專利名稱：清洗結(jié)構(gòu)及清洗設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種清洗結(jié)構(gòu)及清洗設(shè)備。
背景技術(shù)：
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜場效應(yīng)晶體管-液晶顯示器)的生產(chǎn)過程中清洗工藝是最重要的工藝之一。在顯影(Wioto)工程中， 在曝光之前和之后需要對(duì)玻璃基板進(jìn)行清洗，并且在濕法刻蝕和顯影膠(Photo Resist)剝離工程的后續(xù)都需涉及到清洗工藝。目前的清洗結(jié)構(gòu)大致有噴淋(Nozzle Spray)、二流體以及高壓噴淋。噴淋、二流體、高壓噴淋都是將液體垂直噴淋到待清洗的玻璃基板進(jìn)行，然而玻璃基板上的污漬，尤其是微粒(particle)，由于其自身體積較小(小到Ium以下)，而微粒與玻璃基板之間存在靜電問題使得微粒很難從玻璃基板上清除，導(dǎo)致玻璃基板經(jīng)過清洗工藝之后仍然殘留有微粒等污漬。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種清洗結(jié)構(gòu)及清洗設(shè)備，解決了現(xiàn)有技術(shù)中玻璃基板經(jīng)過清洗工藝之后仍然殘留有微粒等污漬的問題。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案一方面，提供了一種清洗結(jié)構(gòu)，包括用于旋轉(zhuǎn)的中心部件，所述中心部件連接有用于驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)部件；所述中心部件上沿旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的面上均勻設(shè)置有多個(gè)出水口，所述出水口與清洗條的進(jìn)水口連接，所述清洗條上由所述進(jìn)水口向所述清洗條另一端延伸的方向設(shè)置有多個(gè)狹縫噴嘴，所述狹縫噴嘴的出水口與待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夾角。具體的，為了簡便中心部件的結(jié)構(gòu)，所述中心部件可以為中心管道。具體的，為了簡便清洗條的結(jié)構(gòu)，所述清洗條包括子管道，所述子管道的一端為進(jìn)水口，所述子管道的另一端為密封端體。為了保證所述狹縫噴嘴對(duì)待清洗基板上施力均衡，所述狹縫噴嘴均勻分布在所述子管道上。為了達(dá)到更大的水流沖擊力，所述驅(qū)動(dòng)部件驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述中心部件的旋轉(zhuǎn)方向與所述狹縫噴嘴的傾斜方向一致。另一方面，還提供了一種清洗設(shè)備，包括泵管道與清洗結(jié)構(gòu)，所述泵管道的出水口與所述清洗結(jié)構(gòu)的進(jìn)水口連接，所述清洗結(jié)構(gòu)包括用于旋轉(zhuǎn)的中心部件，所述中心部件連接有用于驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)部件；所述中心部件上沿旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的面上均勻設(shè)置有多個(gè)出水口，所述出水口與清洗條的進(jìn)水口連接，所述清洗條上由所述進(jìn)水口向所述清洗條另一端延伸的方向設(shè)置有多個(gè)狹縫噴嘴，所述狹縫噴嘴的出水口與待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夾角。[0012]具體的，為了簡便中心部件的結(jié)構(gòu)，所述中心部件可以為中心管道。具體的，為了簡便清洗條的結(jié)構(gòu)，所述清洗條包括子管道，所述子管道的一端為進(jìn)水口，所述子管道的另一端為密封端體。為了保證所述狹縫噴嘴對(duì)待清洗基板上施力均衡，所述狹縫噴嘴均勻分布在所述子管道上。為了達(dá)到更大的水流沖擊力，所述驅(qū)動(dòng)部件驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述中心部件的旋轉(zhuǎn)方向與所述狹縫噴嘴的傾斜方向一致。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗結(jié)構(gòu)及清洗設(shè)備，由于清洗條安裝在可旋轉(zhuǎn)的中心部件上且清洗條上的狹縫噴嘴與待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夾角，使得與中心部件之間距離不同的狹縫噴嘴其線速度不同以使得不同沖擊力的水到達(dá)待清洗玻璃基板的表面，以達(dá)到更好的清洗效果，解決了現(xiàn)有技術(shù)中玻璃基板經(jīng)過清洗工藝之后仍然殘留有微粒等污漬的問題。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1所示的清洗結(jié)構(gòu)中清洗條的剖面圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種清洗結(jié)構(gòu)及清洗設(shè)備，解決了現(xiàn)有技術(shù)中玻璃基板經(jīng)過清洗工藝之后仍然殘留有微粒等污漬的問題。
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例提供的顯示裝置進(jìn)行詳細(xì)描述。如圖1所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗結(jié)構(gòu)，包括用于旋轉(zhuǎn)的中心部件11，所述中心部件11連接有用于驅(qū)動(dòng)所述中心部件11旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)部件12 ；所述中心部件11上沿旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的面上均勻設(shè)置有多個(gè)出水口，所述出水口與清洗條13的進(jìn)水口連接，所述清洗條13上由所述進(jìn)水口向所述清洗條另一端延伸的方向設(shè)置有多個(gè)狹縫噴嘴14，如圖2 所示，所述狹縫噴嘴14的出水口與待清洗的玻璃基板15的垂直方向存在夾角。具體的，為了簡便中心部件的結(jié)構(gòu)，所述中心部件可以為中心管道。具體的，為了簡便清洗條的結(jié)構(gòu)，所述清洗條包括子管道，所述子管道的一端為進(jìn)水口，所述子管道的另一端為密封端體。值得說明的是，所述子管道可以是聚氯乙烯 (Polyvinylchloride, PVC)材料的管道。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗結(jié)構(gòu)，由于清洗條安裝在可旋轉(zhuǎn)的中心部件上且清洗條上的狹縫噴嘴與待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夾角，使得與中心部件之間距離不同的狹縫噴嘴其線速度不同以使得不同沖擊力的水到達(dá)待清洗玻璃基板的表面，以達(dá)到更好的清洗效果，解決了現(xiàn)有技術(shù)中玻璃基板經(jīng)過清洗工藝之后仍然殘留有微粒等污漬的問題。為了保證所述狹縫噴嘴對(duì)待清洗基板上施力均衡，所述狹縫噴嘴均勻分布在所述子管道上。為了達(dá)到更大的水流沖擊力，所述驅(qū)動(dòng)部件驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述中心部件的旋轉(zhuǎn)方向與所述狹縫噴嘴的傾斜方向一致。如圖3所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗設(shè)備，包括泵管道31與如圖1和2所示的清洗結(jié)構(gòu)32，所述泵管道的出水口與所述清洗結(jié)構(gòu)的進(jìn)水口連接。所述清洗結(jié)構(gòu)的具體結(jié)構(gòu)與上述實(shí)施例相同，此處不再贅述。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗設(shè)備，由于清洗條安裝在可旋轉(zhuǎn)的中心部件上且清洗條上的狹縫噴嘴與待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夾角，使得與中心部件之間距離不同的狹縫噴嘴其線速度不同以使得不同沖擊力的水到達(dá)待清洗玻璃基板的表面，以達(dá)到更好的清洗效果，解決了現(xiàn)有技術(shù)中玻璃基板經(jīng)過清洗工藝之后仍然殘留有微粒等污漬的問題。為了保證所述狹縫噴嘴對(duì)待清洗基板上施力均衡，所述狹縫噴嘴均勻分布在所述子管道上。為了達(dá)到更大的水流沖擊力，所述驅(qū)動(dòng)部件驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述中心部件的旋轉(zhuǎn)方向與所述狹縫噴嘴的傾斜方向一致。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗結(jié)構(gòu)及清洗設(shè)備可以應(yīng)用在清洗工藝中。以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括用于旋轉(zhuǎn)的中心部件，所述中心部件連接有用于驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)部件；所述中心部件上沿旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的面上均勻設(shè)置有多個(gè)出水口，所述出水口與清洗條的進(jìn)水口連接，所述清洗條上由所述進(jìn)水口向所述清洗條另一端延伸的方向設(shè)置有多個(gè)狹縫噴嘴，所述狹縫噴嘴的出水口與待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夾角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述中心部件為中心管道。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述清洗條包括子管道，所述子管道的一端為進(jìn)水口，所述子管道的另一端為密封端體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述狹縫噴嘴均勻分布在所述子管道上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)部件驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述中心部件的旋轉(zhuǎn)方向與所述狹縫噴嘴的傾斜方向一致。
6.一種清洗設(shè)備，包括泵管道與清洗結(jié)構(gòu)，所述泵管道的出水口與所述清洗結(jié)構(gòu)的進(jìn)水口連接，其特征在于所述清洗結(jié)構(gòu)包括用于旋轉(zhuǎn)的中心部件，所述中心部件連接有用于驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)部件；所述中心部件上沿旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的面上均勻設(shè)置有多個(gè)出水口，所述出水口與清洗條的進(jìn)水口連接，所述清洗條上由所述進(jìn)水口向所述清洗條另一端延伸的方向設(shè)置有多個(gè)狹縫噴嘴，所述狹縫噴嘴的出水口與待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夾角。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗設(shè)備，其特征在于，所述中心部件為中心管道。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗條包括子管道，所述子管道的一端為進(jìn)水口，所述子管道的另一端為密封端體。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清洗設(shè)備，其特征在于，所述狹縫噴嘴均勻分布在所述子管道上。
10.根據(jù)權(quán)利要求6-9任一項(xiàng)所述的清洗設(shè)備，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)部件驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述中心部件的旋轉(zhuǎn)方向與所述狹縫噴嘴的傾斜方向一致。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種清洗結(jié)構(gòu)及清洗設(shè)備，涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，能夠解決的現(xiàn)有技術(shù)中玻璃基板經(jīng)過清洗工藝之后仍然殘留有微粒等污漬的問題。本實(shí)用新型提供的清洗設(shè)備，包括泵管道與清洗結(jié)構(gòu)，所述泵管道的出水口與所述清洗結(jié)構(gòu)的進(jìn)水口連接，所述清洗結(jié)構(gòu)包括用于旋轉(zhuǎn)的中心部件，所述中心部件連接有用于驅(qū)動(dòng)所述中心部件旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)部件；所述中心部件上沿旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的面上均勻設(shè)置有多個(gè)出水口，所述出水口與清洗條的進(jìn)水口連接，所述清洗條上由所述進(jìn)水口向所述清洗條另一端延伸的方向設(shè)置有多個(gè)狹縫噴嘴，所述狹縫噴嘴的出水口與待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夾角。本實(shí)用新型可以應(yīng)用清洗工藝中。
文檔編號(hào)B08B3/02GK202316390SQ201120468228
公開日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2011年11月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月22日
發(fā)明者吳代吾, 周伯柱, 楊子衡, 王世凱, 王建偉, 鄭載潤 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司