專利名稱：具有自潔凈和低輻射功能的鍍膜玻璃及其制備方法
技術領域：
本發(fā)明具體涉及一種在玻璃基板上一面或雙面鍍制二氧化鈦自潔凈膜、然后在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍制低輻射膜或反射紅外線膜，使玻璃的兩表面分別具有自潔凈和低輻射或反射紅外線雙功能鍍膜玻璃，屬于鍍膜玻璃制造的技術領域。

背景技術：
透過普通玻璃的太陽光除可見光外，還有紅外線。紅外線攜帶熱量，會使建筑物內(nèi)部升溫。因此，紅外線的透過率應該根據(jù)不同地區(qū)和不同氣候條件進行調(diào)控。在夏熱冬暖地區(qū)，太陽輻射是導致室內(nèi)炎熱的最主要原因。因此，遮蔽進入室內(nèi)的太陽輻射是減少空調(diào)能源消耗的最有效途徑。在寒冷及嚴寒地區(qū)，主要是要減少冬天制熱的能耗。太陽輻射主要是在2μm以下，而室內(nèi)50℃以下的熱輻射主要在3μm以上。因此在寒冷及嚴寒地區(qū)則要求玻璃能盡量透過太陽輻射，同時能將室內(nèi)的熱輻射反射回室內(nèi)；在夏熱冬冷地區(qū)則有必要調(diào)節(jié)玻璃的紅外反射的其始波長，使它能在夏天阻止太陽輻射進入室內(nèi)，而在冬天能盡量透過太陽輻射。在玻璃上鍍制低輻射膜或反射紅外線膜的目的就是要達到減少冬季制熱或夏季制冷的能耗。
大氣或室內(nèi)空氣的有機污染物會黏附在玻璃表面，造成玻璃需要經(jīng)常清洗，并且清洗高層建筑的費用很高，清洗劑還會污染地面。二氧化鈦是目前最穩(wěn)定的光催化劑，它可以降解黏附在玻璃上的有機污染物和與它接觸的有機污染氣體，達到清晰玻璃和清新空氣的目的。
目前，在玻璃單面上制備單一自潔功能的鍍膜玻璃的主要專利有 1)二氧化鈦光催化空氣凈化薄膜及其制備方法，申請?zhí)?1134335.4； 2)二氧化鈦光催化劑構(gòu)件及其制造方法，申請?zhí)?5191471.5； 3)制備高活性二氧化鈦薄膜自潔凈玻璃材料的方法，ZL01128305.X； 4)提高二氧化鈦薄膜自潔凈玻璃光催化活性的方法，ZL01128306.8 5)溶膠鍍膜一步熱處理法制備二氧化鈦薄膜鋼化自潔凈玻璃，ZL200510018520.6 在玻璃單面上制備低輻射膜或反射紅外線的鍍膜玻璃的專利有很多，例如隔熱、除霜鍍膜玻璃的制備方法，申請?zhí)?8100128.9等。
在玻璃單面上制備與本申請專利相關的雙功能膜的專利有 1)截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃及其制備方法，ZL200410061018.9 2)氮化鈦基低輻射/自潔凈復合功能型鍍膜玻璃，ZL200410012951.7 因此，從上述資料可見，目前所制備的功能性鍍膜玻璃只在玻璃的一個面鍍膜。本申請專利是在一塊(片)玻璃的兩個表面分別實現(xiàn)自潔凈和低輻射或反射紅外線雙功能，可以更好地滿足需要。例如用銀基多層膜實現(xiàn)低輻射或反射紅外線時，玻璃就需要作成中空玻璃使用，膜層就需要放在中空玻璃的內(nèi)表面，為了同時使這片玻璃具有自潔凈功能，自潔凈膜就需要鍍制在這一片玻璃的另一面。
本發(fā)明的特點是在一塊(片)玻璃的兩個表面分別實現(xiàn)自潔凈和低輻射或反射紅外線雙功能。該雙功能鍍膜玻璃可用于汽車、火車、輪船、建筑和照明燈具等使用玻璃領域，以及冰箱或冰柜的透視(觀察)窗(門)等。屬于功能集成創(chuàng)新，

發(fā)明內(nèi)容
技術問題本發(fā)明的目的在于提供一種具有自潔凈和低輻射功能的鍍膜玻璃及其制備方法，在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍制低輻射膜或反射紅外線膜的雙功能鍍膜玻璃。
技術方案本發(fā)明具有自潔凈和低輻射功能的鍍膜玻璃在玻璃基片表面上的一面鍍制具有自潔凈功能的二氧化鈦自潔凈膜層，另一面鍍制低輻射膜或反射紅外線膜層，或在玻璃基片表面上的兩面鍍制具有自潔凈功能的二氧化鈦自潔凈膜層，在其中一面的二氧化鈦自潔凈膜層外再鍍制低輻射膜或反射紅外線膜層；所述低輻射膜或反射紅外線膜層為氧化物半導體膜或銀基多層膜，膜層結(jié)構(gòu)是氧化物半導體ZnO:Al或In2O3:Sn鍍制的單層膜，或金屬Sn、NiCr合金和金屬Ag鍍制的多層膜。具有自潔凈功能的二氧化鈦自潔凈膜層的厚度為100nm～500nm，低輻射膜或反射紅外線膜層的厚度為80nm～500nm。
具有自潔凈和低輻射功能的鍍膜玻璃的制備方法首先在玻璃上用二氧化鈦溶膠-凝膠單面噴涂法或雙面浸漬提拉法制備具有自潔凈功能的二氧化鈦自潔凈膜層，之后將該鍍膜玻璃在500℃-650℃熱處理2-20分鐘；然后在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍制低輻射膜或反射紅外線膜層用濺射法制備， 具體方法為 1)對待鍍膜玻璃基片進行清洗、干燥； 2)配制含鈦的溶膠-凝膠溶液，該溶液由鈦酸丁酯、水和乙醇組成；鈦酸丁酯6.92毫升，水0.37毫升，乙醇92.71毫升；三者體積比1∶0.053∶13.4；配比在±0.05范圍內(nèi)， 3)用噴涂方法或浸漬提拉方法在潔凈玻璃片上鍍制單面或雙面的二氧化鈦自潔凈膜層；其方法是在常壓下，首先在玻璃上噴涂或浸漬含鈦的溶膠-凝膠液，根據(jù)膜層厚度確定噴涂時間或浸漬提拉次數(shù)；然后把噴涂單面二氧化鈦自潔凈膜玻璃或浸漬提拉雙面二氧化鈦自潔凈膜玻璃在500-650℃熱處理2-20分鐘； 4)玻璃的單面或雙面鍍制二氧化鈦自潔凈膜層后，直接送入濺射鍍膜設備中，在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍制氧化物半導體膜或銀基多層膜，濺射室的背底真空小于2.5×10-3Pa，鍍制方法是 a)鍍制氧化物半導體膜靶材是ZnO:Al或In2O3:Sn陶瓷靶材；濺射氣體是高純氬氣，工作氣壓是0.25Pa，鍍制的膜層厚度80-500納米； b)鍍制銀基多層膜靶材分別是金屬Sn、NiCr合金和金屬Ag，金屬Sn濺射氣體是高純氬氣和氧氣，其中氧氣/氬氣＝15/85，工作氣壓是0.25Pa；NiCr合金和金屬Ag，濺射氣體是高純氬氣，工作氣壓是0.25Pa，鍍制的膜層總厚度80-500納米。
有益效果本發(fā)明的特征在于在玻璃表面的一面或雙面首先鍍有二氧化鈦自潔凈膜層，然后在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍制低輻射膜或反射紅外線膜的雙功能鍍膜玻璃；可見光透射率在55～80％，輻射率在0.2～0.05，紅外線反射的起始波長在900nm～2500nm。
本發(fā)明的制備方法通過改變膜層厚度，可以調(diào)節(jié)其顏色，使該膜層結(jié)構(gòu)的鍍膜玻璃得到所需要的可見光透射率、反射顏色、透射色。
本發(fā)明的雙功能鍍膜玻璃，在汽車、火車、輪船、建筑和照明燈具及冰箱或冰柜的透視(觀察)窗(門)等使用玻璃領域，具有廣泛的應用，前景廣闊。



圖1是噴涂法鍍二氧化鈦自潔凈膜玻璃熱處理、濺射鍍低輻射或反射紅外線膜玻璃后的膜層結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是浸漬提拉法鍍二氧化鈦自潔凈膜玻璃熱處理、濺射鍍低輻射或反射紅外線膜玻璃后的膜層結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中有玻璃基片1，二氧化鈦自潔凈膜層2，低輻射或反射紅外線膜層3。

具體實施例方式 本發(fā)明是通過鍍膜在同一塊(片)玻璃的兩個面分別實現(xiàn)自潔凈和低輻射或反射紅外線雙功能。它的膜層結(jié)構(gòu)是二氧化鈦自潔凈膜/玻璃基片/低輻射膜或反射紅外線膜；可見光透射率在55～80％，輻射率在0.2～0.05，紅外線反射的起始波長在900nm～2500nm。自潔凈膜層厚100nm～500nm，低輻射膜或反射紅外線膜層總厚80nm～500nm。本鍍膜玻璃的二氧化鈦自潔凈膜面用二氧化鈦溶膠-凝膠單面噴涂法或雙面浸漬提拉法制備；在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍制低輻射膜或反射紅外線膜用濺射法制備。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術方案是 在一塊(片)玻璃上的兩個面分別具有自潔凈和低輻射或反射紅外線雙功能鍍膜玻璃，制備方法是玻璃基片上的一個面或雙面首先鍍有二氧化鈦自潔凈膜層，然后在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍低輻射膜或反射紅外線膜。其膜層結(jié)構(gòu)是二氧化鈦自潔凈膜/玻璃基片/低輻射膜或反射紅外線膜；所述的二氧化鈦自潔凈膜是銳鈦礦相，膜層厚度為100～500納米；所述的低輻射膜或反射紅外線膜是氧化物半導體膜或銀基多層膜；氧化物半導體ZnO:Al或In2O3:Sn鍍制的單層膜，膜層厚度為80～500納米；或金屬Sn、NiCr合金和金屬Ag鍍制的多層膜，膜層總厚度為80～500納米。
所述的同一塊(片)玻璃的兩個面分別具有自潔凈和低輻射或反射紅外線雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征是包括如下步驟 1)對待鍍膜玻璃基片進行清洗、干燥； 2)配制含鈦的溶膠-凝膠溶液，溶液由鈦酸丁酯、水和乙醇組成；鈦酸丁酯6.92毫升，水0.37毫升，乙醇92.71毫升；三者體積比1∶0.053∶13.4；配比在±0.05范圍內(nèi)。
3)用噴涂方法或浸漬提拉方法在潔凈玻璃片上分別鍍制單面的二氧化鈦自潔凈膜層或雙面的二氧化鈦自潔凈膜層。其方法是 在常壓下，首先在玻璃上噴涂或浸漬含鈦的溶膠-凝膠液并提拉，根據(jù)膜層厚度確定噴涂時間或浸漬提拉次數(shù)；然后把噴涂單面二氧化鈦自潔凈膜或浸漬提拉雙面二氧化鈦自潔凈膜的玻璃在500-650℃熱處理2-20分鐘。玻璃熱處理后的膜層結(jié)構(gòu)示意圖見圖1(噴涂法)或圖2(浸漬提拉法)。圖1和圖2中1指玻璃基片，2指噴涂或浸漬提拉法制備的二氧化鈦自潔凈膜。
4)玻璃的單面或雙面鍍制二氧化鈦自潔凈膜層后，直接送入濺射鍍膜設備中，在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍制氧化物半導體膜或銀基多層膜。濺射室的背底真空小于2.5×10-3Pa。鍍制方法是 a)鍍制半導體氧化物膜靶材是ZnO:Al或In2O3:Sn(ITO)陶瓷靶材；濺射氣體是高純氬氣，工作氣壓是0.25Pa。鍍制的膜層厚度80-500納米。
b)鍍制銀基多層膜靶材分別是金屬Sn、NiCr合金和金屬Ag，金屬Sn濺射氣體是高純氬氣和氧氣，其中氧氣/氬氣＝15/85，工作氣壓是0.25Pa；NiCr合金和金屬Ag，濺射氣體是高純氬氣，工作氣壓是0.25Pa。鍍制的膜層總厚度80-500納米。
實施例1用噴涂法在玻璃單面制備二氧化鈦自潔凈膜、用濺射法在未鍍二氧化鈦自潔凈膜玻璃的一面鍍制氧化物半導體ZnO:Al或In2O3:Sn膜，玻璃在兩個面分別具有自潔凈和低輻射或反射紅外線功能，使該鍍膜玻璃同時具有該雙功能。
制備包括如下步驟 1)首先對待鍍膜玻璃基片進行清洗、干燥；基片玻璃的可見光透射率為89％； 2)配制含鈦噴涂液，噴涂液由鈦酸丁酯組成，用乙醇調(diào)整鈦的濃度。鈦酸丁酯6.92毫升，水0.37毫升，乙醇92.71毫升；三者體積比1∶0.053∶13.4。
3)在常壓下，首先在100mm長、100mm寬、3mm厚的玻璃片上噴涂含鈦的噴涂液；然后把噴涂膜的玻璃在520℃熱處理10分鐘。
4)把單面鍍二氧化鈦自潔凈膜的鍍膜玻璃送到濺射鍍膜設備，背底真空2.5×10-3Pa；用ZnO:Al或In2O3:Sn做靶材，在工作真空0.25Pa的純氬氣下，在未鍍二氧化鈦自潔凈膜玻璃的一面鍍ZnO:Al或In2O3:Sn氧化物半導體膜。
得到的雙功能鍍膜玻璃的性能如下二氧化鈦自潔凈膜厚200nm、ZnO:Al或In2O3:Sn膜厚200nm；可見光透過率78％；把鍍膜玻璃的二氧化鈦自潔凈膜面向上放置在一個密閉容器里，向容器里注入甲醛氣體，在中心波長為345nm的紫外線照射下，二氧化鈦自潔凈膜面上的照明度是1.2mW/cm2，用火焰電離檢測器定量分析容器內(nèi)的甲醛余量，得到鍍膜玻璃對甲醛的降解率為17.2μl/min；將浸有色拉油的薄紙擦拭二氧化鈦自潔凈膜面(尺寸50×50)，用天平稱膜面上色拉油的重量約為0.1mg/cm2，在中心波長為345nm的紫外線照射下，二氧化鈦自潔凈膜面上的照明度是1.2mW/cm2，照射28小時后，玻璃恢復到未擦拭色拉油前的重量，說明玻璃鍍二氧化鈦膜層對色拉油的降解為100％。鍍膜玻璃的紅外反射起始波長為1400nm，輻射率為0.19；鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標準”中規(guī)定的國家標準。
實施例2用噴涂法在玻璃單面制備二氧化鈦自潔凈膜，用濺射法在未鍍二氧化鈦自潔凈膜玻璃的一面鍍制銀基多層膜(膜層是SnO2/NiCr/Ag/NiCr/SnO2)。玻璃在兩個面分別具有自潔凈和低輻射或反射紅外線功能，使該鍍膜玻璃同時具有該雙功能。制備包括如下步驟 1)首先對待鍍膜玻璃基片進行清洗、干燥；基片玻璃的可見光透射率為89％； 2)配制含鈦噴涂液，噴涂液由鈦酸丁酯組成，用乙醇調(diào)整鈦的濃度。鈦酸丁酯6.92毫升，水0.37毫升，乙醇92.71毫升；三者體積比1∶0.053∶13.4。
3)在常壓下，首先在100mm長、100mm寬、3mm厚的玻璃片上噴涂含鈦的噴涂液；然后把噴涂膜的玻璃在550℃熱處理10分鐘。
4)把單面鍍二氧化鈦自潔凈膜的鍍膜玻璃送到濺射鍍膜設備，在未鍍二氧化鈦自潔凈膜玻璃的一面鍍銀基多層膜。背底真空2.5×10-3Pa；，靶材分別是金屬Sn、NiCr合金和金屬Ag，金屬Sn濺射氣體是高純氬氣和氧氣，其中氧氣/氬氣＝15/85，工作氣壓是0.25Pa；NiCr合金和金屬Ag靶的濺射氣體是高純氬氣，工作氣壓是0.25Pa。
得到的雙功能鍍膜玻璃的性能如下二氧化鈦自潔凈膜厚300nm、銀基多層膜總厚度為90nm；可見光透過率70％；把鍍膜玻璃的二氧化鈦自潔凈膜面向上放置在一個密閉容器里，向容器里注入甲醛氣體，在中心波長為345nm的紫外線照射下，二氧化鈦自潔凈膜面上的照明度是1.2mW/cm2，用火焰電離檢測器定量分析容器內(nèi)的甲醛余量，得到鍍膜玻璃對甲醛的降解率為25.2μl/min；將浸有色拉油的薄紙擦拭二氧化鈦自潔凈膜面(尺寸50×50)，用天平稱膜面上色拉油的重量約為0.1mg/cm2，在中心波長為345nm的紫外線照射下，二氧化鈦自潔凈膜面上的照明度是1.2mW/cm2，照射26小時后，玻璃恢復到未擦拭色拉油前的重量，說明玻璃鍍二氧化鈦自潔凈膜層對色拉油的降解為100％。鍍膜玻璃的紅外反射起始波長為1200nm，輻射率為0.12；鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標準”中規(guī)定的國家標準。
實施例3用浸漬提拉法在玻璃雙面制備二氧化鈦自潔凈膜、用濺射法在鍍二氧化鈦自潔凈膜玻璃的其中一面鍍制氧化物半導體ZnO:Al或In2O3:Sn膜，玻璃在兩個面分別具有自潔凈和低輻射或反射紅外線功能，使該鍍膜玻璃同時具有該雙功能。制備包括如下步驟 1)首先對待鍍膜玻璃基片進行清洗、干燥；基片玻璃的可見光透射率為89％； 2)配制含鈦浸漬液，浸漬液由鈦酸丁酯組成，用乙醇調(diào)整鈦的濃度。鈦酸丁酯6.92毫升，水0.37毫升，乙醇92.71毫升；三者體積比1∶0.053∶13.4。
3)在常壓下，首先在100mm長、100mm寬、3mm厚的玻璃片上用浸漬提拉鍍法在玻璃的雙面鍍有機鈦膜；然后把鍍膜玻璃在600℃熱處理5分鐘。
4)把雙面鍍二氧化鈦自潔凈膜的鍍膜玻璃送到濺射鍍膜設備，背底真空2.5×10-3Pa；用ZnO:Al或In2O3:Sn做靶材，在工作真空0.25Pa的純氬氣下，在鍍二氧化鈦自潔凈膜玻璃的其中一面鍍ZnO:Al或In2O3:Sn氧化物半導體膜。
得到的雙功能鍍膜玻璃的性能如下二氧化鈦自潔凈膜厚400nm、ZnO:Al或In2O3:Sn膜厚400nm；可見光透過率68％；把鍍膜玻璃的二氧化鈦自潔凈膜面向上放置在一個密閉容器里，向容器里注入甲醛氣體，在中心波長為345nm的紫外線照射下，二氧化鈦自潔凈膜面上的照明度是1.2mW/cm2，用火焰電離檢測器定量分析容器內(nèi)的甲醛余量，得到鍍膜玻璃對甲醛的降解率為30.7μl/min；將浸有色拉油的薄紙擦拭二氧化鈦自潔凈膜面(尺寸50×50)，用天平稱膜面上色拉油的重量約為0.1mg/cm2，在中心波長為345nm的紫外線照射下，二氧化鈦自潔凈膜面上的照明度是1.2mW/cm2，照射22小時后，玻璃恢復到未擦拭色拉油前的重量，說明玻璃鍍二氧化鈦自潔凈膜層對色拉油的降解為100％。鍍膜玻璃的紅外反射起始波長為1100nm，輻射率為0.15；鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標準”中規(guī)定的國家標準。
實施例4用浸漬提拉法在玻璃雙面制備二氧化鈦自潔凈膜，用濺射法在鍍二氧化鈦自潔凈膜玻璃的其中一面鍍制銀基多層膜(膜層是SnO2/NiCr/Ag/NiCr/SnO2)。玻璃在兩個面分別具有自潔凈和低輻射或反射紅外線功能，使該鍍膜玻璃同時具有該雙功能。制備包括如下步驟 1)首先對待鍍膜玻璃基片進行清洗、干燥；基片玻璃的可見光透射率為89％； 2)配制含鈦浸漬液，浸漬液由鈦酸丁酯組成，用乙醇調(diào)整鈦的濃度。鈦酸丁酯6.92毫升，水0.37毫升，乙醇92.71毫升，三者體積比1∶0.053∶13.4。
3)在常壓下，首先在100mm長、100mm寬、3mm厚的玻璃片上用浸漬提拉法在玻璃上雙面鍍膜含鈦的有機膜；然后把雙面鍍膜的玻璃在650℃熱處理2.5分鐘。
4)把雙面鍍二氧化鈦自潔凈膜的鍍膜玻璃送到濺射鍍膜設備，在鍍二氧化鈦膜自潔凈玻璃的其中一面鍍銀基多層膜。背底真空2.5×10-3Pa；，靶材分別是金屬Sn、NiCr合金和金屬Ag，金屬Sn濺射氣體是高純氬氣和氧氣，其中氧氣/氬氣＝15/85，工作氣壓是0.25Pa；NiCr合金和金屬Ag靶的濺射氣體是高純氬氣，工作氣壓是0.25Pa。
得到的雙功能鍍膜玻璃的性能如下二氧化鈦自潔凈膜厚500nm、銀基多層膜總厚度為110nm；可見光透過率63％；把鍍膜玻璃的二氧化鈦自潔凈膜面向上放置在一個密閉容器里，向容器里注入甲醛氣體，在中心波長為345nm的紫外線照射下，二氧化鈦自潔凈膜面上的照明度是1.2mW/cm2，用火焰電離檢測器定量分析容器內(nèi)的甲醛余量，得到鍍膜玻璃對甲醛的降解率為35.2μl/min；將浸有色拉油的薄紙擦拭二氧化鈦自潔凈膜面(尺寸50×50)，用天平稱膜面上色拉油的重量約為0.1mg/cm2，在中心波長為345nm的紫外線照射下，二氧化鈦自潔凈膜面上的照明度是1.2mW/cm2，照射20小時后，玻璃恢復到未擦拭色拉油前的重量，說明玻璃鍍二氧化鈦自潔凈膜層對色拉油的降解為100％。鍍膜玻璃的紅外反射起始波長為1000nm，輻射率為0.08；鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標準”中規(guī)定的國家標準。
權(quán)利要求
1.一種具有自潔凈和低輻射功能的鍍膜玻璃，其特征在于在玻璃基片(1)表面上的一面鍍制具有自潔凈功能的二氧化鈦自潔凈膜層(2)，另一面鍍制低輻射膜或反射紅外線膜層(3)，或在玻璃基片(1)表面上的兩面鍍制具有自潔凈功能的二氧化鈦自潔凈膜層(2)，在其中一面的二氧化鈦自潔凈膜層(2)外再鍍制低輻射膜或反射紅外線膜層(3)；所述低輻射膜或反射紅外線膜層(3)為氧化物半導體膜或銀基多層膜，膜層結(jié)構(gòu)是氧化物半導體ZnO:Al或In2O3:Sn鍍制的單層膜，或金屬Sn、NiCr合金和金屬Ag鍍制的多層膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有自潔凈和低輻射功能的鍍膜玻璃，其特征在于具有自潔凈功能的二氧化鈦自潔凈膜層(2)的厚度為100nm～500nm，低輻射膜或反射紅外線膜層(3)的厚度為80nm～500nm。
3.一種如權(quán)利1所述的具有自潔凈和低輻射功能的鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于首先在玻璃上用二氧化鈦溶膠-凝膠單面噴涂法或雙面浸漬提拉法制備具有自潔凈功能的二氧化鈦自潔凈膜層(2)，之后將該鍍膜玻璃在500℃-650℃熱處理2-20分鐘；然后在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍制低輻射膜或反射紅外線膜層(3)用濺射法制備，
具體方法為
1)對待鍍膜玻璃基片進行清洗、干燥；
2)配制含鈦的溶膠-凝膠溶液，該溶液由鈦酸丁酯、水和乙醇組成；鈦酸丁酯6.92毫升，水0.37毫升，乙醇92.71毫升；三者體積比1∶0.053∶13.4；配比在±0.05范圍內(nèi)，
3)用噴涂方法或浸漬提拉方法在潔凈玻璃片上鍍制單面或雙面的二氧化鈦自潔凈膜層；其方法是在常壓下，首先在玻璃上噴涂或浸漬含鈦的溶膠-凝膠液，根據(jù)膜層厚度確定噴涂時間或浸漬提拉次數(shù)；然后把噴涂單面二氧化鈦自潔凈膜玻璃或浸漬提拉雙面二氧化鈦自潔凈膜玻璃在500-650℃熱處理2-20分鐘；
4)玻璃的單面或雙面鍍制二氧化鈦自潔凈膜層后，直接送入濺射鍍膜設備中，在未鍍二氧化鈦自潔凈膜的一面、或兩面都鍍制二氧化鈦自潔凈膜的其中一個面鍍制氧化物半導體膜或銀基多層膜，濺射室的背底真空小于2.5×10-3Pa，鍍制方法是
a)鍍制氧化物半導體膜靶材是ZnO:Al或In2O3:Sn陶瓷靶材；濺射氣體是高純氬氣，工作氣壓是0.25Pa，鍍制的膜層厚度80-500納米；
b)鍍制銀基多層膜靶材分別是金屬Sn、NiCr合金和金屬Ag，金屬Sn濺射氣體是高純氬氣和氧氣，其中氧氣/氬氣＝15/85，工作氣壓是0.25Pa；NiCr合金和金屬Ag，濺射氣體是高純氬氣，工作氣壓是0.25Pa，鍍制的膜層總厚度80-500納米。
全文摘要
具有自潔凈和低輻射功能的鍍膜玻璃及其制備方法是一種可用于汽車、火車、輪船、建筑和照明燈具等領域鍍膜玻璃，它的特點是在玻璃的兩個面分別實現(xiàn)自潔凈功能和低輻射或反射紅外線功能。它的膜層結(jié)構(gòu)是二氧化鈦自潔凈膜/玻璃基片/低輻射膜或反射紅外線膜；可見光透射率在55～80％，輻射率在0.2～0.05，紅外線反射的起始波長在900～2500nm。二氧化鈦自潔凈膜層厚100～500nm，低輻射膜或反射紅外線膜層總厚80～500nm。本鍍膜玻璃的二氧化鈦自潔凈膜面用二氧化鈦溶膠-凝膠單面噴涂法或浸漬提拉法制備；另一面的低輻射膜或反射紅外線膜用濺射法制備。
文檔編號C03C17/22GK101182128SQ20071013458
公開日2008年5月21日 申請日期2007年11月2日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月2日
發(fā)明者盧秀強, 趙青南, 趙修建 申請人:盧秀強, 趙青南, 趙修建