專利名稱：：使用研磨劑的粉末顆粒的制備方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及使用研磨劑的粉末顆粒的制備方法。
背景技術：
：(Bottomup)法；和通過將大塊粉碎，生成微粒的自上而下法(Topdown)兩種，從低成本、大量生產(chǎn)性優(yōu)異角度考慮，大多使用自上而下法。通過自上而下法獲得微粒的方法之一是使用介質(zhì)進行粉碎的介質(zhì)粉碎法。例如，在使用陶瓷制的球等作為介質(zhì)的球磨機中，向容器內(nèi)添加氧化鋯等粉碎球、被粉碎物、溶劑、以及根據(jù)需要的分散劑等，通過使容器旋轉(zhuǎn)，使粉碎球運動，通過粉碎球之間(作用點)產(chǎn)生的剪切力進行粉碎。因此，粉碎球的粒徑越大、球的重量越重，在作用點上產(chǎn)生的剪切力增大，在作用點上可進行充分的粉碎。另一方面，粉碎球的粒徑越小，則作用點的數(shù)目增加，因此可有效進行粉碎。但是，存在以下問題為了使粉碎球的重量增加而增大粉碎球的粒徑，則作用點的數(shù)目減少；相反，為了使作用點增加而減小粉碎球的粒徑，則作用點的剪切力變小。因此，通過使用密度盡量高的物質(zhì)的粉碎球，可以同時實現(xiàn)保持剪切力和作用點數(shù)目增加兩者。但是，玻璃顆粒等具有非晶結構的物質(zhì)難以通過4分碎獲得粒徑為0.7/mi以下的顆粒。因此，為了更有效地獲得微粒的粉碎方法，有人提出了使用由多種粒徑構成的粉碎球作為研磨劑的方案，具體來說，在水平圓筒型混合法中，將相對于被粉碎的顆粒的直徑為10~100倍和100~1000倍的兩種以上不同尺寸的球混合使用，進行粉碎，可以獲得微米級的粉末顆粒(參照專利文獻1)。但是，上述方法無法獲得亞微米級的粒徑。專利文獻1:日本特開平9-253517號7>報(權利要求1等)
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明所要解決的課題本發(fā)明的目的在于提供雖然為非晶結構，但具有亞微米級的平均粒徑的顆粒的制備方法。解決課題的方法即，本發(fā)明涉及粉末顆粒的制備方法，其是使用多種研磨劑對被粉碎物進行粉碎來獲得粉末顆粒的粉末顆粒的制備方法，其中，使用含有相對于被粉碎物粉碎前的平均粒徑具有0.01~5倍平均粒徑的至少一種(研磨劑A)和具有10~450倍平均粒徑的至少一種(研磨劑B)的研磨劑。需要說明的是，本發(fā)明中，被粉碎物和研磨劑A的平均粒徑是指算術平均粒徑。研磨劑B的平均粒徑是指累積50。/。粒徑(D50),這表示在以一個粉體集團的總體積為100%、求出體積累積曲線時，該體積累積曲線為50%的點的粒徑。發(fā)明效果本發(fā)明可以制備被粉碎物雖然為非晶結構，但也具有亞微米級平均粒徑的顆粒。附圖筒述圖1是通過以往的方法粉碎的堿系玻璃的SEM照片。圖2是通過本發(fā)明的方法粉碎的堿系玻璃的SEM照片。實施發(fā)明的最佳方式本發(fā)明是在使用多種介質(zhì)制備粉末顆粒時，介質(zhì)的一種是使用相對于被粉碎物粉碎前的平均粒徑具有0.01-5倍平均粒徑的微小的研磨劑(研磨劑A),另外一種是使用具有10~450倍平均粒徑的施加載荷的研磨劑(研磨劑B)。使用介質(zhì)對被破碎物進行粉碎時，可使用球磨機、珠磨機、行星式球磨機等，研磨劑A、研磨劑B可使用粉碎球或粉碎珠等。這些粉碎球或粉碎珠通常可使用含有瑪瑙、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、不銹鋼、鉻鋼和碳化鎢等的材料。從密度大和堅硬的角度考慮，優(yōu)選氧化鋯。研磨劑A除上述氧化鋁或氧化鈦等常規(guī)粉碎球或粉碎珠之外，還可以使用含有二氧化硅、氧化鋯、三氧化二釔、鈰土、氧化鎂、氧化鋅、氧化錳、氧化銅、氧化鐵、氧化鈥、氧化鉛、氧化錫等氧化物，或載荷軟化點比燒結溫度高的高載荷軟化點玻璃的材料。特別優(yōu)選與被粉碎物一起構成之后所使用的材料、與被粉碎物一起構成組合物的材料。例如，被粉碎物為后述的場致發(fā)射顯示器用糊劑等中使用的低載荷軟化點玻璃時，研磨劑可以是在該糊劑中可作為填料成分使用的氧化物或高載荷軟化點玻璃等。該方案是在粉碎被粉碎物時發(fā)揮介質(zhì)的作用，無需除去介質(zhì)即可以與組合物混合，之后可以發(fā)揮填料成分的作用。根據(jù)上述例子，粉碎時，用于將被粉碎物的低載荷軟化點玻璃粉碎至亞微米級的大小的研磨劑(氧化物或高載荷軟化點玻璃等)無需被除去，在制備組合物時可以作為填料成分，因此可以實現(xiàn)步驟的簡略化。使用介質(zhì)粉碎被破碎物時，有將被粉碎物直接加入到上述磨機等中進行粉碎的干式法；以及以被粉碎物分散于溶劑中的溶液狀進行粉碎的濕式法，濕式法可以粉碎至更小的粒徑，因此優(yōu)選。本發(fā)明中，通過使用滿足上述范圍的平均粒徑比的研磨劑A,即，相對于粉碎前的被粉碎物，通過使用比以往所使用的研磨劑小得多的研磨劑A,可以使粉碎的作用點急劇增加。另外，滿足上述范圍的平均粒徑比的研磨劑B是對研磨劑A施加大的載荷，因此，可以產(chǎn)生大的剪切力。需要說明的是，同時使用粒徑不同的研磨劑的技術思想以往已經(jīng)存在，但通常，如果研磨劑的粒徑小則研磨劑之間的剪切力弱，無法表現(xiàn)粉碎的效果，并且，使用粒徑小的研磨劑，則粉碎后的研磨劑與被粉碎物的分離難以進行，因此，通常使用大粒徑的研磨劑。但是，根據(jù)本發(fā)明，通過至少使用上述兩種研磨劑，可以同時獲得粉碎作用點的增加和作用點的剪切力的增加這樣的、在以往的粉碎方法中由于相反而無法獲得的效果，結果，可以獲得具有亞微米級的平均粒徑的顆粒。研磨劑A的上述平均粒徑比比0.01倍小，結果，相對于^皮4分碎物過輕，無法獲得粉碎所必須的剪切力。更優(yōu)選0.1倍以上。而該平均粒徑比5倍大，則作用點少，無法獲得具有亞微米級平均粒徑的顆粒。更優(yōu)選1倍以下。研磨劑B的上述平均粒徑比比IO倍小，結果過輕，難以獲得充分的剪切力。為了更高效地進行粉碎，優(yōu)選100倍以上。另一方面，該平均粒徑比比450倍大，則無法獲得與研磨劑A的充分的作用點，無法獲得具有亞^f效米級平均粒徑的顆粒。為了更高效地進行粉碎，優(yōu)選300倍以下。被粉碎物或研磨劑A、B的平均粒徑的測定方法有通過光散射裝置等進行測定的方法；由顯微鏡照片的圖像分析進行計算的方法等。但是，通過光散射裝置等的測定中，纟鼓粒如果不發(fā)生二次聚集則沒有問題，但發(fā)生二次聚集時，有難以測定初級顆粒的平均粒徑的問題。因此，本發(fā)明優(yōu)選被粉碎物和研磨劑A的平均粒徑采用由顯微鏡照片的圖像分析計算得到的值。該方法可以求出反映初級顆粒的平均粒徑的值。例如，由通過掃描式電子顯微鏡((抹)日立制作所S4800等)觀察得到的照片中，對在視野內(nèi)可測定長度的顆粒測定長度，取其平均值。另一方面，研磨劑B的平均粒徑測定方法中，由于幾乎沒有二次聚集，因此優(yōu)選通過光散射裝置等進行測定的方法。例如，可使用粒徑分布測定裝置(日機裝(抹)制造，t<夕口卜，'_y夕(microtrack)9320HRA)測定平均粒徑。被粉碎物和研磨劑可通過維氏硬度進行區(qū)分，維氏硬度最小的作為被粉碎物。維氏硬度可以以試驗力9.807N、按照"精細陶瓷的硬度試驗方法(JISR1610:2003)，，進行測定，可以將5點測定值的平均作為這里所述的維氏硬度使用。而且，優(yōu)選1個研磨劑B的重量比1個研磨劑A的重量重。這可以實現(xiàn)研磨劑B的目的一向研磨劑A施加載荷。并且，以被粉碎物的總體積為1，研磨劑A優(yōu)選以1:0.1~100的范圍添加?；旌衔镏?，研磨劑A的體積比比O.l小，則即使平均粒徑小也無法獲得充分的作用點，比100大則被粉碎物的量過少，所得顆粒的收率低。并且1:0.1~30的范圍可以收率良好地、短時間地實現(xiàn)平均粒徑微細化，因此優(yōu)選。另一方面，以被粉碎物和研磨劑A的總體積為1,則研磨劑B優(yōu)選以1:0.1~100的范圍添加?；旌衔镏?，研磨劑B的體積比比0.1小，則無法實現(xiàn)對研磨劑A施加載荷的目的，比100大，則只有少量的凈皮粉碎物粉碎，效率不高。更優(yōu)選1:2.5-20。需要說明的是，采用濕式法時，優(yōu)選添加至至少被粉碎物、研磨劑A、研磨劑B均浸透在溶劑中。本發(fā)明中，被粉碎物有玻璃、陶瓷、碳系材料、顏料等。本發(fā)明特別適合在被粉碎物為玻璃或陶瓷等無機顆粒的情況下使用。這里，無機顆粒優(yōu)選4分碎前的平均粒徑為0.1~1000〃m。比0.1pm小時，平均粒徑足夠小，因此無需進一步粉碎。需要說明的是，這樣小的粉末顆粒可通過自下而上法生成。而粉碎前的平均粒徑比1000/nn大時，難以獲得可作為研磨劑B使用的氧化鋯等粉碎球，因此不優(yōu)選。本發(fā)明在無機顆粒粉碎前的平均粒徑超過0.7//m但為10/mi以下時特別有效。這是由于，通過以往的粉碎方法也可以實現(xiàn)平均粒徑超過0.7〃m但為10prn以下，但是難以達到0.7/mi以下。例如，載荷軟化點為300500。C的玻璃或比重為2~4的玻璃，如果按照以往的方法粉碎，只形成扁平狀，難以獲得目標的具有亞微米級平均粒徑的顆粒。這是由于，具有上述特性的玻璃中，4分碎時產(chǎn)生粘性，由于該粘性4吏粉碎形狀形成扁平狀，吸收了剪切力。作為具體例子，將載荷軟化點為458°C、比重為2.6、4分碎前的平均粒徑為U〃m的堿系玻璃通過:7卩少f-，-々Z》(抹)制造的行星式球磨機P-5進行粉碎，該例子如圖1、圖2所示。圖l是以碎品醇為溶劑、不使用研磨劑A、使用0.3/mi的氧化鋯珠作為研磨劑B、使玻璃:研磨劑B的混合體積比=1:20時所得的粉末。而圖2是以辟品醇作為溶劑、使用平均粒徑為0.26//m的氧化鈥珠作為研磨劑A、使用0.3/mi的氧化鋯珠作為研磨劑B、使玻璃:研磨劑A:研磨劑B的混合體積比=1:4:20時所得的^^末。'以下，以通過行星式球磨機粉碎低載荷軟化點玻璃、制備粉末顆粒的方案作為例子，具體說明本發(fā)明的方法。首先，將低載荷軟化點玻璃(被粉碎物)、研磨劑A、溶劑、以及根據(jù)需要的分散劑進行稱量、按照規(guī)定混合比混合，得到混合液，通過超聲波照射或勻漿器等進行攪拌。當被粉碎物為低載荷軟化點玻璃時，研磨劑A是準備在之后可作為組合物構成中的填料4吏用的氧化物或高載荷軟化點玻璃。氧化物例如有二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、三氧化二釔、鈰土、氧化鎂、氧化鋅、氧化錳、氧化銅、氧化鐵、氧化鈥、氧化鉛、氧化錫等。研磨劑A可以不是一種，可使用兩種以上，對它們的組合沒有特別限定。溶劑可以使用水、醇、有機溶劑的任意一種，也可以將它們混合使用。但是，粉碎后使溶劑干燥并回收形成粉末顆粒的被粉碎物時，干燥時，被粉碎物之間大多發(fā)生二次聚集。因此，使用在制備的組合物中所使用的溶劑，以糊劑狀態(tài)保存，在下一步驟中不必進行干燥而直接使用，這可以抑制被粉碎物的二次聚集。因此，粉碎后可以選擇無需經(jīng)過干燥步驟的溶劑。分散劑可以使用陰離子性表面活性劑、陽離子性表面活性劑、非離子性表面活性劑、兩親性高分子、梳形高分子等。通過粉碎，顆粒微細化，由于粉碎而出現(xiàn)的新的表面具有活性，因此容易發(fā)生二次聚集。發(fā)生二次聚集，則粉碎的能量被用于二次聚集的解離，因此發(fā)生無法進行進一步使顆粒微細化的現(xiàn)象。但是，如果添加分散劑，則分散劑可以迅速地吸附于活化的表面，可以抑制二次聚集。被粉碎物和研磨劑A的混合液中的合計濃度優(yōu)選為5~40vol%。比5vol。/。小，則被粉碎物的量過少，所得微粒的收率容易降低。比40vol。/。多，則溶液的粘度升高，妨礙被粉碎物、研磨劑A、研磨劑B的運動，難以獲得粉碎所必須的剪切力。更優(yōu)選10~30vol%。接著，將上述被粉碎物、研磨劑A、*劑、溶劑的混合液加入到用氧化鋯等制成的粉碎容器中。然后，以被粉碎物和研磨劑A的總體積為1，按照1:0.1~100的范圍添加用氧化鋯等制成的粉碎球作為研磨劑B。這里，研磨劑B未浸泡在溶劑中時，追加溶劑，直至研磨劑B浸泡在其中。需要說明的是，研磨劑B優(yōu)選與粉碎容器為相同材質(zhì)。以下，將在上述混合液中加入研磨劑B所得的溶液稱為4分碎溶液。將粉碎容器密閉后，安裝在行星式球磨機裝置中，通過以規(guī)定的轉(zhuǎn)數(shù)使容器自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)，使容器內(nèi)的被粉碎物、研磨劑A、研磨劑B運動。當重力加速度為G時，通過自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)，優(yōu)選使施加到研磨劑上的離心力沿粉碎容器側面的垂直方向為1G以上。更優(yōu)選4G以上。比1G小，則4分碎所必須的剪切力未作用于介質(zhì)間的作用點上，難以獲得具有目標亞微米級平均粒徑的顆粒。進行了規(guī)定時間的粉碎后，從,分碎溶液中除去研磨劑B，還可根據(jù)需要除去研磨劑A。研磨劑B可透過濾器除去。粉碎溶液的粘度高、通過濾器除去速度慢時，可通過壓濾或吸濾除去研磨劑B。除去研磨劑A時，可利用密度、溶解度等。研磨劑A和被粉碎物的密度不同時，可通過離心或干燥后的氣流分級進行分離。例如，被粉碎物為低載荷軟化點玻璃時，其密度比作為研磨劑A使用的氧化鋯還小，因此可以采用離心或干燥后的氣流分級的分離方法。研磨劑A與被粉碎物的溶解度不同時，通過只溶解研磨劑也可以分離。例如，被4分碎物不溶解于酸時，研磨劑A使用金屬，則通過用酸溶解金屬，可以除去研磨劑A。由按照以上方法制備的被粉碎物形成的粉末顆?？捎糜谶m合精細加工的組合物中。例如有(l)作為電路材料使用的組合物、或(2)電介質(zhì)或隔壁等在等離子顯示器部件、絕緣層或電子放射層等在場致發(fā)射顯示器部件、絕緣層等在表面?zhèn)鲗惋@示器部件等顯示器部件等中使用的組合物。組合物的成分優(yōu)選含有由本發(fā)明的方法制備的被粉碎物的粉末顆粒、粘合劑樹脂和溶劑。為電路材料或顯示部件時，可以含有填料。本發(fā)明中，組合物可以含有碳系材料。碳系材料例如有碳納米管、碳納米錐、碳納米線圈、富勒烯、炭黑等。而且，將組合物用于場致發(fā)射顯示器時，優(yōu)選含有通過真空中施加電壓可以放射電子的碳納米管、碳納米錐、碳納米線圏。其中，碳納米管與碳納米錐、碳納米線圏相比，電子放射能高，最適合使用。以下，作為含有由本發(fā)明的方法制備的粉末顆粒的組合物的例子，對場致發(fā)射用的碳納米管糊劑進行說明。這里，由上述方法得到的粉末顆粒是玻璃。下稱為CNT)、或玻璃、粘合劑樹脂、溶劑等。'；'、''"、CNT可以使用單層、或者二層、三層等多層CNT。也可以將層數(shù)不同的CNT混合使用。玻璃(上述粉末顆粒)是獲得CNT與陰極基板的貼合性所必須的。這里，例如通過碳納米管糊劑制備直徑3-50/mi圓形圖案時，所使用的玻璃的平均粒徑優(yōu)選50nm700nm。比50nm小，則無法形成牢固的基質(zhì)，比700nm大，則表面凹凸過大，成為電子放射不均的原因。進一步優(yōu)選70rnn~600nm。場致發(fā)射用的碳納米管糊劑中所使用的玻璃的載荷軟化點優(yōu)選為500。C以下。使用載荷軟化點為50(TC以下的玻璃，則作為電子《:射源或隔壁等設置的玻璃基板可以使用鈉玻璃。載荷軟化點超過500。C，則玻璃基板收縮，容易發(fā)生圖案偏移、翹曲、破裂。因此，場致發(fā)射用的碳納米管糊劑中所使用的玻璃優(yōu)選含有45~86重量％Bi203。由此可以使玻璃的載荷軟化點下降至450。C以下。Bi與作為4氐載荷軟化點玻璃的主要成分的Pb相比，毒性顯著低，并且在很多性質(zhì)方面具有類似性，與Pb同樣，可以使玻璃的載荷軟化點降低。Bi203比45重量％少，則降低載荷軟化點的效果小，比86重量％多，則玻璃容易結晶，因此不優(yōu)選。更優(yōu)選70~85重量％。玻璃的載荷軟化點是使用熱機械分析裝置(例如七4:z—4^只少/K林)制造，EXTER6000TMA/SS)對玻璃棒和標準試樣的石英玻璃;唪分別施加10g的載重、以10。C/分鐘由室溫開始升溫而得到的TMA曲線中形成最大長度時的溫度。玻璃粉末中含有45~86重量°/。Bi203即可，對其它組成沒有特別限定。但是，具有45~86重量％的Bi203、0.5~8重量％的Si02、3~25重量％的B203以及0~25重量％的ZnO，這在玻璃的穩(wěn)定性和載荷軟化點的容易控制的角度考慮優(yōu)選。通過使Si02的含量為0.5~8重量％,可以使玻璃的穩(wěn)定性提高。比0.5重量％少，則效果不充分，比8重量°/。多，則玻璃的載荷軟化點過高。更優(yōu)選0.5~2重量％。通過使8203的含量為3~25重量％，也可以使玻璃的穩(wěn)定性提高。比3重量％少，則效果不充分，比25重量％多則玻璃的載荷軟化點過高。更優(yōu)選3~10重量％。也可以不含有ZnO,但通過使含有最高至25重量％，可以使載荷軟化點降低。比25重量％多，則玻璃容易結晶，因此不優(yōu)選。更優(yōu)選5~15重量％。除此之外可以含有A1203、Na20、CaO、MgO、CeO、K20等。玻璃的組成成分可如下進行分析。首先，通過熒光X射線分析裝置(例如(抹)堀場制作所制造，能量分散型熒光x射線分析裝置MESA-500)進行無機定性分析。接著，對于檢測出的元素，可通過ICP發(fā)光分析裝置(例如SIInanotechnology(4朱)制造，ICP發(fā)光分析裝置SPS3000)進行定量分析，確定組成。需要說明的是，在熒光X射線分析法中，還對在理論上無法檢測的元素(Li、B)和靈敏度差的元素(Na、Mg等)進行研究，如果是主要成分，則一并通過ICP發(fā)光分析裝置進行定量。場致發(fā)射用碳納米管糊劑中所使用的粘合劑樹脂有纖維素系樹脂(乙基纖維素、曱基纖維素、硝基纖維素、乙酰基纖維素、纖維素丙酸酯、羥丙基纖維素、丁基纖維素、千基纖維素、改性纖維素等)、丙烯酸酯系樹脂(含有丙烯酸、曱基丙烯酸、丙烯酸曱酯、曱基丙烯酸曱酯、丙烯酸乙酯、曱基丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、曱基丙烯酸丙酯、丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、曱基丙烯酸正丁酯、丙烯酸叔丁酯、曱基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸2-羥基乙酯、曱基丙烯酸2-幾基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、曱基丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸芐酯、曱基丙烯酸芐酯、丙烯酸苯氧基乙酯、甲基丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸異冰片基酯、曱基丙烯酸異冰片基酯、曱基丙烯酸縮水甘油酯、苯乙烯、a-曱基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、丙烯酰胺、曱基丙烯酰胺、丙烯腈、曱基丙烯腈等單體中的至少一種的聚合物)、乙烯/乙酸乙歸酯共聚鉤樹脂、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇、丙二醇、氨基曱酸酯系樹脂、三聚氰胺系樹脂、酚醛樹脂、醇酸樹脂等。官的溶劑。例如有乙二醇或甘油為代表的二醇或三醇等多元醇、將醇進行醚化和/或酯化所得的化合物(乙二醇一烷基醚、乙二醇二烷基醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇一烷基醚乙酸酯、二甘醇二烷基醚、丙二醇一烷基醚、丙二醇二烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯)等。更具體地說，可以使用萜品醇、乙二醇一曱醚、乙二醇一乙醚、乙二醇一丙醚、乙二醇一丁醚、二甘醇二曱醚、二甘醇二乙醚、乙二醇二丙醚、二甘醇二丁醚、曱基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、丙基溶纖劑乙酸酯、丁基溶纖劑乙酸酯、丙二醇一甲醚乙酸酯、丙二醇一乙醚乙酸酯、丙二醇一丙醚乙酸酯、一異丁酸2，2,4-三曱基-1,3-戊二醇酯、丁基卡必醇乙酸酯等、或含有其中的一種以上的有機溶劑混合物。場致發(fā)射用的碳納米管糊劑除CNT、玻璃、粘合劑樹脂、溶劑之外，還可以適當含有M劑等。碳納米管糊劑中使用的分散劑優(yōu)選胺系梳形嵌段共聚物。胺系梳形嵌段共聚物例如有7匕、〉7(林)制備的y/l^一義13240、乂A^一^13650、乂^^^一只13940、乂A^^一只24000SC、乂24000GR、乂A義^一久28000(均為商品名)等?？梢允箞鲋掳l(fā)射用的-友納米管糊劑具有感光性，還可以通過含有感光性有機成分、經(jīng)由曝光和顯影進行圖案加工。作為感光性有機成分和正片型感光性有機成分的任意一種，特別優(yōu)選使用負片型感光性有機成分，其中，所述負片型感光性有機成分是在紫外線照射前可溶解于顯影液的成分，而在曝光后變成不溶解于顯影液；所述正片型感光性有機成分是在紫外線照射前不溶解于顯影液的成分，而在膝光后變成可溶解于顯影液。負片型感光性有機成分含有選自感光性聚合物、感光性低聚物、感光性單體中的至少一種的感光性成分，還可以根據(jù)需要添加發(fā)揮粘合劑樹脂、光聚合引發(fā)劑、紫外線吸收劑、增感劑、增感助劑、阻聚劑、增塑劑、增稠劑、抗氧化劑、分散劑、有機或無^L防沉淀劑、均化劑等作用的成分。場致發(fā)射用的碳納米管糊劑中使用的感光性聚合物通常也具有粘合劑樹脂的功能。感光性聚合物優(yōu)選具有羧基。具有羧基的聚合物例如可選擇丙烯酸、曱基丙烯酸、衣糠酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸、乙烯基乙酸或它們的酸酐等含有羧基的單體，或甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯、苯乙烯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、2-幾基丙烯酸酯等單體，使用偶氮二異丁腈等引發(fā)劑進行共聚而獲得。具有羧基的聚合物在燒結時熱分解溫度低，因此優(yōu)選使用以(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸作為共聚成分的共聚物。尤其優(yōu)選使用苯乙烯/曱基丙烯酸曱酯/曱基丙烯酸共聚物。具有羧基的共聚物的樹脂酸值優(yōu)選為50~150mgKOH/g。酸值比150大，則顯影允許范圍變窄。酸值低于50，則未曝光部對顯影液的溶解性低。如果提高顯影液濃度，則甚至曝光部也發(fā)生剝離，難以獲得高精細的圖案。感光性聚合物優(yōu)選在支鏈上具有烯鍵式不飽和基團。向支鏈導入烯鍵式不飽和鍵的方法有使具有縮水甘油基或異氰酸酯基的烯鍵式不飽和化合物、或丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯、馬來酸等羧酸與聚合物中的巰基、氨基、羥基或羧基反應來制備的方法。具有縮水甘油基的烯鍵式不飽和化合物有丙烯酸縮水甘油酯、曱基丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油基醚、乙基丙烯酸縮水甘油酯、巴豆基縮水甘油基醚、巴豆酸縮水甘油基醚、異巴豆酸縮水甘油基醚等。尤其優(yōu)選使用具有CH產(chǎn)C(CH3)COOCH2CHOHCH2-結構的化合物。.具有異氰酸酯基的烯鍵式不飽和化合物有(曱基)丙烯?；惽杷狨?、(曱基)丙烯酰基乙基異氰酸酯等。另外，具有縮水甘油基或異氰酸酯基的烯鍵式不飽和化合物或丙烯酰氯、曱基丙烯酰氯或烯丙基氯優(yōu)選以0.05~1mol當量與聚合物中的巰基、氨基、羥基或l^&反應。具有烯鍵式不飽和鍵的胺化合物的制備可以是使具有烯鍵式不飽和鍵的(曱基)丙烯酸縮水甘油酯、(曱基)丙烯酰氯、(曱基)丙烯酸酐等與氨基化合物反應。可以將含有多個烯鍵式不飽和基團的化合物混合使用。的化合物，例如有(1)醇類(例如乙醇、丙醇、己醇、辛醇、環(huán)己醇、甘油、三羥曱基丙烷、季戊四醇等)的丙烯酸酯或曱基丙烯酸酯；(2)(a)羧酸(例如乙酸、丙酸、苯曱酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、琥珀酸、馬來酸、鄰苯二曱酸、酒石酸、檸檬酸等)與(b)丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油基或四縮水甘油基間苯二甲基二胺的反應產(chǎn)物；(3)(a)酰胺衍生物(例如丙烯酰胺、曱基丙烯酰胺，N羥曱基丙烯酰胺、亞曱基雙丙烯酰胺等)或環(huán)氧化合物與(b)丙烯酸或曱基丙烯酸的反應產(chǎn)物等。多官能感光性單體中，不飽和基團可以是丙烯基、曱基丙烯基、乙烯基、烯丙基混合存在。感光性單體可以使用一種或兩種以上。感光性單體相對于全部感光性有機成分優(yōu)選以2~40重量％的范圍添加，更優(yōu)選5~30重量％。感光性單體的量過少，則容易光固化不足，曝光部的感光度降低，顯影耐性也降低。感光性單體的量過多時，未膝光部分對水的溶解性低，交聯(lián)密度過高，因此燒結時可能引發(fā)脫粘合劑不良。自由基種的引發(fā)劑。光聚合引發(fā)劑例如有(a)二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-曱基-l-苯基丙烷-l-酮、芐基二曱基縮酮、l-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-曱基丙烷-l-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環(huán)己基-苯基酮、l-苯基-l，2-丙烷二酮-2-(鄰乙氧基羰基)將、2-甲基一[4-(曱硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-l-酮、2-千基-2-二曱基氨基-l-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-l、苯偶姻、苯偶姻曱基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、二苯曱酮、鄰苯甲?；綍跛釙貂?、4-苯基二苯曱酮、4，4-二氯二苯甲酮、羥基二苯曱酮、4-苯曱酰-4，-曱基-二苯硫、烷基化二苯甲酮、3，3，，4，4，-四(叔丁基過氧基羰基)二苯曱酮、4-苯曱?；?N,N-二曱基-N-[2-(1-氧代-2-丙烯基氧基)乙基]苯溴化曱胺鏘(methanaminiumbromide)、(4-苯曱?；S基)三曱基氯化銨、2-羥基_3-(4-苯甲酰基苯氧基)-N，N，N-三曱基-1-丙烯氯化胺鏘一水合鹽、2-異丙基瘞噸酮、2,4-二曱基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二氯p塞p屯酮、2-羥基-3-(3,4-二曱基-9-氧代-9H-噻噸-2-基氧基)-N,N,N-三曱基-1-氯化丙胺徵(propanaminiumchloride)、2，4,6-三曱基苯曱酰基苯基氧化膦、2,2，-雙(鄰氯苯基)-4,5,4，,5，-四苯基-1,2-聯(lián)二咪唑、10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、千基、9,10-菲醌、莰醌、曱基苯基乙醛酯(glyoxyester)、Tl5-環(huán)戊二烯基-ri6-枯烯基-鐵(l+)-六氟磷酸鹽(l-)、二笨硫衍生物、雙(Ti5-2,4-環(huán)戊二烯-l-基)-雙(2,6-二氟-3-(lH-吡咯-l-基)-苯基)鈦、4，4-雙(二曱基氨基)二苯曱酮、4,4-雙(二乙基氨基)二苯曱酮、噻噸酮、2-曱基噻噸酮、2-氯噻噸酮、4-苯曱?；?4-曱基苯基酮、二千基酮、藥酮、2，3-二乙氧基苯乙酮、2,2-二曱氧基-2-苯基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、對叔丁基二氯苯乙酮、千基曱氧基乙基縮醛、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、P-氯蒽醌、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并環(huán)庚酮、亞曱基蒽酮、4-疊氮基節(jié)叉乙酰苯、2，6-雙(對疊氮基亞千基)環(huán)己烷、2,6-雙(對疊氮基亞芐基)-4-甲基環(huán)己酮、2-苯基-l，2-丁二酮-2-(鄰甲氧基羰基)肟、1，3-二苯基丙烷三酮-2-(鄰乙氧基羰基)肝、N-苯基甘氨酸、四丁基銨(+l)正丁基三苯基硼酸鹽(l-)、萘磺酰氯、全<#^酰氯、N-苯基硫代吖啶酮、4,4-偶氮二異丁腈、苯并瘞唑二硫化物、三苯膦、四溴化碳、三溴笨颯、過氧化苯曱?；蜻@些(a)的化合物與(b)曙紅、亞曱基藍等光還原性的染料或(c)抗壞血酸、三乙醇胺等還原劑的組合等。這些光聚合引發(fā)劑可以使用一種或兩種以上。光聚合引發(fā)劑相對于感光性有機成分以0.05~10重量％的范圍添加，更優(yōu)選0.1~10重量％。光聚合引發(fā)劑的量過少，則感光度不佳；光聚合引發(fā)劑的量過多，則曝光部的殘存率減小。與光聚合引發(fā)劑一起使用增感劑，可以使感光度提高，又可以使對反應有效的波長范圍擴大。增感劑的具體例子有2，4-二曱基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、2,3-雙(4-二乙基氨基芐叉)環(huán)戊酮、2,6-雙(4-二曱基氨基千叉)環(huán)己酮、2，6-雙(4-二曱基氨基千叉)-4-曱基環(huán)己酮、米蚩酮、4,4-雙(二乙基氨基)二苯曱酮、4,4-雙(二乙基氨基)查耳酮、4,4-雙(二乙基氨基)查耳酮、對二甲基氨基亞肉桂基茚滿酮、對二曱基氨基亞芐基茚滿酮、2-(對二甲基氨基苯基亞乙烯基)異萘噻唑、1,3-雙(4-二曱基氨基苯基亞乙烯基)異萘噻唑、1,3-雙(4-二曱基氨基千叉)丙酮、1,3-羰基雙(4-二乙基氨基芐叉)丙酮、3，3-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、三乙醇胺、曱基二乙醇胺、三異丙醇胺、N-苯基-N-乙基乙醇胺、N-苯基乙醇胺、N-曱苯基二乙醇胺、4-二曱基氨基苯曱酸曱酯、4-二曱基氨基苯曱酸乙酯、二曱基氨基苯曱酸異戊酯、二乙基氨基苯曱酸異戊酯、苯曱酸(2-二曱基氨基)乙酯、4-二曱基氨基苯曱酸(正丁氧基)乙酯、4-二曱基氨基苯曱酸2-乙基己酯、3-苯基-5-苯甲?；缢倪?、1-苯基-5-乙氧基羰基噻四唑等。這些增感劑可以使用一種或兩種以上。需要說明的是，增感劑中也有可作為光聚合引發(fā)劑使用的物質(zhì)。將增感劑添加到感光性糊劑中時，其添加量相對于感光性有機成分通常為0.05~10重量％,更優(yōu)選0.1~10重量％。增感劑的量過少，則無法發(fā)揮使感光度提高的效果；增感劑的量過多，則曝光部的殘存率變少。場致發(fā)射用的碳納米管糊劑可如下制備將各種成分調(diào)制成規(guī)定的組成，然后通過三輥機、球磨機、珠磨機等混煉機均勻混合、分散。糊劑的粘度可根據(jù)玻璃、增稠劑、有機溶劑、增塑劑和防沉淀劑等的添加比例適當調(diào)節(jié)，但使用狹縫;溪頭涂布法或絲網(wǎng)印刷法進行圖案加工時，其范圍優(yōu)選在2200Pa's。而通過旋涂法或噴霧法進行圖案加工時，<尤選0,001~5Pa's。以下，對于使用場致發(fā)射用的碳納米管糊劑制備的三極管型場致發(fā)射用電子放射元件的制備方法進朽H兌明。需要i兌明的是，電子放射元件的制備可使用其它公知的方法，并不限于后述的制備方法。首先，制備背面基板。在鈉玻璃或PDP用的耐熱玻璃一旭硝子(抹)制造的PD200等玻璃基板上進行ITO等導電性膜的成膜，形成陰極電極。接著，通過印刷法層合515/vm的絕緣材料，制備絕緣層。接著，通過真空蒸鍍法在絕緣層上形成柵電極層。柵電極層上進行抗蝕劑涂布，通過曝光、顯影來蝕刻柵電極和絕緣層，由此制備發(fā)射極孔圖案。然后，將含有由本發(fā)明得到的粉末顆粒的組合物(上述場致發(fā)射用的石灰納米管糊劑)通過絲網(wǎng)印刷或狹縫模頭涂布等進行涂布。在上面曝光或背面曝光之后進行顯影，在發(fā)射極孔內(nèi)形成電子放射源圖案，以400500。C進行燒結。最后，通過激光照射法或膠帶剝離法進行CNT膜的起毛處理。接著，制備前面基板。在鈉石灰玻璃或PDP用的耐熱玻璃一旭硝子(抹)制造的PD200等玻璃基板上進行ITO成膜，形成陽極電極。通過印刷法在陽極電極上層合紅綠藍或白色的熒光體。然后，在背面基板和前面基板之間夾持間隔玻璃進行貼合，通過與容器相連接的排氣管進行真空排氣，由此可制備三極管型電子放射元件。為了確認電子放射狀態(tài)，通過向陽極電極供給l-5kV的電壓，可以使電子由CNT中放射得到熒光體發(fā)光。上述制備的電子放射元件通過安裝驅(qū)動裝置并設于液晶板的背面，可以用作液晶背光。對每個像素，在印刷有紅綠藍熒光體的電子放射元件上安裝驅(qū)動裝置時，可作為場致發(fā)射顯示器使用。實施例以下，通過實施例具體說明本發(fā)明，本發(fā)明并不受其限定。<#分碎方法>將被粉碎物和研磨劑A按照表1~表5中記載的材料和比例混合，以碎品醇作為溶劑，制備混合液，使被粉碎物為20重量％。接著，向填充有容器容積的85體積％(510mL)表1中記載的研磨劑B的DYNO磨((抹)、>7t/k工7夕一，，4七、義制造)中加入90mL上述混合液。在容器的送液口和廢液口蓋上蓋子，以粉碎溶液在容器內(nèi)密封的狀態(tài)下，將64mm^的攪拌盤以周速10.5m/秒進行180分鐘粉碎。粉碎后，使用SUS#150目數(shù)的濾器進行吸濾，從粉碎溶液中除去研磨劑B。<表面粗度Ra的測定方法>實施例26和比較例8中，按照以下方法測定表面并且度。使用東京精密(抹)制備的廿一7-厶1400，按照JISB0601-1982、以接觸針式測定電子放射元件表面的表面粗度Ra。<被粉碎物、研磨劑A的平均粒徑的測定方法〉(1)基本上是使用掃描式電子顯微鏡((抹)日立制作所S4800),由圖像測定被粉碎物、研磨劑A在粉碎前后的平均粒徑。測定在20//mx20/mi視野內(nèi)可測定長度的所有的顆粒的直徑，除以測定的數(shù)目，求出平均值。需要說明的是，微粒的形狀為不定形時，以通過顆粒中心的最長的線作為直徑。但是，實施例1~6、8、14~24和比較例2~4中，在研磨劑A與被粉碎物混合的狀態(tài)下測定被粉碎物粉碎后的平均粒徑。即，通過上述方法測定視野內(nèi)所有顆粒的平均粒徑，再使用被粉碎物和研磨劑A的體積比例，由下式計算粉碎后被粉碎物的平均粒徑(R)。需要說明的是，研磨劑A假定未被粉碎。R={A—rX2/3/(X2/3+X2/3)}/{X2/3/(X2/3+X2/3)}rrRRrRA為被粉碎物與研磨劑A的混合物的平均粒徑，r為研磨劑A的平均粒徑，Xr、Xr分別表示研磨刑A、被粉碎物的體積比例，Xr+XR=1。實施例7、9~13和比較例5~6中，研磨劑A也凈皮4分碎，因此，采用上式無法確定被粉碎物粉碎后的平均粒徑。為此，根據(jù)形狀和表面狀態(tài)的不同，由上述電子顯微鏡得到的圖像來區(qū)別被粉碎物和研磨劑A,測定20〃mx20^m視野內(nèi)可測定長度的所有的粉碎后的被粉碎物的直徑，求出平均值。粉末顆粒的平均粒徑以0.7/mi以下為合格。,磨劑B的平均粒徑的測定方法>研磨劑B的平均粒徑是使用粒徑分布測定裝置(日機裝(4朱)制造，7^f夕口卜，少夕9320HRA)進行測定的。在粒徑分布測定裝置中測定的平均粒徑是累積50%粒徑(050)。<材料>(1)玻璃玻璃1:鉍系玻璃(氧化鉍50wt%、氧化硼21wt%、氧化硅7wt°/。、氧化鋅22wt%)，載荷軟化點447"，平均粒徑0.8/rni，維氏硬度5GPa玻璃2:堿系玻璃(氧化硼35wt%、氧化鋁22.7wt%、氧化硅12.9wt%、氧化鋰12.4wt%、氧化鎂6.4wt%、氧化鋇4.2wt%、氧化鈣4.1wt%、氧化鋅2.3wt%)，載荷軟化點458°C，平均粒徑1.1/mi,維氏硬度5GPa玻璃3:鉍系玻璃(氧化鉍75wt%、氧化硼7wt%、氧化硅2wt%、氧化鋯12wt%)，載荷軟化點380°C，平均粒徑2.1//m，維氏硬度4GPa玻璃4:鉍系玻璃(氧化鉍75wt%、氧化硼0.9wt%、氧化珪1.9wt%、氧化鋅12wt%、氧化鋁0.2wt%、氧化鈉4wt%)，載荷軟化點394'C,平均粒徑5/mi，維氏硬度4GPa玻璃5:鉍系玻璃(氧化鉍85wt%、氧化硼4wt%、氧化硅1.5wt%、氧化鋅9.5wt%),載荷軟化點415°C，平均粒徑9/mi,維氏硬度4.5GPa(2)研磨劑A研磨劑A1:氧化鈦(平均粒徑0.013;mi，維氏硬度7.5GPa，曰本:r工口r^(抹)制備，氧化鋁C)研磨劑A2:氧化鋁(平均粒徑0.021〃m，維氏硬度15GPa，日本7*工口，-/K林)制備，二氧化鈦P25)研磨劑A3:氧化鈦(平均粒徑0.051;mi，維氏硬度7.5GPa，石原產(chǎn)業(yè)(林)制備，ET300W)研磨劑A4:氧化鈦(平均粒徑0.26/mi，維氏硬度7.5GPa,石原產(chǎn)業(yè)(抹)制備，ET500W)研磨劑A5:氧化鋁(平均粒徑,0.5/mi，維氏硬度15GPa，住友化學(林)制備，高純度氧化鋁AKP-20)研磨劑A6:氧化鋁(平均粒徑0.75^n，維氏硬度15GPa，住友化學(抹)制備，AKP-!3000)研磨劑A7:氧化鋁(平均粒徑2/mi，維氏硬度15GPa,住友化學(抹)制備，只；、n，乂夕'厶)研磨劑A8:氧化鋁(平均粒徑4.3〃m,維氏硬度15GPa，住友化學(抹)制備，義S-，歹夕'厶)研磨劑A9:氧化鋁(平均粒徑7/rni，維氏硬度15GPa,住友化學(才朱)制備，孩i粒氧化鋁AM-28)研磨劑A10:氧化鋁(平均粒徑12/mi,維氏硬度15GPa，住友化學(林)制備，微粒氧化鋁AM-29)研磨劑A11:氧化鋁(平均粒徑50/mi，維氏硬度15GPa，日本輕金屬(抹)制備，A13)研磨劑A12氧化鋯(平均粒徑100//m，維氏硬度12GPa,東k(林)制備，卜k七，厶)(3)研磨劑B研磨劑Bl:氧化鋯(平均粒徑100//m,維氏硬度12GPa，東k(抹)制備，卜k七，厶)研磨劑B2氧化鋯(平均粒徑200/mi,維氏硬度12GPa，東k(林)制備，卜k七，厶)研磨劑B3:氧化鋯(平均粒徑300^m，維氏硬度12GPa，東k(抹)制備，卜k七，厶)研磨劑B4:氧化鋯(平均粒徑500〃m，維氏硬度12GPa,東k(抹)制備，卜k七，厶)研磨劑B5:氧化鋯(平均粒徑800/mi，維氏硬度12GPa，東k(抹)制備，卜k七，厶)研磨劑B6氧化鋯(平均粒徑1000〃m,維氏硬度12GPa，東k(抹)制備，卜k七，厶)研磨劑B7:氧化鋁(平均粒徑2/rni，維氏硬度15GPa,住友化學0朱)制備，久S3，》夂厶)<實施例1~24、比專交例1~6>根據(jù)表1~表5中記載的材料和比例實施上述粉碎方法。需要說明的是，比較例l中，未添加研磨劑A，只使用研磨劑B,除此之外與實施例3同樣進行粉碎。表1表示通過改變被粉碎物的平均粒徑，改變研磨劑A的平均粒徑相對于被粉碎物的平均粒徑比；表2表示通過改變研磨劑A的平均粒徑，改變研磨劑A的平均粒徑相對于被粉碎物的平均粒徑比；表3表示通過改變研磨劑B的平均粒徑，改變研磨劑B的平均粒徑相對于被粉碎物的平均粒徑的比；表4表示改變祐:粉碎物與研磨劑A的體積比。在任何實施例中，所得粉末顆粒都實現(xiàn)了平均粒徑為目標的0.7;mi以下。在表5所示的比較例中，任何情況都未達到目標。[表ll<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>[表2<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>[表4<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table><實施例25>按照下述步驟制備場致發(fā)射用的電子放射源用糊劑。使用雙層CNT(東k(抹)制備)作為CNT，稱量100重量份CNT和1000重量份實施例1所得的玻璃的粉末顆粒、5重量份作為分散劑的乂A只^一只2400GR(7f、>7(抹)制備)，然后添加2500重量份感光性有機成分、400重量份感光性單體(二甲基丙烯酸四丙二醇酯)、400重量份光聚合引發(fā)劑IC369(2-節(jié)基-2-二甲基M-l-(4-嗎啉代苯基)丁酮-l，，A只乂'》弋y^4少；、力>夂公司制備)，用三輥機混煉，制成電子放射源用糊劑。為了調(diào)節(jié)粘度，追加4000重量份作為溶劑的辟品醇。其中，所述感光性有機成分是使0.4當量曱基丙烯酸縮水甘油酯與含有感光性聚合物溶液(曱基丙烯酸單體/曱基丙烯酸曱酯單體/苯乙烯單體=40/40/30(摩爾比)的共聚物的羧基進行加成反應，將所得(重均分子量43000，酸值IOO)以40重量％溶解于萜品醇中所得。接著，如下制備電子放射元件。在玻璃基板上濺射ITO,成膜，形成陰極電極。通過絲網(wǎng)印刷，將上述得到的電子放射源用糊劑以50mm正方形圖案在所得陰極電極上進行印刷。接著使用負片型4m模(20〃m-,40/mi間距)，用50mW/cm2輸出的超高壓汞燈由上面進行紫外曝光。然后用150秒噴淋1重量％碳酸鈉水溶液，進行顯影，用噴淋噴頭進行水洗，除去未光固化的部分。這里，將所得的圖案在大氣中、在450。C的溫度下加熱，得到CNT膜。然后通過剝離粘合強度0.5N/20mm的膠帶對CNT膜進行起毛處理。在新濺射了ITO的玻璃基板上印刷熒光體，制備陽極基板。將該兩片玻璃基板夾持200pm的間隔薄膜，進行貼合，得到電子放射元件。對于該電子放射元件，向陽極電極供給l5kV的電壓，確認由CNT得到的電子放射而產(chǎn)生的熒光體發(fā)光。然后通過掃描式電子顯微鏡((抹)日立制作所S4800)評價圖案形狀，圖案的周邊部的凹凸控制在比0.3pm小的范圍，未見特別異常。也未發(fā)生弧光^t電。<實施例26>按照以下順序制備場致發(fā)射用的感光性絕緣層糊劑。相對于1000重量份實施例1所得的玻璃的粉末顆粒，添加450重量份作為感光性有機成分的感光性聚合物溶液(使0.4當量曱基丙烯酸縮水甘油酯與含有曱基丙烯酸單體/曱基丙烯酸曱酯單體/苯乙烯單體=40/40/30(摩爾比)的共聚物的羧基進行加成反應，將所得(重均分子量43000，酸值IOO)以40重量％溶解于萜品醇中所得)、70重量份感光性單體(二曱基丙烯酸四丙二醇酯)、70重量扮光聚合引發(fā)劑IC369(2-千基-2-二曱基氨基_1_(4-嗎啉代苯基)丁酮-1，，A久乂'〉々，亍4，；、力乂k乂公司制備)，用三輥機混煉，制成感光性絕緣層糊劑。為了調(diào)節(jié)粘度，ili口100重量份作為溶劑的碎品醇。接著，如下所述，制備具有直徑30/mi的發(fā)射極孔的絕緣層。通過在玻璃基板上濺射ITO,成膜，形成陰極電極。通過絲網(wǎng)印刷，將上述所得的感光性絕緣層糊劑在其上進行實張印刷，使干燥后膜厚為20〃m。接著使用負片型鉻掩模(25/mi0,45/mi間距)，用50mW/cm2輸出的超高壓汞燈由上面進行紫外線曝光。然后用150秒噴淋0.01重量％碳酸鈉水溶液，進行顯影，使用噴淋噴頭進行水洗，除去未光固化的部分。這里，將所得的圖案在大氣中、在450。C的溫度下加熱，得到具有直徑30/mi發(fā)射極孔的絕緣層。測定絕緣層平坦部的表面粗度Ra，為0.01。<比較例7>將實施例1所得的玻璃的粉末顆粒置換成比較例1所得的玻璃微粒，除此之外與實施例25同樣,制備電子放射源用糊劑和電子放射元件并進行評價。在圖案的周邊部觀察到2個以上0.5^m以上的凹凸。對電子放射元件的陽極電極供給1~5kV的電壓，可見由CNT得到的電子放射而產(chǎn)生的熒光體發(fā)光，但是發(fā)生了可能由于圖案周邊部的凹凸產(chǎn)生的弧光放電。<比4交例8>將實施例1所得的玻璃的粉末顆粒置換成比較例1所得的玻璃微粒，除此之外與實施例26同樣，制備感光性絕緣層糊劑和具有直徑30/mi的發(fā)射極孔的絕緣層。測定絕緣層平坦部的表面粗度Ra，為0.3。權利要求1.粉末顆粒的制備方法，其是使用多種研磨劑對被粉碎物進行粉碎來獲得粉末顆粒的粉末顆粒的制備方法，其中，使用含有相對于被粉碎物粉碎前的平均粒徑具有0.01～5倍平均粒徑的至少一種研磨劑A和具有10～450倍平均粒徑的至少一種研磨劑B的研磨劑。2.權利要求1的粉末顆粒的制備方法，其中上述被粉碎物與上述研磨劑A的混合體積比是1:0.1~100的范圍。3.權利要求1或2的粉末顆粒的制備方法，其中上述被粉碎物是無纟幾顆粒。4.權利要求3的粉末顆粒的制備方法，其中上述無機顆粒是玻璃。5.粉末顆粒，該粉末顆粒由權利要求1~4中任一項的制備方法獲得，平均粒徑為50~700nm,載荷軟化點為300~500°C。6.粉末顆粒，該粉末顆粒的平均粒徑是50-700nm,載荷軟化點是300-500。C。7.權利要求6的粉末顆粒，該粉末顆粒是玻璃粉末。8.組合物，該組合物含有由權利要求1~4中任一項的制備方法得到的粉末顆?；蛘邫嗬?或權利要求7的粉末顆粒、以及粘合劑樹脂、溶劑。9.權利要求8的組合物，該組合物進一步含有碳系材料。10.顯示器部件的制備方法，該顯示器部件使用權利要求8或9的組合物。全文摘要本發(fā)明提供具有亞微米級平均粒徑的粉末顆粒的制備方法。具體來說，是使用多種研磨劑對被粉碎物進行粉碎，獲得粉末顆粒的粉末顆粒的制備方法，其中，所述研磨劑含有相對于被粉碎物粉碎前的平均粒徑具有0.01～5倍平均粒徑的至少一種(研磨劑A)和具有10～450倍平均粒徑的至少一種(研磨劑B)。文檔編號B02C17/00GK101389411SQ200780006628公開日2009年3月18日申請日期2007年2月26日優(yōu)先權日2006年2月27日發(fā)明者池田篤,重田和樹申請人:東麗株式會社