基板處理裝置的控制裝置、基板處理裝置及顯示控制裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種基板處理裝置的控制裝置、基板處理裝置及顯示控制裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，使用基板處理裝置對半導(dǎo)體晶片等基板進行各種處理。作為基板處理裝置的一例，如有對基板進行研磨處理用的CMP(化學(xué)機械研磨:Chemical MechanicalPolishing)裝置。
[0003]CMP裝置具有對基板進行研磨處理用的研磨單元、對基板進行清洗處理及干燥處理用的清洗單元、以及將基板轉(zhuǎn)移到研磨單元上并且接收由清洗單元作清洗處理及干燥處理后的基板的裝載/卸載單元等。另外，CMP裝置具有研磨單元、清洗單元、以及在裝載/卸載單元內(nèi)對基板進行輸送的輸送單元。CMP裝置利用輸送單元輸送基板并且依次進行研磨、清洗及干燥的各種處理。
[0004]另外，在CMP裝置等基板處理裝置上連接有控制裝置，由控制裝置對基板處理裝置進行各種控制。在控制裝置上安裝有處理模塊。由處理模塊進行與例如基板處理相關(guān)的各種信息(例如工藝等)的編輯、基板處理裝置的單元測試用的動作等各種控制。
[0005]另外，在基板處理裝置上設(shè)有操作用PC，以便用戶監(jiān)控基板處理裝置的狀態(tài)或進行各種操作。操作用PC的顯示裝置(用戶界面)顯示例如監(jiān)控系統(tǒng)圖像及操作系統(tǒng)圖像。監(jiān)控系統(tǒng)圖像是對基板處理裝置進行任何動作進行監(jiān)控用的圖像。操作系統(tǒng)圖像是用戶對基板進行操作、JOB操作或工藝編輯等各種操作用的圖像。用戶通過操作用PC的顯示裝置來監(jiān)控基板處理裝置的狀態(tài)或進行各種操作。
[0006]另外，在CMP裝置中，與實際上對基板進行研磨及清洗等處理的正式動作分開地進行基板輸送測試，以確認(rèn)在CMP裝置內(nèi)基板是否被適當(dāng)?shù)剌斔汀?br>[0007]基板輸送測試一般是，將收納有測試用的基板的托板設(shè)置在規(guī)定位置，通過進行裝載處理從而使托板靠近CMP裝置并對接到CMP裝置。接著，基板輸送測試通過執(zhí)行與基板的測試輸送相關(guān)的作業(yè)，從而從托板取出基板并使其輸送到CMP裝置內(nèi)，使輸送結(jié)束后的基板返回到托板。接著，基板輸送測試通過進行卸載處理而使托板離開CMP裝置并返回到規(guī)定位置。
[0008]專利文獻1:日本特許3949096號公報
[0009]專利文獻2:日本特開2005-85784號公報
[0010]專利文獻3:日本特開2010-103486號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]發(fā)明所要解決的課題
[0012]以往技術(shù)未考慮到使基板處理裝置高效執(zhí)行多個功能。
[0013]即，在以往的控制裝置中，由控制裝置執(zhí)行的各種功能被實現(xiàn)為一個處理模塊。在該情況下，例如，若該處理模塊產(chǎn)生異常，則在使處理模塊再起動等而恢復(fù)之前，基板處理裝置的多個功能無法全部執(zhí)行。
[0014]因此，本發(fā)明的一方式是以使基板處理裝置高效執(zhí)行多個功能為課題。
[0015]但是，以往技術(shù)未考慮到提高基板處理裝置的用戶界面的使用方便性。
[0016]S卩，基板處理裝置存在各種動作狀態(tài)(各單元中處理的執(zhí)行、基板的自動輸送測試和基板處理裝置的裝配等)。對此，在以往技術(shù)中，顯示裝置所顯示的圖像的大小及配置位置與動作種類無關(guān)地被固定為默認(rèn)值。例如，在顯示裝置的畫面左側(cè)一半的區(qū)域配置有監(jiān)控系統(tǒng)圖像，在右側(cè)一半的區(qū)域配置有操作系統(tǒng)圖像，難以調(diào)整各圖像的大小或配置位置。其結(jié)果，用戶難以實現(xiàn)與基板處理裝置的動作種類對應(yīng)的最佳的圖像配置，用戶界面的使用方便性變差。
[0017]因此，本發(fā)明的一方式是以提高基板處理裝置的用戶界面的使用方便性為課題。
[0018]另外，以往技術(shù)未考慮到高效執(zhí)行有關(guān)基板的測試輸送的多個作業(yè)。
[0019]S卩，在以往技術(shù)中，在執(zhí)行一個作業(yè)的情況下，包含托板的裝載處理和卸載處理。因此，在連續(xù)執(zhí)行多個作業(yè)的情況下，在各作業(yè)的執(zhí)行之間存在托板的卸載處理和裝載處理。其結(jié)果，妨礙了高效執(zhí)行多個作業(yè)。
[0020]因此，本發(fā)明的一方式是以高效執(zhí)行有關(guān)基板的測試輸送的多個作業(yè)為課題。本發(fā)明的一方式是解決上述多個課題中的至少一個。
[0021]用于解決課題的手段
[0022]本發(fā)明的基板處理裝置的控制裝置的一方式是鑒于上述課題做成的，其特點是，具有:多個處理模塊，所述多個處理模塊用于按照功能地執(zhí)行與基板處理裝置有關(guān)的處理；以及存儲裝置，該存儲裝置對所述多個處理模塊所用的信息進行存儲，所述多個處理模塊包含監(jiān)視模塊，該監(jiān)視模塊對所述多個處理模塊是否產(chǎn)生異常進行監(jiān)視，所述監(jiān)視模塊在所述多個處理模塊的某一個處理模塊產(chǎn)生異常時，使產(chǎn)生異常的處理模塊再起動，使其它處理模塊的處理繼續(xù)。
[0023]在本發(fā)明的基板處理裝置的控制裝置的一方式中，可以是，還具有作為信息界面的顯示裝置，所述多個處理模塊包含:界面系統(tǒng)模塊，該界面系統(tǒng)模塊用于執(zhí)行通過所述顯示裝置進行的信息的輸入輸出處理；以及控制系統(tǒng)模塊，該控制系統(tǒng)模塊用于基于由所述界面系統(tǒng)模塊輸入的輸入信息而執(zhí)行所述基板處理裝置的動作處理、或所述輸入信息向所述存儲裝置內(nèi)的存儲處理，所述監(jiān)視模塊在所述界面系統(tǒng)模塊及所述控制系統(tǒng)模塊中的某一個產(chǎn)生異常時，使產(chǎn)生異常的模塊再起動，使其它模塊的處理繼續(xù)。
[0024]在本發(fā)明的基板處理裝置的控制裝置的一方式中，可以是，所述界面系統(tǒng)模塊包含如下處理模塊中的至少二個:對與所述基板處理裝置的基板處理有關(guān)的工藝進行編輯用的工藝編輯模塊；對通過組合所述工藝而作成的所述基板處理裝置的作業(yè)進行編輯用的作業(yè)編輯模塊；將所述基板處理裝置所包含的單元的測試或調(diào)整用的命令予以輸入用的單元調(diào)整模塊；以及對所述基板處理裝置所用的參數(shù)進行編輯用的參數(shù)編輯模塊，所述監(jiān)視模塊在所述工藝編輯模塊、所述作業(yè)編輯模塊、所述單元調(diào)整模塊及所述參數(shù)編輯模塊中的至少二個中的某一個產(chǎn)生異常時，使產(chǎn)生異常的處理模塊再起動，使其它處理模塊的處理繼續(xù)。
[0025]在本發(fā)明的基板處理裝置的控制裝置的一方式中，可以是，所述控制系統(tǒng)模塊包含如下處理模塊中的至少二個:將通過所述工藝編輯模塊編輯的工藝存儲到所述存儲裝置用的工藝管理模塊；將通過所述作業(yè)編輯模塊編輯的作業(yè)存儲到所述存儲裝置、并且基于所述作業(yè)而使所述基板處理裝置動作用的作業(yè)管理/控制模塊；基于通過所述單元調(diào)整模塊輸入的命令而使所述基板處理裝置所包含的單元動作用的單元操作模塊；以及將通過參數(shù)編輯模塊編輯的參數(shù)存儲到所述存儲裝置用的參數(shù)管理模塊，所述監(jiān)視模塊在所述工藝管理模塊、所述作業(yè)管理/控制模塊、所述單元操作模塊及所述參數(shù)管理模塊中的至少二個中的某一個產(chǎn)生異常時，使產(chǎn)生異常的處理模塊再起動，使其它處理模塊的處理繼續(xù)。
[0026]本發(fā)明的基板處理裝置的一方式的特點是，具有:上述的任一個控制裝置；對基板進行研磨處理用的研磨單元；對所述基板進行清洗處理及干燥處理用的清洗單元；以及將基板轉(zhuǎn)移到所述研磨單元、并且接收由所述清洗單元進行清洗處理及干燥處理后的基板的裝載/卸載單元。
[0027]本發(fā)明的顯示控制裝置的一方式是鑒于上述課題做成的，其特點是，具有:接收部，該接收部接收與基板處理裝置的動作有關(guān)的模塊的起動指令；以及顯示控制部，該顯示控制部從存儲部讀出與由所述接收部接收的起動指令對應(yīng)的、功能不同的多個圖像，且使讀出的所述多個圖像顯示在顯示部上，所述顯示控制部可基于通過輸入操作部輸入的調(diào)整指示而調(diào)整所述顯示部所顯示的多個圖像的大小或配置位置。
[0028]在顯示控制裝置的一方式中，可以是，還具有存儲控制部，該存儲控制部將所述顯示部所顯示的多個圖像的大小及配置位置與顯示該多個圖像的起動指令的種類對應(yīng)地存儲在所述存儲部內(nèi)，所述顯示控制部從所述存儲部讀出與由所述接收部接收的起動指令的種類對應(yīng)的、多個圖像的大小及配置位置，且基于讀出的所述多個圖像的大小及配置位置而使所述多個圖像顯示在所述顯示部上。
[0029]在顯示控制裝置的一方式中，可以是，還具有存儲控制部，該存儲控制部將所述顯示部所顯示的多個圖像的大小及配置位置與顯示該多個圖像的起動指令的種類及通過所述輸入操作部輸入的標(biāo)識符對應(yīng)地存儲在所述存儲部內(nèi)，所述顯示控制部從所述存儲部讀出與由所述接收部接收的起動指令的種類及通過所述輸入操作部輸入的標(biāo)識符對應(yīng)的多個圖像的大小及配置位置，且基于讀出的所述多個圖像的大小及配置位置而使所述多個圖像顯示在所述顯示部上。
[0030]在顯示控制裝置的一方式中，可以是，所述多個圖像包含與所述起動指令的種類無關(guān)而共同使用的基本圖像，所述顯示控制部與由所述接收部接收的起動指令的種類無關(guān)地使所述基本圖像以固定的大小及固定的配置位置顯示在所述顯示部上。
[0031]另外，本發(fā)明的基板處理裝置的一方式的特點是，具有:上述的任一個顯示控制裝置；對基板進行研磨處理用的研磨單元；對所述基板進行清洗處理及干燥處理用的清洗單元；以及將基板轉(zhuǎn)移到所述研磨單元、并且接受由所述清洗單元進行清洗處理及干燥處理后的基板的裝載/卸載單元。
[0032]本發(fā)明的基板處理裝置的一方式是鑒于上述課題而做成的，其特點是，具有:對基板進行研磨或清洗用的處理室；以及連續(xù)執(zhí)行與所述基板在所述處理室內(nèi)的測試輸送有關(guān)的多個作業(yè)的控制裝置，所述控制裝置以在所述多個作業(yè)的之間不夾著使收納所述基板的托板離開所述處理室的卸載處理、及使所述托板靠近所述處理室的裝載處理的狀態(tài)連續(xù)執(zhí)行所述多個作業(yè)。
[0033]在本發(fā)明的基板處理裝置的一方式中，可以是，所述控制裝置按登錄順序或隨機地連續(xù)執(zhí)行所述多個作業(yè)。
[0034]在本發(fā)明的基板處理裝置的一方式中，可以是，所述托板可收納多個基板，所述控制裝置對所述托板所收納的多個基板中由所述多個作業(yè)所指定的基板執(zhí)行所述多個作業(yè)。
[0035]在本發(fā)明的基板處理裝置的一方式中，可以是，所述控制裝置在執(zhí)行所述多個作業(yè)中的最初的作業(yè)之前，判定所述托板是否被進行所述裝載處理，在未被進行所述裝載處理的情況下，使所述托板進行所述裝載處理并執(zhí)行所述最初的作業(yè)。
[0036]在本發(fā)明的基板處理裝置的一方式中，可以是，所述基板處理裝置可設(shè)定所述基板的輸送片數(shù)或結(jié)束時刻，作為連續(xù)執(zhí)行所述多個作業(yè)的結(jié)束條件，所述控制裝置在連續(xù)執(zhí)行所述多個作業(yè)期間判定是否已滿足所述結(jié)束條件，在已滿足所述結(jié)束條件的情況下，使所述托板進行所述卸載處理而結(jié)束基板測試。
[0037]在本發(fā)明的基板處理裝置的一方式中，可以是，設(shè)有多個所述托板，所述控制裝置對所述多個托板所分別收納的基板同時執(zhí)行所述多個作業(yè)。
[0038]發(fā)明的效果
[0039]采用這種本發(fā)明的一方式，可高效執(zhí)行基板處理裝置的多個功能。
[0040]采用這種本發(fā)明的一方式，可提高基板處理裝置的用戶界面的使用方便性。
[0041]采用這種本發(fā)明的一方式，可高效執(zhí)行與基板的測試輸送有關(guān)的多個作業(yè)。本發(fā)明的一方式獲得上述多個效果中的至少一個效果。
【附圖說明】
[0042]圖1是表示本實施方式的基板處理裝置的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0043]圖2是示意性表示研磨單元的立體圖。
[0044]圖3A是表示清洗單元的俯視圖。
[0045]圖3B是表示清洗單元的側(cè)視圖。
[0046]圖4是表示CMP裝置和控制裝置(操作用PC)的結(jié)構(gòu)的示圖。
[0047]圖5是表示控制裝置的結(jié)構(gòu)的示圖。
[0048]圖6A是表示利用界面系統(tǒng)APSW而顯示在顯示裝置上的畫面一例的示圖。
[0049]圖6B是表示利用界面系統(tǒng)APSW而顯示在顯示裝置上的畫面一例的示圖。
[0050]圖6C是表示利用界面系統(tǒng)APSW而顯示在顯示裝置上的畫面一例的示圖。
[0051]圖7是表示控制裝置的處理流程的示圖。
[0052]圖8是表示顯示控制裝置及CMP裝置的結(jié)構(gòu)的示圖。
[0053]圖9是表示以往技術(shù)的圖像顯示的一例的示圖。
[0054]圖10是表示由本實施方式調(diào)整后的圖像顯示的一例的示圖。
[0055]圖11是表示由本