旋轉(zhuǎn)清洗裝置制造方法
【專利摘要】提供一種旋轉(zhuǎn)清洗裝置，其在旋轉(zhuǎn)清洗時(shí)，能夠防止清洗時(shí)被污染的噴霧和清洗水再次附著到晶片。旋轉(zhuǎn)清洗裝置(1)具備：保持晶片的保持工作臺(tái)(10)；保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部(15)；清洗水噴射構(gòu)件(50)；收納保持工作臺(tái)的腔(30)；從腔內(nèi)將氣體排出的導(dǎo)管(45)；風(fēng)扇部件(20)，其形成為圓環(huán)形狀，并覆蓋從保持工作臺(tái)的表面位置到腔的開(kāi)口部為止的圍繞保持工作臺(tái)的外周空間；以及使風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)的風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部(25)，風(fēng)扇部件利用風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此在保持工作臺(tái)的上部從風(fēng)扇部件的圓環(huán)形狀內(nèi)周部向風(fēng)扇部件的外周部產(chǎn)生空氣流動(dòng)，將清洗時(shí)的清洗水和噴霧排出到風(fēng)扇部件的外部并導(dǎo)入至導(dǎo)管。
【專利說(shuō)明】旋轉(zhuǎn)清洗裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及通過(guò)向旋轉(zhuǎn)的半導(dǎo)體晶片等工件供給清洗水來(lái)清洗工件的旋轉(zhuǎn)清洗
>J-U ρ?α裝直。

【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體器件制造工序中，在大致圓板形狀的半導(dǎo)體晶片的表面由呈格子狀排列的分割預(yù)定線劃分出多個(gè)區(qū)域，在該劃分出的各區(qū)域形成有1C、LSI等半導(dǎo)體器件。然后，通過(guò)沿著分割預(yù)定線對(duì)半導(dǎo)體晶片進(jìn)行切割來(lái)分割各區(qū)域，由此制造出一個(gè)個(gè)半導(dǎo)體器件。存在切割時(shí)產(chǎn)生的切屑等污物附著在半導(dǎo)體晶片的表面的情況。因此，半導(dǎo)體晶片在切割完成后，利用旋轉(zhuǎn)清洗裝置進(jìn)行清洗，所述旋轉(zhuǎn)清洗裝置通過(guò)向旋轉(zhuǎn)的半導(dǎo)體晶片供給清洗水來(lái)清洗半導(dǎo)體晶片。
[0003]然而，在利用旋轉(zhuǎn)清洗裝置清洗半導(dǎo)體晶片時(shí)，從旋轉(zhuǎn)清洗裝置卷起的被污染的噴霧在旋轉(zhuǎn)清洗裝置的腔內(nèi)擴(kuò)散，由此存在噴霧再次附著到半導(dǎo)體晶片表面的情況。因此，在以往的旋轉(zhuǎn)清洗裝置中，提出了如下方案，通過(guò)在腔內(nèi)產(chǎn)生向下氣流，來(lái)抑制噴霧向腔內(nèi)擴(kuò)散，從而抑制污物再次附著到半導(dǎo)體晶片(參照專利文獻(xiàn)I)。
[0004]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2012-94659號(hào)公報(bào)
[0005]但是，雖然利用向下氣流防止了噴霧再次附著至晶片，但存在無(wú)法防止飛散的污染水被腔內(nèi)壁等彈回而再次附著到晶片的問(wèn)題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明正是鑒于上述情況而完成的，其目的在于提供一種旋轉(zhuǎn)清洗裝置，其在旋轉(zhuǎn)清洗時(shí)，能夠防止清洗時(shí)的被污染的噴霧和清洗水再次附著到晶片。
[0007]為解決上述課題并達(dá)成目的，本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)清洗裝置具有:圓盤形狀的保持工作臺(tái)，其保持板狀物；保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部，其使該保持工作臺(tái)以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及清洗水噴射構(gòu)件，其朝向保持于該保持工作臺(tái)的上表面的所述板狀物上噴射清洗水，所述旋轉(zhuǎn)清洗裝置的特征在于，其具備:圓筒形狀的腔，其收納所述保持工作臺(tái)，并且所述腔的上表面開(kāi)口 ；導(dǎo)管，其配設(shè)于該腔的側(cè)壁，用于從該腔內(nèi)將氣體排出；風(fēng)扇部件，其形成為圓環(huán)形狀，并在清洗時(shí)覆蓋從該保持工作臺(tái)的表面位置到該腔的開(kāi)口部為止的圍繞該保持工作臺(tái)的外周空間；以及風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部，其使該風(fēng)扇部件以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，該風(fēng)扇部件利用該風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此在該保持工作臺(tái)的上部且從該風(fēng)扇部件的該圓環(huán)形狀的內(nèi)周部向該風(fēng)扇部件的外周部產(chǎn)生空氣流動(dòng)，將清洗時(shí)的清洗水和噴霧強(qiáng)制排出到該風(fēng)扇部件的外部并導(dǎo)入至該導(dǎo)管。
[0008]并且，在上述旋轉(zhuǎn)清洗裝置中，優(yōu)選的是，所述風(fēng)扇部件固定于所述保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部的外周，該保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部兼作為該風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部，該風(fēng)扇部件隨著該保持工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)。
[0009]本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)清洗裝置利用覆蓋至開(kāi)口的圓環(huán)形狀的風(fēng)扇部件圍繞保持工作臺(tái)的外周，并在清洗時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此強(qiáng)制地使晶片上表面的噴霧和清洗水排出到風(fēng)扇部件的外周部并導(dǎo)入至導(dǎo)管，因此能夠防止被污染的清洗水和噴霧再次附著到晶片上表面。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1是實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置的立體圖。
[0011]圖2是圖1所示的旋轉(zhuǎn)清洗裝置的豎直方向的剖視圖。
[0012]圖3是實(shí)施方式2的旋轉(zhuǎn)清洗裝置的剖視圖。
[0013]標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0014]1、70:旋轉(zhuǎn)清洗裝置；
[0015]10:保持工作臺(tái)；
[0016]11:保持面(上表面)；
[0017]15、71:保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部；
[0018]16,72:保持工作臺(tái)支承部；
[0019]17、73:保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸；
[0020]20:風(fēng)扇部件；
[0021]21:葉片；
[0022]25、75:風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部；
[0023]26:風(fēng)扇部件支承部；
[0024]27:風(fēng)扇部件軸部；
[0025]30:腔；
[0026]33:開(kāi)口部；
[0027]34:側(cè)壁；
[0028]45:導(dǎo)管；
[0029]50:清洗水噴射構(gòu)件；
[0030]51:清洗水噴嘴；
[0031]60:保持工作臺(tái)用馬達(dá)；
[0032]61:風(fēng)扇部件用馬達(dá)；
[0033]78:馬達(dá)；
[0034]胃:晶片(板狀物)。

【具體實(shí)施方式】
[0035]下面，基于附圖對(duì)本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)清洗裝置的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。另外，該發(fā)明不受該實(shí)施方式限定。并且，在下述實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)要素中，包括本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠且容易置換的結(jié)構(gòu)要素、或者實(shí)質(zhì)上相同的結(jié)構(gòu)要素。
[0036][實(shí)施方式I]
[0037]圖1是實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置的立體圖。圖2是圖1所示的旋轉(zhuǎn)清洗裝置的豎直方向的剖視圖。該圖所示的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I為在對(duì)晶片W實(shí)施規(guī)定的加工后清洗該晶片W的裝置，能夠配備于未圖示的加工裝置或者在單獨(dú)的狀態(tài)下使用，其中，所述晶片W是由半導(dǎo)體材料形成的圓形的薄的板狀物。作為對(duì)晶片W實(shí)施的加工，例如可以舉出:利用切削刀具的切削或激光光線照射來(lái)分割晶片W的分割加工、基于擴(kuò)張的分割加工、基于激光光線照射的開(kāi)孔加工、磨削加工、以及研磨加工等。
[0038]本實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I具備:圓盤形狀的保持工作臺(tái)10，其利用設(shè)于上表面的保持面11保持晶片W ;保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部15，其使保持工作臺(tái)10以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及清洗水噴射構(gòu)件50，其朝向保持在保持工作臺(tái)10的保持面11上的晶片W上噴射清洗水。并且，旋轉(zhuǎn)清洗裝置I具備圓筒形狀的腔30，腔30收納保持工作臺(tái)10并且腔30的上表面開(kāi)口，在腔30的側(cè)壁34配設(shè)有將氣體從腔30內(nèi)排出的導(dǎo)管45。
[0039]借助保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部15，保持工作臺(tái)10相對(duì)于腔30呈同心狀地配設(shè)在腔30的內(nèi)部。保持工作臺(tái)10是一般公知的真空卡盤式的工作臺(tái)，其在成為晶片W的保持面11的水平的上表面產(chǎn)生負(fù)壓，使晶片W吸附保持于保持面11。并且，在保持工作臺(tái)10配設(shè)有用于保持框架(省略圖示)的夾緊裝置12，所述框架在晶片W的加工時(shí)安裝于晶片W來(lái)保持晶片W。
[0040]使保持工作臺(tái)10旋轉(zhuǎn)的保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部15具有:保持工作臺(tái)支承部16，其形成為直徑比保持工作臺(tái)10大的圓盤形狀并支承保持工作臺(tái)10 ;保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17，其使保持工作臺(tái)支承部16以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及保持工作臺(tái)用馬達(dá)60，其為保持工作臺(tái)10旋轉(zhuǎn)時(shí)的動(dòng)力源。其中，保持工作臺(tái)支承部16配設(shè)于保持工作臺(tái)10的下表面?zhèn)蒛、即保持工作臺(tái)10中保持面11所在的一側(cè)的相反側(cè)。保持工作臺(tái)10以能夠與該保持工作臺(tái)支承部16 —體地旋轉(zhuǎn)的方式與保持工作臺(tái)支承部16的上表面連結(jié)。
[0041]并且,保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17的上端與保持工作臺(tái)支承部16中保持工作臺(tái)10所在的一面?zhèn)鹊南喾磦?cè)的面連結(jié)，并且保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17從保持工作臺(tái)支承部16朝向豎直方向下方延伸。即，保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17以能夠與保持工作臺(tái)支承部16 —體旋轉(zhuǎn)的方式與保持工作臺(tái)支承部16連結(jié)。保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17的下端側(cè)與保持工作臺(tái)用馬達(dá)60的輸出軸連結(jié)。由此，保持工作臺(tái)10能夠借助于由保持工作臺(tái)用馬達(dá)60產(chǎn)生的動(dòng)力而與保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17和保持工作臺(tái)支承部16 —起旋轉(zhuǎn)。
[0042]腔30在上端部分具有從側(cè)壁34向筒的內(nèi)側(cè)方向沿水平方向形成的板狀的上表面部31。上表面部31以與保持工作臺(tái)10的直徑大致相等的直徑的圓形開(kāi)口，在上表面部31中的該開(kāi)口的部分設(shè)有朝向下方折回的折回部32。在該折回部32，面對(duì)圓筒形狀的腔30的軸心的部分成為開(kāi)口部33，開(kāi)口部33成為腔30的開(kāi)口部分，成為呈圓形開(kāi)口的狀態(tài)。
[0043]清洗水噴射構(gòu)件50具有沿豎直方向延伸的軸部56，軸部56配設(shè)于腔30的上表面部31的表面?zhèn)?，由此清洗水噴射?gòu)件50轉(zhuǎn)動(dòng)自如地安裝于腔30。在軸部56連結(jié)有升降部55，升降部55能夠相對(duì)于軸部56以豎直方向?yàn)檩S向轉(zhuǎn)動(dòng)，并且能夠相對(duì)于軸部56在豎直方向上相對(duì)移動(dòng)。即，升降部55以相對(duì)于腔30在豎直方向上升降自如的方式配設(shè)于腔30的上端側(cè)。
[0044]配管部52從升降部55沿水平方向延伸，在其末端、即配管部52的與升降部55連接的一側(cè)的端部的相反側(cè)的端部，設(shè)置有清洗水噴嘴51。詳細(xì)地講，在通過(guò)使升降部55相對(duì)于軸部56轉(zhuǎn)動(dòng)而配管部52成為朝向腔30的軸心的方向時(shí)的腔30的軸心附近的位置，配管部52向下方彎折。清洗水噴嘴51以能夠向下方噴射清洗水的方向安裝在配管部52的彎折的部分的末端。
[0045]而且，在腔30內(nèi)配置有風(fēng)扇部件20和風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部25，所述風(fēng)扇部件20形成為圓環(huán)形狀并覆蓋從保持工作臺(tái)10的表面位置到腔30的開(kāi)口部33為止的圍繞保持工作臺(tái)10的外周空間，所述風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部25使風(fēng)扇部件20以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
[0046]其中，風(fēng)扇部件20由在保持工作臺(tái)10或保持工作臺(tái)支承部16的周圍配置的多個(gè)葉片21構(gòu)成。該葉片21分別相對(duì)于保持工作臺(tái)10和保持工作臺(tái)支承部16的徑向和周向雙方傾斜，并形成為以沿豎直方向延伸的方向形成的板狀的形狀。多個(gè)葉片21都形成為相同的形狀，并在保持工作臺(tái)10和保持工作臺(tái)支承部16的周向上彼此分離地配置在保持工作臺(tái)10和保持工作臺(tái)支承部16周圍。并且，多個(gè)葉片21相對(duì)于保持工作臺(tái)10和保持工作臺(tái)支承部16的徑向和周向雙方的相對(duì)傾斜的方向和角度，都是相同的方向和相同的角度。
[0047]風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部25具有:風(fēng)扇部件軸部27，其使風(fēng)扇部件支承部26以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及風(fēng)扇部件用馬達(dá)61，其為風(fēng)扇部件20旋轉(zhuǎn)時(shí)的動(dòng)力源。
[0048]風(fēng)扇部件支承部26配設(shè)于保持工作臺(tái)支承部16的下表面?zhèn)?、即保持工作臺(tái)支承部16中的連結(jié)有保持工作臺(tái)10的一面?zhèn)鹊南喾磦?cè)，在風(fēng)扇部件支承部26連結(jié)有構(gòu)成風(fēng)扇部件20的多個(gè)葉片21。
[0049]更詳細(xì)地說(shuō)，各葉片21的下端部與環(huán)形形狀的風(fēng)扇部件支承部26的外周端附近連結(jié)，由此，多個(gè)葉片21被配設(shè)成在以環(huán)形形狀的軸心為中心的周向上排列的狀態(tài)下相互分離。
[0050]并且，風(fēng)扇部件支承部26形成為直徑比開(kāi)口部33的直徑大，因此，葉片21從風(fēng)扇部件支承部26朝向腔30的上表面部31延伸。而且，葉片21的上端位于比腔30的折回部32的下端靠上方的位置。由此，具有多個(gè)葉片21的風(fēng)扇部件20包括從保持工作臺(tái)10的保持面11即保持工作臺(tái)10的表面位置沿豎直方向至腔30的開(kāi)口部33所在的部分為止的空間在內(nèi)，覆蓋了在以保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)軸線為中心的周向上圍繞保持工作臺(tái)10的外周空間，風(fēng)扇部件20整體上形成為圓環(huán)形狀。并且，風(fēng)扇部件20的葉片21的上端位于折回部32的上方，因此，風(fēng)扇部件20與支承該風(fēng)扇部件20的風(fēng)扇部件支承部26 —起將腔30內(nèi)的風(fēng)扇部件20的內(nèi)周側(cè)的空間和外周側(cè)的空間大致隔離開(kāi)。
[0051]設(shè)置于腔30的導(dǎo)管45在豎直方向上處于風(fēng)扇部件20和風(fēng)扇部件支承部26所在的高度，該導(dǎo)管45設(shè)置于腔30的側(cè)壁34的外周面，并與腔30的內(nèi)側(cè)空間連通。該導(dǎo)管45延伸至對(duì)來(lái)自旋轉(zhuǎn)清洗裝置I的廢氣進(jìn)行處理的處理設(shè)備(省略圖示)，在導(dǎo)管45的中途、或者該處理設(shè)備裝備有排氣風(fēng)扇(省略圖示)，該排氣風(fēng)扇用于抽吸腔30內(nèi)的空氣而使其流入導(dǎo)管45。
[0052]并且，風(fēng)扇部件軸部27的上端與風(fēng)扇部件支承部26中保持工作臺(tái)10所在的一面?zhèn)鹊南喾磦?cè)的面連結(jié)，并且風(fēng)扇部件軸部27從風(fēng)扇部件支承部26朝向豎直方向下方延伸。在所述風(fēng)扇部件支承部26和風(fēng)扇部件軸部27，在軸心附近形成有貫穿插入孔28，該貫穿插入孔28為以比保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17的直徑大的直徑沿豎直方向開(kāi)設(shè)的孔。即，風(fēng)扇部件軸部27形成為圓筒形狀，其上端與風(fēng)扇部件支承部26連結(jié)。從保持工作臺(tái)支承部16朝向下方形成的保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17被插入于貫穿插入孔28中并沿豎直方向延伸。
[0053]支承風(fēng)扇部件20的風(fēng)扇部件支承部26借助由風(fēng)扇部件用馬達(dá)61產(chǎn)生的動(dòng)力而旋轉(zhuǎn)，由此能夠使風(fēng)扇部件20—體旋轉(zhuǎn)。詳細(xì)地講，在風(fēng)扇部件用馬達(dá)61的輸出軸連結(jié)有用于動(dòng)力傳遞的風(fēng)扇部件用驅(qū)動(dòng)側(cè)帶輪62，風(fēng)扇部件用馬達(dá)61被設(shè)置成在風(fēng)扇部件用馬達(dá)61的驅(qū)動(dòng)時(shí)，能夠與風(fēng)扇部件用馬達(dá)61的輸出軸一體地旋轉(zhuǎn)。
[0054]并且，在風(fēng)扇部件軸部27的下端連結(jié)有與風(fēng)扇部件軸部27 —體地旋轉(zhuǎn)的風(fēng)扇部件用從動(dòng)側(cè)帶輪63。與風(fēng)扇部件軸部27同樣地，風(fēng)扇部件用從動(dòng)側(cè)帶輪63在軸心的中心附近以比保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17的直徑大的直徑沿豎直方向開(kāi)設(shè)有孔，保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17還通過(guò)該孔而沿豎直方向延伸。
[0055]在所述風(fēng)扇部件用驅(qū)動(dòng)側(cè)帶輪62和風(fēng)扇部件用從動(dòng)側(cè)帶輪63纏繞有用于雙方的帶輪之間的動(dòng)力傳遞的帶65,由風(fēng)扇部件用馬達(dá)61產(chǎn)生的動(dòng)力能夠經(jīng)由風(fēng)扇部件用驅(qū)動(dòng)側(cè)帶輪62、帶65、風(fēng)扇部件用從動(dòng)側(cè)帶輪63傳遞至風(fēng)扇部件軸部27。風(fēng)扇部件支承部26能夠借助由風(fēng)扇部件用馬達(dá)61產(chǎn)生并傳遞至風(fēng)扇部件軸部27的動(dòng)力，而與風(fēng)扇部件20 —體地旋轉(zhuǎn)。
[0056]并且，在腔30的內(nèi)側(cè)設(shè)置有隔壁部40，隔壁部40將配設(shè)有保持工作臺(tái)10的一側(cè)的空間和配設(shè)有保持工作臺(tái)用馬達(dá)60及風(fēng)扇部件用馬達(dá)61的一側(cè)的空間分隔開(kāi)。
[0057]隔壁部40形成為環(huán)形形狀，其位于風(fēng)扇部件支承部26的保持工作臺(tái)支承部16所在的一側(cè)的相反側(cè)，隔壁部40的外周部分與腔30的側(cè)壁34的內(nèi)周面連結(jié)。
[0058]在隔壁部40設(shè)置有孔部41，孔部41在腔30的軸心附近具有以比風(fēng)扇部件軸部27的直徑大的直徑沿豎直方向開(kāi)設(shè)的孔?？撞?1形成為圓筒形狀，從而在內(nèi)側(cè)具有孔，風(fēng)扇部件軸部27通過(guò)孔部41的內(nèi)側(cè)的孔沿豎直方向延伸。并且，孔部41從隔壁部40向豎直方向上方突出，孔部41的上端位于風(fēng)扇部件支承部26的附近下方。即，孔部41以覆蓋風(fēng)扇部件軸部27的周圍的方式從隔壁部40設(shè)置到風(fēng)扇部件支承部26的附近。
[0059]在隔壁部40的配設(shè)有保持工作臺(tái)用馬達(dá)60和風(fēng)扇部件用馬達(dá)61的空間側(cè)的面，設(shè)置有軸承支承部件42。軸承支承部件42被設(shè)置成從隔壁部40朝向風(fēng)扇部件軸部27的方向，軸承支承部件42在風(fēng)扇部件軸部27側(cè)的端部支承風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部軸承68。風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部軸承68是將風(fēng)扇部件軸部27支承成能夠旋轉(zhuǎn)的軸承，軸承支承部件42支承該風(fēng)扇部件軸部27用的軸承即風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部軸承68。
[0060]而且，在該隔壁部40和風(fēng)扇部件支承部26形成有用于將清洗水的一部分排出的排水孔。具體地說(shuō)，在風(fēng)扇部件支承部26中，在風(fēng)扇部件支承部26的外周附近、即連結(jié)有葉片21的部分附近，形成有沿豎直方向貫通該風(fēng)扇部件支承部26的孔，利用該孔形成排水孔29。并且，在隔壁部40中，在隔壁部40的外周附近形成有沿豎直方向貫通該隔壁部40的孔，并利用該孔形成排水孔43。
[0061]該實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I如上那樣構(gòu)成，下面，對(duì)其作用進(jìn)行說(shuō)明。在利用旋轉(zhuǎn)清洗裝置I進(jìn)行晶片W的清洗時(shí)，使清洗水噴射構(gòu)件50以軸部56為中心轉(zhuǎn)動(dòng)，使清洗水噴射構(gòu)件50移動(dòng)至相對(duì)于開(kāi)口部33在豎直方向上不重疊的位置即退避位置。此時(shí)，通過(guò)使升降部55上升，從而在使清洗水噴射構(gòu)件50整體向上方移動(dòng)而使得清洗水噴嘴51位于比腔30的上表面部31靠上方的位置的狀態(tài)下，使清洗水噴射構(gòu)件50移動(dòng)至退避位置。
[0062]接下來(lái)，進(jìn)行加工并將清洗前的晶片W從開(kāi)口部33放入腔30內(nèi)，并載置于保持工作臺(tái)10的保持面11上。保持工作臺(tái)10通過(guò)使晶片W和保持面11之間為負(fù)壓來(lái)吸附晶片W，并且，利用夾緊裝置12保持對(duì)晶片W進(jìn)行保持的框架，由此將晶片W保持在保持面11上。而且，使抽吸腔30內(nèi)的空氣的排氣風(fēng)扇動(dòng)作而經(jīng)由導(dǎo)管45將腔30內(nèi)的空氣排出到外部，由此進(jìn)行清洗的準(zhǔn)備。
[0063]在該狀態(tài)下，通過(guò)使保持工作臺(tái)用馬達(dá)60動(dòng)作，使保持工作臺(tái)10與保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸17及保持工作臺(tái)支承部16 —體地旋轉(zhuǎn)，使保持工作臺(tái)10例如以大約800rpm的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)。并且，也使風(fēng)扇部件用馬達(dá)61動(dòng)作，將由風(fēng)扇部件用馬達(dá)61產(chǎn)生的動(dòng)力經(jīng)由帶65傳遞至風(fēng)扇部件軸部27，使風(fēng)扇部件20與風(fēng)扇部件軸部27及風(fēng)扇部件支承部26 —體地旋轉(zhuǎn)。關(guān)于此時(shí)的旋轉(zhuǎn)方向，向利用傾斜的葉片21的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生從風(fēng)扇部件20的內(nèi)側(cè)朝向外側(cè)的氣流的方向，以旋轉(zhuǎn)軸線為中心旋轉(zhuǎn)。
[0064]由此，構(gòu)成風(fēng)扇部件20的各葉片21產(chǎn)生從風(fēng)扇部件20的形狀即圓環(huán)形狀的內(nèi)側(cè)向外側(cè)方向流動(dòng)的氣流，使保持工作臺(tái)10的上部的空氣向風(fēng)扇部件20的圓環(huán)形狀的外側(cè)流動(dòng)。這樣，風(fēng)扇部件20利用風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部25進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此在保持工作臺(tái)10的上部、且從風(fēng)扇部件20的圓環(huán)形狀內(nèi)周部36向風(fēng)扇部件20的外周部37產(chǎn)生空氣流動(dòng)。
[0065]通過(guò)使保持工作臺(tái)10和風(fēng)扇部件20旋轉(zhuǎn)而完成清洗晶片W的準(zhǔn)備后，使清洗水噴射構(gòu)件50以軸部56為中心轉(zhuǎn)動(dòng)，由此使清洗水噴嘴51位于由保持工作臺(tái)10保持的晶片W的上方。進(jìn)而，通過(guò)使升降部55下降，使清洗水噴嘴51靠近晶片W。
[0066]在該狀態(tài)下，通過(guò)從清洗水噴嘴51向下方噴出清洗水，從而朝向晶片W噴出清洗水。此時(shí)，在清洗水噴嘴51位于晶片W的上方的范圍內(nèi)，使清洗水噴射構(gòu)件50 —邊以軸部56為中心轉(zhuǎn)動(dòng)一邊噴出清洗水。由于在噴出清洗水時(shí)，保持工作臺(tái)10仍繼續(xù)旋轉(zhuǎn)，因此清洗水被供給到晶片W的整個(gè)上表面，切屑和磨削屑等附著于晶片W的污物成分被清洗水沖走。
[0067]在晶片W的清洗時(shí)，像這樣利用清洗水沖走晶片W的污物成分，因此，在腔30內(nèi)雖然會(huì)產(chǎn)生被該污物成分污染的清洗水和噴霧，但這些清洗水和噴霧被旋轉(zhuǎn)的風(fēng)扇部件20所產(chǎn)生的氣流從晶片W的上方除去。即，被污染的清洗水和噴霧從保持工作臺(tái)10的上方被排出到風(fēng)扇部件20的圓環(huán)形狀的外側(cè)。
[0068]利用抽吸腔30內(nèi)的空氣的排氣風(fēng)扇，使被排出到風(fēng)扇部件20的外側(cè)的清洗水和噴霧與空氣一起穿過(guò)腔30向?qū)Ч?5流動(dòng)，從而從腔30內(nèi)排出。即，風(fēng)扇部件20進(jìn)行旋轉(zhuǎn)而使保持工作臺(tái)10的上部的空氣從風(fēng)扇部件20的圓環(huán)形狀內(nèi)周部36向風(fēng)扇部件20的外周部37流動(dòng)，由此將清洗晶片W時(shí)的清洗水和噴霧強(qiáng)制排出到風(fēng)扇部件20的外部，并導(dǎo)入至導(dǎo)管45。換言之，風(fēng)扇部件20對(duì)位于風(fēng)扇部件20的外周部37側(cè)的空間的空氣施加壓縮力，排氣風(fēng)扇抽吸該空氣，因此，被排出到風(fēng)扇部件20的外周部37側(cè)的清洗水和噴霧借助于該壓縮力和抽吸力，而與位于風(fēng)扇部件20的外周部37側(cè)的空間的空氣一起在腔30內(nèi)流動(dòng)并從導(dǎo)管45排出。
[0069]經(jīng)過(guò)規(guī)定的清洗時(shí)間后，來(lái)自清洗水噴射構(gòu)件50的清洗水的噴射停止，但保持工作臺(tái)10繼續(xù)旋轉(zhuǎn)，利用離心力將附著于晶片W的清洗水甩掉。此時(shí)，使保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)速度上升至大約3000rpm來(lái)增大離心力，迅速甩掉清洗水以使清洗后的晶片W干燥。
[0070]并且，在該干燥過(guò)程中，風(fēng)扇部件20也繼續(xù)旋轉(zhuǎn)，但與保持工作臺(tái)10不同，風(fēng)扇部件20不使旋轉(zhuǎn)速度上升，而是維持與清洗時(shí)的旋轉(zhuǎn)速度相同的旋轉(zhuǎn)速度繼續(xù)旋轉(zhuǎn)。由此，風(fēng)扇部件20產(chǎn)生與清洗時(shí)同樣的氣流，將被晶片W的離心力甩掉的清洗水排出到風(fēng)扇部件20的外部。
[0071]并且，在干燥過(guò)程中，抽吸腔30內(nèi)的空氣的排氣風(fēng)扇也繼續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)，因此被排出到風(fēng)扇部件20的外部的清洗水通過(guò)腔30內(nèi)被導(dǎo)入至導(dǎo)管45。由此，從風(fēng)扇部件20吹飛的清洗水不會(huì)返回晶片W側(cè)而從導(dǎo)管45排出，從而晶片W得以干燥。
[0072]并且，被污染的清洗水中，沒(méi)有被風(fēng)扇部件20排出到外周部37側(cè)的清洗水流到位于保持工作臺(tái)10和保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部15下方的風(fēng)扇部件支承部26上。流到風(fēng)扇部件支承部26上的清洗水被從排水孔29排出，并流向隔壁部40側(cè)。流動(dòng)到隔壁部40側(cè)的清洗水中的一部分借助由風(fēng)扇部件20和排氣風(fēng)扇產(chǎn)生的空氣的流動(dòng)而朝向?qū)Ч?5流動(dòng)，并從導(dǎo)管45排出。并且,未從導(dǎo)管45排出而殘留在隔壁部40上的清洗水從隔壁部40的排水孔43排出。
[0073]經(jīng)過(guò)規(guī)定的干燥時(shí)間后，停止保持工作臺(tái)10和風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)，清洗水噴射構(gòu)件50返回到退避位置。然后，解除保持工作臺(tái)10對(duì)晶片W的保持，將晶片W從保持工作臺(tái)10取上來(lái)并移向下一工序。
[0074]以上的實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I設(shè)置了風(fēng)扇部件20，所述風(fēng)扇部件20形成為圓環(huán)形狀并利用沿圓周方向排列的多個(gè)葉片21覆蓋圍繞保持工作臺(tái)10的外周空間，利用風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部25使風(fēng)扇部件20旋轉(zhuǎn)，由此能夠在保持工作臺(tái)10的上部從風(fēng)扇部件20的圓環(huán)形狀內(nèi)周部36側(cè)向外周部37產(chǎn)生空氣流動(dòng)。由此，能夠從晶片W的上方強(qiáng)制排出清洗時(shí)的清洗水和噴霧，并導(dǎo)入至導(dǎo)管45。其結(jié)果為，在旋轉(zhuǎn)清洗中，能夠防止清洗時(shí)被污染的噴霧和清洗水再次附著到晶片W。
[0075]并且，能夠使風(fēng)扇部件20與保持工作臺(tái)10獨(dú)立地旋轉(zhuǎn)，因此在晶片W的清洗時(shí)和干燥時(shí)，能夠使保持工作臺(tái)10和風(fēng)扇部件20分別以與所需相應(yīng)的適當(dāng)?shù)霓D(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。例如，在晶片W的清洗過(guò)程中，即使在使保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)速度階段性地變化的情況下，也能夠使風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)速度恒定，從而能夠使由風(fēng)扇部件20產(chǎn)生的向外側(cè)方向的抽吸力恒定。其結(jié)果為，能夠防止清洗時(shí)被污染的噴霧和清洗水再次附著到晶片W，并且能夠提高晶片W的清洗性能和干燥性能。
[0076][實(shí)施方式2]
[0077]實(shí)施方式2的旋轉(zhuǎn)清洗裝置70是與實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I大致相同的結(jié)構(gòu)，但在保持工作臺(tái)兼作為風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部這一點(diǎn)上具有特征。其他結(jié)構(gòu)與實(shí)施方式I相同，因此省略其說(shuō)明并標(biāo)以相同的標(biāo)號(hào)。
[0078]圖3是實(shí)施方式2的旋轉(zhuǎn)清洗裝置的剖視圖。與實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I同樣地，本實(shí)施方式2的旋轉(zhuǎn)清洗裝置70具備:保持工作臺(tái)10，其保持晶片W ;保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部71，其使保持工作臺(tái)10旋轉(zhuǎn)；以及清洗水噴射構(gòu)件50，其朝向晶片W上噴射清洗水，旋轉(zhuǎn)清洗裝置70還具備腔30，腔30收納保持工作臺(tái)10并在側(cè)壁34配設(shè)有導(dǎo)管45。其中，保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部71具有:保持工作臺(tái)支承部72，其支承保持工作臺(tái)10 ;保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸73，其使保持工作臺(tái)支承部72以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及馬達(dá)78，其為保持工作臺(tái)10旋轉(zhuǎn)時(shí)的動(dòng)力源。
[0079]并且，與實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I同樣地，本實(shí)施方式2的旋轉(zhuǎn)清洗裝置70具備由在保持工作臺(tái)10的周圍配置的多個(gè)葉片21構(gòu)成的風(fēng)扇部件20。該風(fēng)扇部件20與實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I不同，該風(fēng)扇部件20連結(jié)并支承于保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部71所具有的保持工作臺(tái)支承部72。S卩，風(fēng)扇部件20固定于保持工作臺(tái)支承部72的外周，保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部71兼用作使風(fēng)扇部件20以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部75。因此，風(fēng)扇部件20隨著保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)。詳細(xì)地講，對(duì)于構(gòu)成風(fēng)扇部件20的多個(gè)葉片21，各葉片21的下端部與保持工作臺(tái)支承部72中連結(jié)有保持工作臺(tái)10的面即上表面連結(jié)。
[0080]并且，保持工作臺(tái)支承部72形成為直徑比腔30的開(kāi)口部33的直徑大，因此，葉片21從保持工作臺(tái)支承部72朝向腔30的上表面部31延伸。而且，葉片21的上端位于比腔30的折回部32的下端靠上方的位置。由此，具有多個(gè)葉片21的風(fēng)扇部件20包括從保持工作臺(tái)10的保持面11即保持工作臺(tái)10的表面位置沿豎直方向至腔30的開(kāi)口部33所在的部分為止的空間在內(nèi)，覆蓋了在以保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)軸線為中心的周向上圍繞保持工作臺(tái)10的外周空間，風(fēng)扇部件20整體上形成為圓環(huán)形狀。
[0081]并且，風(fēng)扇部件20的葉片21的上端位于比折回部32的下端靠上方的位置，因此，風(fēng)扇部件20與支承該風(fēng)扇部件20的保持工作臺(tái)支承部72 —起將腔30內(nèi)的風(fēng)扇部件20的內(nèi)周側(cè)的空間和外周側(cè)的空間大致隔離開(kāi)。
[0082]該實(shí)施方式2的旋轉(zhuǎn)清洗裝置70如上那樣構(gòu)成，下面，對(duì)其作用進(jìn)行說(shuō)明。在利用旋轉(zhuǎn)清洗裝置70進(jìn)行晶片W的清洗時(shí)，在利用保持工作臺(tái)10的保持面11保持清洗前的晶片W的狀態(tài)下，使抽吸腔30內(nèi)的空氣的排氣風(fēng)扇動(dòng)作而經(jīng)由導(dǎo)管45將腔30內(nèi)的空氣排出到外部，由此進(jìn)行清洗的準(zhǔn)備。
[0083]在該狀態(tài)下,通過(guò)使馬達(dá)78動(dòng)作,使保持工作臺(tái)10與保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)軸73及保持工作臺(tái)支承部72 —體地旋轉(zhuǎn)，使保持工作臺(tái)10例如以大約800rpm的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)。并且，通過(guò)保持工作臺(tái)支承部72這樣旋轉(zhuǎn)，風(fēng)扇部件20也旋轉(zhuǎn)。即，風(fēng)扇部件20與保持工作臺(tái)10 —體地旋轉(zhuǎn)。在保持工作臺(tái)10旋轉(zhuǎn)時(shí)，風(fēng)扇部件20也與保持工作臺(tái)10 —起旋轉(zhuǎn)，由此風(fēng)扇部件20在保持工作臺(tái)10的上部且從風(fēng)扇部件20的圓環(huán)形狀內(nèi)周部36向風(fēng)扇部件20的外周部37產(chǎn)生空氣流動(dòng)。
[0084]在通過(guò)使保持工作臺(tái)10和風(fēng)扇部件20旋轉(zhuǎn)而完成清洗晶片W的準(zhǔn)備后，使清洗水噴射構(gòu)件50動(dòng)作，使清洗水噴嘴51位于晶片W的上方且靠近晶片W。在該狀態(tài)下，一邊使清洗水噴射構(gòu)件50轉(zhuǎn)動(dòng)，一邊從清洗水噴嘴51朝向晶片W噴出清洗水，由此利用清洗水沖洗附著于晶片W的切屑和磨削屑等污物成分。
[0085]清洗晶片W時(shí)的被污染的清洗水和噴霧借助于旋轉(zhuǎn)的風(fēng)扇部件20所產(chǎn)生的氣流而從保持工作臺(tái)10的上方排出到風(fēng)扇部件20的圓環(huán)形狀的外側(cè)，從而被從晶片W的上方除去。利用抽吸腔30內(nèi)的空氣的排氣風(fēng)扇，使被排出到風(fēng)扇部件20外側(cè)的清洗水和噴霧與空氣一起通過(guò)腔30而流向?qū)Ч?5，從而從腔30內(nèi)排出。
[0086]經(jīng)過(guò)規(guī)定的清洗時(shí)間后，來(lái)自清洗水噴射構(gòu)件50的清洗水的噴射停止，通過(guò)使保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)速度上升來(lái)增大離心力，迅速甩掉清洗水以使晶片W干燥。在該情況下，與保持工作臺(tái)支承部72連結(jié)的風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)速度也上升，因此由風(fēng)扇部件20產(chǎn)生的氣流也變得比清洗時(shí)強(qiáng)。由此，借助晶片W的離心力甩掉的清洗水被該變強(qiáng)的氣流猛烈地排出到風(fēng)扇部件20的外部。
[0087]被排出到風(fēng)扇部件20的外部的清洗水從導(dǎo)管45排出，從風(fēng)扇部件20吹飛的清洗水不會(huì)返回晶片W側(cè)，因此晶片W得以干燥。經(jīng)過(guò)規(guī)定的干燥時(shí)間后，停止保持工作臺(tái)10和風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)，清洗水噴射構(gòu)件50回到退避位置，將晶片W從保持工作臺(tái)10取上來(lái)并移向下一工序。
[0088]在以上的實(shí)施方式2的旋轉(zhuǎn)清洗裝置70中，風(fēng)扇部件20固定于保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部71，保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部71兼用作風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部75，因此不用新設(shè)置用于將風(fēng)扇部件20支承成能夠旋轉(zhuǎn)的部件或機(jī)構(gòu)，就能夠使風(fēng)扇部件20旋轉(zhuǎn)。由此，能夠在不使結(jié)構(gòu)復(fù)雜化的情況下，設(shè)置用于產(chǎn)生從晶片W的上方向外側(cè)方向的氣流的風(fēng)扇部件20。其結(jié)果為，能夠抑制防止被污染的噴霧和清洗水再次附著到晶片時(shí)的制造成本。
[0089][變形例]
[0090]另外，在實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I中，在清洗了晶片W后的干燥時(shí)，保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)速度比清洗時(shí)的旋轉(zhuǎn)速度高，相對(duì)于此，以使風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)速度為與清洗時(shí)的旋轉(zhuǎn)速度相同的旋轉(zhuǎn)速度的方式進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，但在干燥時(shí)也可以使風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)速度變化。例如，在干燥時(shí)，也可以使風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)速度與保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)速度大致相等，或者使風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)速度比保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)速度高。
[0091]并且，在實(shí)施方式I的旋轉(zhuǎn)清洗裝置I中，能夠使風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)速度相對(duì)于保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)速度獨(dú)立地變化，因此在晶片W的清洗時(shí)和干燥時(shí)，也可以與保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)速度無(wú)關(guān)地，根據(jù)需要而使風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)速度變化。并且，風(fēng)扇部件20的旋轉(zhuǎn)方向可以是相對(duì)于保持工作臺(tái)10的旋轉(zhuǎn)方向相同的方向以外的方向，也可以向相反方向旋轉(zhuǎn)。風(fēng)扇部件20根據(jù)晶片W的尺寸和清洗時(shí)的溫度等設(shè)定旋轉(zhuǎn)速度和旋轉(zhuǎn)方向，由此能夠從保持工作臺(tái)10的上方更適當(dāng)?shù)嘏懦霰晃廴镜那逑此蛧婌F。
【權(quán)利要求】
1.一種旋轉(zhuǎn)清洗裝置，其具有:圓盤形狀的保持工作臺(tái)，其保持板狀物；保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部，其使該保持工作臺(tái)以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及清洗水噴射構(gòu)件，其朝向保持于該保持工作臺(tái)的上表面的所述板狀物上噴射清洗水，所述旋轉(zhuǎn)清洗裝置的特征在于，其具備: 圓筒形狀的腔，其收納所述保持工作臺(tái)，并且所述腔的上表面開(kāi)口 ； 導(dǎo)管，其配設(shè)于該腔的側(cè)壁，用于從該腔內(nèi)將氣體排出； 風(fēng)扇部件，其形成為圓環(huán)形狀，并在清洗時(shí)覆蓋從該保持工作臺(tái)的表面位置到該腔的開(kāi)口部為止的圍繞該保持工作臺(tái)的外周空間；以及 風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部，其使該風(fēng)扇部件以豎直方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)， 該風(fēng)扇部件利用該風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此在該保持工作臺(tái)的上部且從該風(fēng)扇部件的該圓環(huán)形狀的內(nèi)周部向該風(fēng)扇部件的外周部產(chǎn)生空氣流動(dòng)，將清洗時(shí)的清洗水和噴霧強(qiáng)制排出到該風(fēng)扇部件的外部并導(dǎo)入至該導(dǎo)管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)清洗裝置，其特征在于， 所述風(fēng)扇部件固定于所述保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部的外周，該保持工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)部兼作為該風(fēng)扇部件旋轉(zhuǎn)部，該風(fēng)扇部件隨著該保持工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)。
【文檔編號(hào)】B08B13/00GK104289463SQ201410335934
【公開(kāi)日】2015年1月21日 申請(qǐng)日期:2014年7月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月18日
【發(fā)明者】中西優(yōu)爾 申請(qǐng)人:株式會(huì)社迪思科