?；蛘?，可采用磷酸鹽處理，其包括用可進一步含有無機氟化物的磷酸鹽溶液處理氧化鋁表面。此外，可用檸檬酸或檸檬酸鹽溶液沖洗氧化鋁表面。該處理可在室溫或稍高的溫度(約3050X:)下實施。進一步令人感興趣的處理包括用碳酸氫鹽溶液沖洗氧化鋁表面。更進一步地，可用以下物質(zhì)處理該氧化鋁表面聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚乙烯基磺酸、聚乙烯基M酸、聚乙烯醇的硫酸酯和與磺化的脂肪醛反應(yīng)形成的聚乙烯醇縮醛。很顯然，這些后處理中的一種或多種可以單獨進行或結(jié)合進行。有關(guān)這些處理的更詳細的描述在GB-A1084070、DE-A4423140、DE-A4417卯7、EP畫A659卯9、EP-A537633、DE-A4001466、EP-A292801、EP-A291760和US4，458,005中給出。涂層載體上提供的熱敏涂層可以是陽圖制版(positive-working)或陰圖制版的(negative-working)。優(yōu)逸陽圖制版的熱敏涂層。陽圖制版的熱敏涂層涂料在非曝光區(qū)不溶于堿性顯影液中，并在用于使印版顯影的時間內(nèi)在膝光區(qū)變得可溶。涂層優(yōu)選包含紅外吸收劑和堿溶性親油樹脂，在涂層中該樹脂在堿性顯影液中的溶解性降低，并且一經(jīng)加熱或紅外輻射其在堿性顯影液中的溶解性就會增加。涂層優(yōu)選進一步包含溶解抑制劑，由此降低其在堿性顯影液中的溶解速率。由于這種溶解性差異，曝光區(qū).的溶解速率充分高于非曝光區(qū)的溶解速率。在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方式中，熱敏涂層包含第一聚合物，其為酚醛樹脂，如線型酚醛樹脂、甲階酚醛樹脂或聚乙烯基酚醛樹脂；更優(yōu)選線型酚醛樹脂。這種聚合物典型的例子描述于DE-A-4007428、DE-A-4027301和DE-A-4445820中。其它優(yōu)選的聚合物為其中酚醛單體單元的苯基或幾基被有機取代基化學(xué)改性的酚醛樹脂，其描述于EP894622、EP901卯2、EP933682、WO99/63407、EP934822、EP1072432、US5,641,608、EP982123、WO99/01795、WO04/035310、WO04/035686、WO04/035645、WO04/035687或EP1506858?？梢酝ㄟ^在酸性催化劑存在下，使至少一種芳香烴與至少一種醛或酮縮聚來制備線型酚醛樹脂或曱階紛醛樹脂，所述芳香烴選自苯酚、鄰甲酚、對曱酚、間曱酚、2,5-二甲苯酚、3，5-二甲苯酚、間苯二酚、1，2，3-苯三酚、雙酚、雙酚A、三酚、鄰乙基苯酚、對乙基苯酚、丙基苯酚、正丁基苯酚、叔丁基苯酚、l-萘酚和2-萘酚，所述醛或酮選自諸如曱醛、乙二醛、乙醛、丙醛、苯曱醛和糠醛的醛和諸如丙酮、甲基乙基酮和曱基異丁基酮的酮。其中可以分別使用多聚甲醛和三聚乙醛來代替甲醛和乙醛。-.通過凝膠滲透色譜法，采用普適校正和聚苯乙烯標準品測量的線型酚醛樹脂的重均分子量優(yōu)選為500到150,000g/mo1,更優(yōu)選為1,500到50,000g/mo1。聚(乙烯基苯酚)樹脂還可以是一種或多種含有羥基-苯基的單體(例如羥基苯乙烯或(甲基)丙烯酸羥基-苯酯)的聚合物。此類羥基苯乙烯的例子為鄰羥基苯乙烯、間羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯、2-(鄰羥基苯基)丙烯、2-(間羥基苯基)丙烯和2-(對羥基苯基)丙烯。此類羥基苯乙烯在其芳環(huán)上可具有諸如氯、溴、碘、氟或Cw烷基等取代基。此類(甲基)丙烯酸羥基-苯酯的例子為甲基丙烯酸2-羥基-苯酯。通?？赏ㄟ^在自由基引發(fā)劑或陽離子聚合引發(fā)劑的存在下，使一種或多種含有^基-苯基的單體聚合來制備聚(乙烯基苯酚)樹脂。也可以通過將這些含有羥基-苯i的單體中的一種或多種與其它單體化合物共聚來制備聚(乙烯基苯酚)樹脂，所述其它單體化合物例如為丙烯酸酯單體、曱基丙烯酸酯單體、丙烯酰胺單體、甲基丙烯酰胺單體、乙烯基單體、芳族乙烯基單體或二烯單體進行。通過凝膠滲透色i普法，采用普適校正和聚苯乙烯標準品測量的聚(乙烯基苯酚)樹脂的重均分子量優(yōu)選為l，000~200，000g/mol,更優(yōu)選為1，50050，000g/mol。酚醛樹脂的例子為POL-01:ALNOVOLTMSPN452為40重量％的線型酚醛樹脂在DowanolPM中的溶液，得自CLARIANTGmbH。DowanolPM由1-甲氧基-2-丙醇(>99.5%)和2-曱氧基-1-丙醇(<0.5%)組成。POL-02:ALNOVOLSPN400為44重量％的線型酚醛樹脂，在DowanolPMA中的溶液，得自CLARIANTGmbH。DowanolPMA由乙酸2-曱氧基-l-曱基-乙酯構(gòu)成。POL-03:ALNOVOLHPN100為得自CLARIANTGmbH的線型酚醛樹脂。POL-04:DURITETMPD443為得自BORDENCHEM.INC.的線型酚醛樹脂。POL-05:DURITE1^SD423A為得自BORDENCHEM.INC.的線型酚醛樹脂。POL-06:DURITETMSD126A為得自BORDENCHEM.INC.的線型酚醛樹脂。POL-07:BAKELITE6866LB02為得自BAKELITEAG的線型酚醛樹脂。POL-08:BAKELITE6866LB03為得自BAKELITEAG的線型酚醛樹脂。POL-09:KR400/8為得自KOYOCHEMICALSINC.的線型酚醛樹脂。POL-10:HRJ1085為得自SCHNECTADYINTERNATIONALINC.的線型酚醛樹脂。POL-11:HRJ2606為得自SCHNECTADYINTERNATIONALINC.的線型酚醛樹脂。POL-12:LYNCURCMM為得自SIBERHEGNER的4-羥基-苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯的共聚物。在本發(fā)明另一個優(yōu)選的實施方式中，熱敏涂層進一步包含不溶于水而溶于堿性溶液的第二聚合物。根據(jù)本發(fā)明的一個更優(yōu)選的實施方式，熱敏涂層包含熱敏層和中間層。中間層存在于熱敏層和栽體的親水表面之間。在一個更優(yōu)選的實施方式中，熱敏層包含第一聚合物和任選的抑制劑，中間層包含第二聚合物。第二聚合物優(yōu)選為具有酸性基團的有機聚合物，其pKa低于13以確保該層在含水堿性顯影劑中可溶或至少可溶脹。有益地，粘合劑為聚合物或縮聚物，例如聚酯、聚酰胺樹脂、環(huán)氧樹脂、縮醛樹脂、丙烯酸類樹脂、曱基丙烯酸類樹脂、苯乙烯基樹脂、聚氨酯樹脂或聚脲。更優(yōu)選第二聚合物具有選自下列的一個或多個官能團(i)磺酰胺基，例如-SO;rNH-Rg，其中Rg代表氫或任選取代的烴基，如任選取代的烷基、芳基或雜芳基；(ii)活性酰亞胺基，例如-SOrNH-CO-R11、-S02-NH-S02-Rh或-CO-NH-S02-R11,其中Rh代表氫或任選取代的烴基，如任選取代的烷基、芳基或雜芳基；(iii)羧基；(iv)碌基；和(v)磷酸基；更優(yōu)選磺酰胺基或活性酰亞胺基；最優(yōu)選為聚合物，其選自包含N-千基-馬來酰亞胺單體單元或包含磺酰胺基的單體單元的共聚物，如EP-A933682、EP0894622(第3頁第16行至第6頁第30行)、EP-A0982123(第3頁第56行至第51頁第5行)、EP-A1072432(第4頁第21行至第10頁第29行)和WO99/6340(第4頁第13行至第9頁第37行)中所描述。具有酸性基團的其它聚合物為含有游離酚羥基的縮聚物和聚合物，它們可以通過例如使苯酚、間苯二酚、曱酚、二曱苯酚或三甲基苯酚與醛(特別是甲醛)或酮反應(yīng)來制得。氨磺?；虬被柞；〈姆甲寤衔锱c醛或酮的縮合物也是合適的。二羥曱基取代的脲、乙烯基醚、乙烯醇、乙烯基縮醛或乙烯基酰胺的聚合物，和苯基丙烯酸酯的聚合物，以及羥基-苯基馬來酰亞胺的共聚物同樣也是合適的。此外，可提及具有乙烯基芳族化合物、N-芳基(甲基)丙烯酰胺或(甲基)丙烯酸芳基酯單元的聚合物，這些單元中的每一個也可能含有一個或多個羧基、酚羥基、氨磺酰基或氣基曱?；?。具體的例子包括具有(甲基)丙烯酸2-羥基苯酯單元、N-(4-羥基苯基)(甲基)丙烯酰胺單元、N-(4-氨磺酰苯基)-(甲基)丙烯酰胺單元、N-(4-羥基-3，5-二甲基千基)-(曱基)丙烯酰胺單元、或4-羥基苯乙烯或羥基苯基馬來酰亞胺單元的聚合物。這些聚合物中可另外包含其它不具有酸性單元的單體的單元。這樣的單元包括乙烯基芳族化合物、(曱基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(曱基)丙烯酸千酯、甲基丙烯酰胺或丙烯腈。溶解抑制劑在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方式中，熱敏涂層或熱敏層還包含一種或多種溶解抑制劑。溶解抑制劑為這樣的化合物，其降低涂層非爆光區(qū)的疏水性聚合物在含水堿性顯影劑中的溶解速率，并且這種溶解速率的降低被曝光過程中產(chǎn)生的熱量所破壞，從而涂層在曝光區(qū)易溶于顯影劑中。溶解抑制劑在曝光和非啄光區(qū)的溶解速率之間表現(xiàn)出相當大的的寬容度(latitude).優(yōu)選地，如果在非曝光區(qū)受到顯影劑的腐蝕程度達到涂層的油墨接受能力受到影響之前，曝光的涂層區(qū)域就已經(jīng)完全溶于顯影劑，則溶解抑制劑就有好的溶解速率寬容度。溶解抑制劑可以被加入包含上述討論的疏水性聚合物的層中。優(yōu)選通過疏水聚合物與抑制劑之間的相互作用(例如，由于這些化合物間的氫鍵作用)降低非曝光涂層在顯影劑中的溶解速率。合適的溶解抑制劑優(yōu)選為包含至少一個芳族基團和一個氬鍵鍵合位點，例如羰基、磺酰基或氮原子，氮原子可被季銨化并可以是雜環(huán)的一部分或為所述有機化合物的氨基取代基的一部分。合適的此類溶解抑制劑公開于如EP-A825927和823327中。抗水聚合物代表另一類合適的溶解抑制劑。這類聚合物似乎可以通過從涂層排斥水性顯影劑而增加涂層對顯影劑的抵抗性?？蓪⒃摽顾酆衔锛尤氚谝痪酆衔锏膶又幸约?或可使該抗水聚合物存在于位于含有第一聚合物的層之上的單獨層中。在后一種實施方式中，如P-A864420、EP-A950517和W099/21725中所迷，抗水聚合物形成可以保護涂層不受顯影劑影響的阻擋層，并且該阻擋層在顯影劑中的溶解性或顯影劑對該阻擋層的滲透性可通過接觸熱或紅外光來提高。優(yōu)選的抗水聚合物的實例為包含硅氧烷和/或全氟烴基單元的聚合物。在一個實施方式中，涂層中這種抗水聚合物的含量為0,5~25mg/m2，優(yōu)選0.5~15mg/m2，最優(yōu)選0.5~10mg/m2。當抗水聚合物也排斥油墨時，例如其為聚硅氧烷的情況，高于25mg/n^的量會導(dǎo)致非膝光區(qū)的低油墨接受性。另一方面，低于0.5mg/mZ的量會導(dǎo)致令人不滿意的顯影抵抗性。聚硅氧烷可以是線型的、環(huán)狀的或復(fù)合(complex)交聯(lián)聚合物或共聚物，術(shù)語聚碌氧烷化合物應(yīng)包括包含多于一個硅氧烷基-Si(R，R，)-O-的任何化合物，其中R和R，為任選取代的烷基或芳基。優(yōu)逸的硅氧烷為苯基烷基硅氧烷和二烷基硅氧烷。(共)聚合物中硅氧烷基的數(shù)量至少為2，優(yōu)選至少為10,更優(yōu)選至少為20。其可以小于100，優(yōu)選小于60。在另一個實施方式中，抗水聚合物為聚(環(huán)氧烷)嵌段與含有硅氧烷和/或全氟烴基單元的聚合物嵌段的嵌段共聚物或接枝共聚物。合適的共聚物包含約15~25個硅氧烷單元和50~70個環(huán)氧烷基團。優(yōu)選的實例包括含有既苯基曱基硅氧烷和/或二甲基硅氧烷又含有環(huán)氧乙烷和/或環(huán)氧丙烷的共聚物，例如TegoGlide410、，TegoWet265、TegoProtect5001或SilikophenP50/X，它們均可商購自TegoChmie,Essen，Germany,此類共聚物起著表面活性劑的作用，其一經(jīng)涂布，由于它的雙官能結(jié)構(gòu)，其自動將自身定位于涂層和空氣之間的界面并因此形成獨立的頂層，即使當用單一的涂布溶液涂覆整個涂層時也如此。同時，這樣的表面活性劑還起改善涂層質(zhì)量的涂鋪劑的作用?；蛘?，可將抗水聚合物應(yīng)用于第二溶液中，該第二溶液涂布于包含疏水聚合物的層上面。在該實施方式中，在第二涂布溶液使用溶劑是有利的，第二涂布溶液不能溶解存在于第一層中的成分，因此在涂層的上部得到高濃度的防水相。顯影促進劑優(yōu)選地，熱敏涂層或熱敏層中還包含一種或多種顯影促進劑，即，因其能夠增加非啄光涂層在顯影劑中的溶解速率而起溶解促進劑作用的化合物。溶解抑制劑和溶解促進劑的同時使用能對涂層的溶解行為進行精確的微調(diào)。合適的溶解加促進為環(huán)狀酸酐、酚類或有機酸。環(huán)狀酸酐的實例包括鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸肝、四氯鄰苯二曱酸酐、馬來酸酑、氯代馬來酸肝、a-苯基馬來酸酐、琥珀酸酐和均苯四酸酐，這些描述于美國專利No.4,115,128中。酚類的實例包括雙酚A、對硝基苯酚、對乙氧基苯酚、2，4，4，-三羥基二苯甲酮、2，3，4-三羥基二苯甲酮、4-羥基二苯曱酮、4，4，，4，，-三羥基三苯基曱烷和4，4，，3"，4，，-四羥基-3,5，3，，5，-四曱基三苯基-曱烷等。有機酸的實例包括磺酸、亞磺酸、烷基硫酸、膦酸、磷酸鹽和羧酸，這些描述于，例如，JP-ANos.60-88,942和2-96，755中。這些有機酸的具體實例包括對甲，酸、十二烷基苯磺酸、對曱苯亞磺酸、乙基疏酸、苯基膦酸、苯基次磷酸、苯基磷酸鹽、二苯基磷酸鹽、苯曱酸、間苯二甲酸、己二酸、對-甲苯曱酸、3，4-二甲氧基苯甲酸、鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、4-環(huán)己烯-l,2-二羧酸、芥酸、月桂酸、正十一烷酸和抗壞血酸。相對于整個涂層，環(huán)狀酸酐、酚或有機酸在涂層中的含量優(yōu)選為0.05-20重量％?？轨斗▌┌凑毡景l(fā)明的一個優(yōu)選實施方式，通過除去至少一部分的存在有本發(fā)明所述抗淤渣劑的前體而將抗淤渣劑添加到顯影液中。在該實施方式中，在顯影過程中至少部分除去包含抗淤渣劑的層，優(yōu)選地，抗淤渣劑存在于以下層中熱敏涂層或熱敏層和/或中間層和/或頂層和/或載體背面的任選其它層。根據(jù)一個更優(yōu)選的實施方式，抗淤渣劑存在于熱敏涂層中或熱敏層中和/或中間層中，由此在顯影液中，包含抗淤渣劑的層在曝光區(qū)被除去。這樣，非常有利的是，加入顯影液中的抗淤渣劑的量與造成或引起淤渣形成的各溶解成分的量相一致。當前體具有僅在曝光區(qū)被除去的頂層時，抗淤渣劑也可以存在于該頂層中，并且抗淤渣劑的添加量也與曝光面積相一致。這樣，抗淤渣劑按啄光區(qū)面積的比例;故釋放，并且這樣的成像溶解涂層中抗淤渣劑的含量優(yōu)選為0.01g/m2~2.5g/m2，更優(yōu)選為0.05g/m2~1.5g/m2，最優(yōu)選為0.07g/m2~1.0g/m2。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實施方式，抗淤渣劑存在于載體背面的層中，并且該層在顯影液中至少被部分除去。這樣，抗淤渣劑的加入量與顯影的前體表面積成比例，類似地，在于非膝光區(qū)中也被除去的頂層中也可以存抗淤渣劑。這樣，抗淤渣劑按前體的表面積的比例^皮釋放，并且這樣的層中抗淤渣劑的含量優(yōu)選為0.01g/m2~2.0g/m2，更優(yōu)選為0.05g/m2~1.5g/m2，最優(yōu)選為0.07g/m2~1.0g/m2。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實施方式，存在于熱敏涂層或熱敏層中的抗淤渣劑可具有改善前體成像曝光感光度的額外益處。用于獲得改善的感光度的抗淤渣劑濃度可與用于獲得最佳抗淤渣活性的抗淤渣劑濃度不同，通常，在較低的抗淤渣劑濃度下可獲得改善的感光度，該濃度優(yōu)選為在0.01g/m2~.20g/m2。為了獲得最佳的抗抗淤渣活性，將含有該較低濃度的抗淤渣劑的前體，與含有抗淤渣劑的顯影液(或補充液)結(jié)合是有利的。曝光可直接利用熱量(例如借助熱頭(thermalhead))使該材料成像曝光，或者間接通過紅外光，優(yōu)選通過紅外光吸收化合物將其轉(zhuǎn)化為熱量而使該材料成像曝光，所述紅外光吸收化合物可以是在紅外波長范圍內(nèi)具有最大吸收的染料或顏料。所述紅外光吸收染料或顏料優(yōu)選存在于熱敏涂層或熱敏層中，且相對于整個涂層，其濃度一般為0.25~10.0重量％，更優(yōu)選為0.5~7.5重量％。優(yōu)選的紅外吸收化合物為諸如花青或部花青染料之類的染料，或諸如炭黑之類的顏料。一種合適的化合物為以下的紅外染料IR-1:(IR-1)其中，X—為合適的抗衡離子，如甲M酸根。熱敏涂層，或熱敏層和/或中間層可進一步包含吸收可見光的有機染料，以便一經(jīng)成像膝光和隨后的顯影就能得到看得到的圖像。這樣的染料常稱作對比染料或指示染料。優(yōu)選地，該染料為藍色，且在600nm750nm的波長范圍內(nèi)具有最大吸收。雖然該染料吸收可見光，但其優(yōu)選不使印版前體敏化，即涂層在暴光于可見光時其在顯影劑中的溶解性不會變得更大。這種對比染料的合適實例為季銨化三芳基曱烷染料。根據(jù)一個優(yōu)選的實施方式，對比染料存在于熱敏涂層，或熱敏層和/或中間層中。'根據(jù)一個更優(yōu)選的實施方式，紅外光吸收化合物集中在熱敏涂層或熱敏層中?？刹捎冒l(fā)光二極管或激光器使本發(fā)明的印版前體膝光于紅外光。優(yōu)選地，使用發(fā)射波長范圍為約750~約1500nm的近紅外光的激光器，例如半導(dǎo)體激光二極管、Nd:YAG或Nd:YLF激光器。所需的激光器功率取決于圖像記錄層的感光度、由光斑直徑(現(xiàn)代印版記錄機(plate-setter)在最大強度的1/62下的典型值10-25nm)決定的激光束的像素停留時間、曝光設(shè)備的掃描速度和分辨率(即每直線距離單位的可尋址像素的數(shù)目，常用點/英寸或dpi來表示；典型值為10004000dpi，相當于約39.4~157.5點/m)。通常使用兩種激光啄光設(shè)備內(nèi)滾筒式(ITD)和外滾筒式(XTD)印版記錄機。用于熱印版的ITD印版記錄機一般表征為掃描速度非常高(高達500m/sec),需要數(shù)瓦的激光功率。用于熱印版的XTD印版記錄機的典型激光功率為約200mW~約1W,并在較低的掃描速度(例如0.110m/sec)下運行。已知的印版記錄機可用作脫機(off-press)曝光設(shè)備，其好處在于減少印刷機的停機時間。XTD印版記錄機的構(gòu)造也可用于機上啄光，其好處在于在多顏色印刷機中直接定位。機上曝光設(shè)備的更多技術(shù)細節(jié)描述于諸如US5,174,205和US5,163,368中。在顯影步驟中，涂層的無圖像區(qū)域通過浸在含水堿性顯影劑中而被除去，也可結(jié)合機械摩擦，如用旋轉(zhuǎn)刷去除涂層的無圖像區(qū)域。顯影劑的pH值優(yōu)選高于10，更優(yōu)選高于12。顯影劑可進一步包含多羥基化合物，如山梨糖醇，其濃度優(yōu)選為至少40g/l;.以及包含聚環(huán)氧乙烷的化合物，如SupronicB25，其可商購自RODIA，并且其濃度優(yōu)選為最多0.15g/l。顯影步驟之后可以接有沖洗步驟和/或涂膠步驟。涂膠步驟包括用樹膠溶液對平版印版進行后處理。樹膠溶液一般為水性液體，其包含一種或多種能夠保護印版的平版圖像免受污染或損壞的表面保護性化合物。這種化合物的合適實例為成膜親水聚合物或表面活性劑。如果需要，可以用本領(lǐng)域已知的合適校正劑或防腐劑對印版前體進行后處理。為了增加完成的印版的耐受性并由此延長其運行時間，可將該層短暫地加熱至高溫("烘烤")。印版可在烘烤之前干燥或在烘烤過程中自行干燥。在烘烤步驟中，可在高于熱敏涂層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(例如在100-230X:)下加熱印版40秒~5分鐘。烘烤可在常規(guī)的熱空氣爐中完成，或在發(fā)射紅外或紫外光語的燈的輻照下完成。通過該烘烤步驟，印版對印版清潔劑、校正劑和可紫外光固化印刷油墨的耐受性得以提高。此類熱后處理特別描述于DE1,447,963和GB1,154,749中。這樣得到的印版可用于傳統(tǒng)的，所謂的濕膠版印刷(wetoffsetprinting),其中將油墨和水性潤濕液供給印版。另一種合適的印刷方法使用所謂的單流體油墨而不用潤濕液。合適的單流體油墨描述于US4,045,232;US4,981,517和US6,140,392中在一個最優(yōu)選的實施方式中，如WO00/32705中所述，單流體油墨包含油墨相，也稱作疏水或親油相，和多元醇相。實施例粘合劑-01的制備在250ml的反應(yīng)器中加入162mmol單體-Ol、21.3g(132mmol)千基丙烯酰胺、0.43g(6mmol)丙烯酸和103gy-丁內(nèi)酯，將混合物加熱至140匸，同時以200rpm的速度攪拌。將恒定的氮氣流置于反應(yīng)器之上。所有組分都溶解之后，將反應(yīng)器冷卻至100"C。在3.43ml丁內(nèi)酯中加入0.35mlTrigonoxDC50(商購自AKZONOBEL)，隨后加入1.39mlTrigonox141(商購自AKZONOBEL)。聚合反應(yīng)開始，經(jīng)2小時將反應(yīng)器加熱至140"C，并同時定量加入1.75mlTrigonoxTMDC50。以400rpm的速度攪拌混合物，并使聚合反應(yīng)在14or下繼續(xù)2小時。將反應(yīng)混合物冷卻至uox:，攪拌器的速度升至500rpm。加入85.7mll-甲氧基-2-丙醇，將反應(yīng)混合物冷卻至室溫。采用^-NMR波譜法和尺寸排阻色譜法(在3x混合-B柱上使用二甲基乙酰胺/0.21。/。LiCl作為洗脫液，相對于苯乙烯標準品)對粘合劑-01進行分析。<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>將反應(yīng)混合物冷卻至40X:，將所得的25重量％聚合物溶液收集于桶中。單體-01:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>平版印刷栽體的制備通過以下方法使0.30mm厚的鋁箔脫脂于70"C下將該鋁箔在含有34g/l氳氧化鈉的水溶液中浸6秒鐘，并用軟化水沖洗3.6秒。然后在含有15g/lHC1、15g/lS042-離子和5g/lA產(chǎn)的水溶液中，于37X:和電流密度為100A/dm2的條件下，在8秒期間用交流電對該鋁箔進行電化學(xué)磨版。之后通過用含有145g/l石危酸的水溶液于80匸對該鋁箔腐蝕5秒來對其進行除污，并用軟化水沖洗4秒。隨后在57"和電流密度為25A/dm2的條件下，含有145g/1硫酸的水溶液中，經(jīng)10秒對該鋁箔進行P曰極氧化，然后用軟化水清洗7秒，用含有2.2g/1聚乙烯基膦酸的溶液在70X:對其后處理4秒，用軟化水沖洗3.5秒并于120X:干燥7秒。這樣得到的載體表征為0.35-0.40pm的表面粗糙度Ra(用干涉儀NT1100測量)和3.0g/m2的陽極重量。印版前體PPP-01的制備通過首先將表1中限定的第一涂層施涂于上述平版載體上而制得PPP-01。以20Hm的濕涂層厚度施涂該涂層，之后在135"C干燥。干涂層的總重量為0.75g/m2。表l:第一涂層溶液的組成<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>(1)DowanolTMPM為l-甲氧基畫2-丙醇，商購自DOWCHEMICALCompany.(2)THF為四氫呋喃。(3)粘合劑-01，其制備見上述。(4)結(jié)晶紫，商購自CIBA-GEIGY。(5)TegoglideTM410為聚硅氧烷和聚(環(huán)氧烷)的共聚物，商購自TEGOCHEMIESERVICEGmbH。以25pm的濕涂層厚度，將表2中限定的第二涂層涂布于第一涂層上，于135X:干燥。干涂層重量為0.67g/m2。表2:<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>(1)參見表l。(2)AlnovolSPN452為40.5重量°/。的線型酚醛樹脂在DowanolPM中的溶液，商購自CLARIANT。(3)TMCA為3,4，5-三曱氧基肉桂酸。(4)S0094為紅外吸收花青染料，商購自FEWCHEMICALS;S0094的化學(xué)結(jié)構(gòu)與IR-1相同。(5)參見表l。(6)FLUORADFC4432為1重量％的含氟共聚物在DowanolPM中的溶液，商購自3M。(7)參見表l。印版前體PPP-01的成^f象和處理用CreoTrendsetter3244(印版記錄機，加拿大伯納比的Creo的商標)使總面積為1000cm2的多個印版前體PPP-01曝光，在150rpm和能200mJ/cm2的能量密度下操作。曝光后，將印版切割成24個4.5cmx9.5cm的條，通過以下方法陸續(xù)對所有這些條進行處理在25r的溫度下，將條浸入20ml顯影劑(如表4和5及表6和7所限定)中，并將吸附于每個條上的所得溶液擠掉。對這些條處理之后，余留有15ml顯影液，該顯影液在25"C保存4天。用HeraeusLabofuge400以3500rpm對該溶液進行離心，在130X:蒸發(fā)殘留物4小時，重量法測定淤渣的量。表4:顯影液DEV-01DEV-09的組成<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>表5所定義)如表5所定義(1)偏硅酸鈉為五水合偏硅酸鈉，商購自SILMACONV(2)CrafolAP261為烷基醚鈉鹽，商購自COGNIS(3)Surfynol104H為表面活性劑，商購自KEYSER&MACKAY(4)SynperonicT304為聚環(huán)氧乙烷(=PEO)和聚環(huán)氧丙烷(=PPO)以EDA/PEO/PPO為1/15/14的比例連接在乙二胺(HEDA)上的嵌段共聚物，其平均分子量為1600，商購自UNIQEMA。表5總結(jié)了DEV-01~DEV-09以及DEV-對照-01的每一種顯影液的淤渣量。表5:淤渣評價結(jié)果<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>表5的結(jié)果表明，與不包含抗淤淦劑的比較例l相比，包含不同濃度的本發(fā)明抗淤渣劑(ASC類型)的本發(fā)明實施例1~9減少了淤渣的形成。表6:顯影液DEV-10-DEV-20的組成<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>(1)到(4)參見表4(5)苯曱酸鈉為苯甲酸的鈉鹽。表7總結(jié)了DEV-10~DEV-20以及DEV-對照-02的每一種顯影液的淤渣量。表7:淤渣評價結(jié)果<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>表7的結(jié)果表明，與不含有抗淤渣劑的比較例2相比，包含不同濃度的本發(fā)明抗淤渣劑(苯并三唑類型的ASC)的本發(fā)明實施例1(K20，減少了淤渣的形成。印版前體PPP-02和PPP-03的制備通過首先將表8中限定的第一涂層施涂于上述平版栽體上而制得PPP-02和PPP-03。以20pm的濕涂層厚度施所述該涂層，之后在135X:干燥。PPP-02和PPP-03的干涂層的總重量分別為0.67g/m2和0.97g/m2。表8:第一涂層溶液的組成<table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>(1)到(4)參見前面各表。以25pm的濕涂層厚度，將表9中限定的第二涂層涂布于第一涂層上，于135X:干燥。PPP-02和PPP-03的干涂層重量分別為0.75g/m2和0.85g/m2。表9:第二涂層溶液的組成<table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>U)至(7)參見前面各表。印版前體PPP-02和PPP-03的成^f象與處理用CreoTrendsetterTH318(印版記錄機，加拿大伯納比的Creo的商標)使印版前體PPP-02和PPP-03曝光，在不同的能量密度下進行操作。曝光后，通過將印版浸在顯影劑DEV-對照-03(如表10所定義)中，于25"C對這些印版處理30秒。正確曝光(下文也稱作RE)定義為當采用lxl和8x8的擋板(checkerboard)使前體膝光時，與印版上50%網(wǎng)點覆蓋率最佳匹配的能量密度。通過用GretagMacbethD19C光密度計(商購自Gretag-MacBethAG)測量光密度來測定網(wǎng)點覆蓋率。表10:DEV-對照-03顯影液的組成<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>表11的結(jié)果表明，與其中不含化合物苯并三唑-01的比較例3相比，在前體的涂層中包含化合物苯并三唑-01的本發(fā)明實施例21顯示出改善的感光度。權(quán)利要求1.制作平版印版的方法，其包括如下步驟(1)提供熱敏平版印版前體，其在載體上包含熱敏涂層，所述載體具有親水表面或具備親水層，(2)用紅外輻射或熱量使所述前體成像曝光，和(3)用堿性顯影液使所述成像曝光的前體顯影，其特征在于，在所述前體或所述顯影液中，或者在所述前體連同所述顯影液中存在抗淤渣劑，其中所述抗淤渣劑是包含-NH-基團的5-元芳香雜環(huán)化合物，該-NH-基團中的所述H在所述堿性顯影液中能被去質(zhì)子化，所述芳香雜環(huán)化合物選自任選取代的苯并三唑，1，2，3-三唑，四唑或吲唑化合物。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中前體進一步包含所述抗淤渣劑，并且在所述顯影步驟中將至少部分所述抗淤渣劑從所述前體去除。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在顯影步驟之中或之后，在所述顯影液中加入包含所述抗淤渣劑的補充液。4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中所述苯并三唑，1，2，3-三唑，四唑或吲唑化合物包含選自以下的增溶基羧酸或其鹽、磺酸或其鹽、硫酸或其鹽、膦酸或其鹽、磷酸或其鹽以及芳香醇或其鹽。5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中所述抗淤渣劑為任選取代的苯并三唑。6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中所述抗淤渣劑為苯并三唑。7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中包含所述抗淤渣劑的所述堿性顯影液進一步包含硅酸鹽或偏硅酸鹽。8.含水堿性顯影液或補充液，其包含堿劑和抗淤渣劑，所述抗淤渣劑為包含-NH-基團的5-元芳香雜環(huán)化合物，該-NH-基團中的所述H在所迷堿性顯影液中能被去質(zhì)子化，所述芳香雜環(huán)化合物選自任選取代的苯并三唑，1，2，3-三唑，四唑或吲唑化合物。9.熱敏平版印版前體，其在具有親水表面或具備親水層的栽體上包含含有抗淤渣劑的熱敏涂層，所述抗淤渣劑為包含-NH-基團的5-元芳香雜環(huán)化合物，該-NH-基團中的所述H在所述堿性顯影液中能被去質(zhì)子化，所述芳香雜環(huán)化合物選自任選取代的苯并三唑，1，2，3-三峻，四唑或吲唑化合物。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的熱敏平版印版前體，其中所述抗淤渣劑為苯并三唑。全文摘要公開了制作平版印版的方法，其包括如下步驟(1)提供熱敏平版印版前體，其包含在載體上的熱敏涂層，所述載體具有親水表面或具備親水層，(2)用紅外輻射或熱量使所述前體成像曝光，以及(3)用堿性顯影液使所述成像曝光的前體顯影，在所述前體或所述顯影液中，或者在所述前體連同所述顯影液中含有抗淤渣劑，其中所述抗淤渣劑是包含-NH-基團的5-元芳香雜環(huán)化合物，該-NH-基團中的所述H在所述堿性顯影液中能被去質(zhì)子化，所述芳香雜環(huán)化合物選自任選取代的苯并三唑，1，2，3-三唑，四唑或吲唑化合物。根據(jù)上述方法，抑制或減少了淤渣的形成。文檔編號B41C1/10GK101389476SQ200780006645公開日2009年3月18日申請日期2007年2月21日優(yōu)先權(quán)日2006年2月28日發(fā)明者F·范加弗,J·洛庫菲爾,M·倫斯,M·范達姆,S·林吉爾申請人:愛克發(fā)印藝公司