本發(fā)明涉及顯示領域，特別涉及一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置。

背景技術：

薄膜晶體管液晶顯示器(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，tft-lcd)經(jīng)過最近幾十年的發(fā)展，已成為顯示領域的主流產(chǎn)品。一般地，在移動顯示產(chǎn)品中，將顯示區(qū)域到顯示屏邊緣定義為邊框。邊框的存在會降低整個顯示屏的視覺效果，尤其邊框區(qū)域越大，視覺效果越差。因此窄邊框甚至無邊框視覺效果成為高品質顯示屏的主流趨勢。

在對顯示面板母板沿切割線分割后而形成的顯示面板中，包圍著顯示區(qū)域的框膠一般需要盡可能地遠離切割線，以給框膠的流溢預留出足夠的容許空間。但是，隨著tft-lcd面板邊框的逐漸窄化，框膠邊緣與切割線之間的距離越來越接近，很容易由框膠的流溢而在后續(xù)工藝中引發(fā)各種嚴重的問題，比如流溢后的框膠遮蓋住了對位標記，使得后續(xù)的對位過程難以進行；再如流溢后的框膠越過切割線或者與相鄰的框膠粘連，嚴重影響了后續(xù)的切割過程，很容易產(chǎn)生分斷不良、液晶泄露等不良，造成報廢率高的困局。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種有機電致發(fā)光器件及其制作方法、發(fā)光裝置，可以減小框膠的流溢對后續(xù)工藝造成的影響。

第一方面，本發(fā)明提供一種顯示基板，所述顯示基板包括顯示區(qū)域和框膠設置區(qū)域，所述框膠設置區(qū)域位于所述顯示區(qū)域之外，

所述框膠設置區(qū)域遠離所述顯示區(qū)域的一側的邊緣處設有限流組陣，所述限流組陣包括至少兩個容膠凹槽，所述至少兩個容膠凹槽沿著遠離所述顯示區(qū)域的方向排列。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述框膠設置區(qū)域包括至少一個轉角區(qū)，每個所述轉角區(qū)遠離所述顯示區(qū)域的一側各設有一個所述限流組陣。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，任一所述轉角區(qū)一側設置的限流組陣中，最靠近所述轉角區(qū)的容膠凹槽的邊沿線與所述轉角區(qū)的邊緣線相切或部分重合。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述顯示基板包括用于接觸框膠的表面介質層，所述容膠凹槽均設置在所述表面介質層中。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述顯示基板上設有切割線，所述限流組陣均設置在所述切割線靠近所述顯示區(qū)域的一側。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述限流組陣包括的至少兩個容膠凹槽均與所述框膠設置區(qū)域遠離所述顯示區(qū)域的一側的邊緣平行。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述容膠凹槽呈直條形或者向著遠離所述顯示區(qū)域的方向彎曲的弧形。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述限流組陣包括的至少兩個容膠凹槽中，容膠凹槽的容積沿著所述框膠設置區(qū)域遠離所述顯示區(qū)域的方向依次減小。

第二方面，本發(fā)明還提供一種上述任意一種的顯示基板的制作方法，包括：

形成用于接觸框膠的表面介質層，所述容膠凹槽均設置在所述表面介質層中。

第三方面，本發(fā)明還提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述任意一種的顯示基板。

由上述技術方案可知，通過使向外流溢的框膠依次流入由內向外排列的多個容膠凹槽中，本發(fā)明中的限流組陣能夠限制或阻擋框膠向外側的流溢，保護更外側的結構不被框膠覆蓋，因此，本發(fā)明可以減少框膠的流溢對后續(xù)工藝造成的影響，有助于良率的提升。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明一個實施例中一種顯示裝置的框膠部分的立體結構示意圖；

圖2是本發(fā)明一個實施例中一種顯示基板的俯視結構示意圖；

圖3是本發(fā)明一個實施例中一種限流組陣的立體結構示意圖；

圖4是本發(fā)明一個實施例中一種限流組陣的流溢原理示意圖；

圖5是本發(fā)明一個實施例中一種顯示面板母板的俯視結構示意圖；

圖6是本發(fā)明一個實施例中一種限流組陣的俯視結構示意圖；

圖7是本發(fā)明一個實施例中一種限流組陣的立體結構示意圖；

圖8是本發(fā)明一個實施例中一種限流組陣的俯視結構示意圖；

圖9是本發(fā)明一個實施例中一種限流組陣的立體結構示意圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合附圖對本發(fā)明實施方式作進一步地詳細描述。

圖1是本發(fā)明一個實施例中一種顯示裝置的框膠部分的立體結構示意圖。參見圖1，該顯示裝置包括顯示基板11和設置在顯示基板11上的框膠12；為使圖形清晰明確，顯示裝置的其他部分以及顯示基板11和框膠12的一部分結構細節(jié)未在圖1中示出。需要說明的是，上述顯示裝置可以是例如顯示面板、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件；上述顯示基板可以例如是陣列基板、彩膜基板、觸控面板等等板結構的成品或中間產(chǎn)品；上述框膠是顯示裝置中主要起密封作用的結構，在一些實現(xiàn)方式中會采用涂覆后固化的方式在顯示基板上形成框膠。

圖2是本發(fā)明一個實施例中一種顯示基板的俯視結構示意圖，具體示出了圖1所示的顯示基板11的俯視結構。參見圖1和圖2，顯示基板11包括顯示區(qū)域a1和框膠設置區(qū)域a2，其中的顯示區(qū)域a1可以例如是有效顯示區(qū)域(acitivearea，aa)，其中的框膠設置區(qū)域a2指的是顯示基板上用來設置框膠的區(qū)域，例如涂覆框膠形成材料時的涂覆區(qū)域。圖1中以框膠12的實際設置區(qū)域與框膠設置區(qū)域a2完全重合為例表示出了框膠12的形狀，而應當理解框膠12的實際設置區(qū)域和形狀可能會因為材料、工藝和框膠流溢等等方面的原因而不與框膠設置區(qū)域a2完全對應。如圖1和圖2所示，顯示基板11上的框膠設置區(qū)域a2位于顯示區(qū)域a1之外。

參見圖1和圖2，顯示基板11還設置有限流組陣21，限流組陣21均設置在框膠設置區(qū)域a2遠離顯示區(qū)域a1的一側的邊緣處。具體地，大致上呈矩形框的框膠設置區(qū)域a2包括分別位于矩形的四個角所在位置處的轉角區(qū)，而每個轉角區(qū)遠離顯示區(qū)域a1的一側各設有一個限流組陣21。

圖3是本發(fā)明一個實施例中一種限流組陣的立體結構示意圖，具體示出了圖1中虛線圓框所標注的限流組陣21的放大后的立體結構。參見圖1至圖3，限流組陣21包括沿著遠離顯示區(qū)域a1的方向排列的三個容膠凹槽。為方便敘述，按照沿著遠離顯示區(qū)域a1的方向的排列順序，分別將三個容膠凹槽稱為第一容膠凹槽g1、第二容膠凹槽g2和第三容膠凹槽g3。參見圖1至圖3，限流組陣21的三個容膠凹槽均呈直條形，具有相同的凹槽深度，但在水平面上的橫截面面積沿著遠離顯示區(qū)域a1的方向依次減小，因而容積也沿著遠離顯示區(qū)域a1的方向依次減?。欢?，最靠近轉角區(qū)的第一容膠凹槽g1的邊沿線與框膠設置區(qū)域a2的邊緣線相切，第一容膠凹槽g1、第二容膠凹槽g2和第三容膠凹槽g3沿著遠離顯示區(qū)域a1的方向平行排列。

圖4是本發(fā)明一個實施例中一種限流組陣的流溢原理示意圖，具體示出了如圖1所示的結構在出現(xiàn)框膠12的流溢時限流組陣21處的縱向截面。如圖4所示，顯示基板11包括下層基板11a和位于下層基板11a之上的表面介質層11b(下層基板11a和表面介質層11b可以各自包含一個或一個以上的層結構)，上述限流組陣21所包括的第一容膠凹槽g1、第二容膠凹槽g2和第三容膠凹槽g3均設置在表面介質層11b中，框膠12設置在表面介質層11b上。如圖4所示，當設置在框膠設置區(qū)域a2內的框膠12向遠離顯示區(qū)域a1的方向流溢時，會首先流入第一容膠凹槽g1中，直到填滿整個第一容膠凹槽g1之后才會繼續(xù)向外流溢。在此過程中，第一容膠凹槽g1起到了容納流溢的框膠12、將其流溢范圍限制在凹槽內的作用。在第一容膠凹槽g1被填滿之后，繼續(xù)向周圍流溢的框膠12會流入第二容膠凹槽g2中，直到填滿整個第二容膠凹槽g2之后才會繼續(xù)向周圍流溢。在此過程中，第二容膠凹槽g2起到了容納流溢的框膠12、將其流溢范圍限制在凹槽內的作用。在第二容膠凹槽g2被填滿之后，繼續(xù)向周圍流溢的框膠12會流入第三容膠凹槽g3中，直到填滿整個第三容膠凹槽g3之后才會繼續(xù)向周圍流溢。在此過程中，第三容膠凹槽g3起到了容納流溢的框膠12、將其流溢范圍限制在凹槽內的作用。

可以看出，限流組陣所提供的凹陷式的容膠空間能夠通過容納流溢的框膠而限制框膠的流溢范圍，從而減輕框膠的流溢對限流組陣周圍尤其是限流組陣遠離框膠設置區(qū)域一側的結構(如對位標記、導體墊片等等)的不良影響?？衫斫獾氖?，相比于采用擋墻限制框膠流溢的方式，本發(fā)明實施例幾乎不會使流溢的框膠在受到阻擋后向其他方向流溢，而是穩(wěn)定地限制在容膠凹槽中，因而可以實現(xiàn)更優(yōu)的限制框膠流溢的效果。當然，本發(fā)明實施例的限流組陣也可以與擋墻配合設置，從而起到所需要的限制框膠流溢的效果。從而，通過使向外流溢的框膠依次流入由內向外排列的多個容膠凹槽中，本發(fā)明實施例中的限流組陣能夠限制或阻擋框膠向外側的流溢，保護更外側的結構不被框膠覆蓋，可以減少框膠的流溢對后續(xù)工藝造成的影響，有助于良率的提升。

可以理解的是，圖1至圖4所示出的結構僅是為使本發(fā)明的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚而舉出的示例，而本發(fā)明可能的實施方式并不僅限于此。下面，將對上述結構可能的變形進行舉例說明。

作為上述顯示基板具體是中間產(chǎn)品的一種示例，該顯示基板具體為切割后可得到至少兩塊顯示面板的顯示面板母板。圖5是本發(fā)明一個實施例中一種顯示面板母板的俯視結構示意圖。參見圖5，該示例中的顯示基板11包括3×3陣列排列的顯示面板區(qū)域a0，每個顯示面板區(qū)域a0內都設有各自的顯示區(qū)域a1和框膠設置區(qū)域a2，以及各自的限流組陣21。每個顯示面板區(qū)域a0內，框膠設置區(qū)域a2位于顯示區(qū)域a1之外，框膠設置區(qū)域a2遠離顯示區(qū)域a1的一側的邊緣處設有限流組陣21，限流組陣21包括至少兩個容膠凹槽(圖5中僅以兩個為例)，至少兩個容膠凹槽沿著遠離顯示區(qū)域a1的方向排列。相鄰的顯示面板區(qū)域a0之間設有切割線，沿著切割線切割，可將顯示基板11分為9塊顯示面板。每個顯示面板區(qū)域a0內，限流組陣21均設置在切割線靠近顯示區(qū)域a1的一側。當然，對于顯示面板以外的板狀結構的母板，其實現(xiàn)方式也是類似的，在此不再贅述。此外，由于框膠流溢是各類顯示基板均會面臨的問題，并均可以參照上述方式設置限流組陣來加以限制，因此對于顯示基板的大小、形狀、顯示類型等等方面的因素，本發(fā)明均可以不做限制。

作為上述限流組陣的形成方式示例，在上述任意一種顯示基板的制作方法中，可以包括形成用于接觸框膠的表面介質層的步驟，而上述容膠凹槽均設置在該表面介質層中，如圖4所示。在一種可能的實現(xiàn)方式中，該步驟具體包括：在下層基板11a上沉積一層介質材料層(材料可以例如是氧化硅、氮化硅、樹脂材料等等，所采用的工藝可以例如是化學氣相沉積、物理氣相沉積等等)；在介質材料層上沉積一層光刻膠；采用掩膜板對容膠凹槽設置區(qū)域或其以外的區(qū)域進行曝光，以使容膠凹槽設置區(qū)域以外的光刻膠固化；通過顯影去除未固化的光刻膠，使得容膠凹槽設置區(qū)域內的介質材料層暴露出來；對暴露出來的介質材料層進行刻蝕，以形成上述容膠凹槽；剝離光刻膠。當然，當顯示基板的制作方法中原本就包含對該介質材料層的圖案化工藝的情況下，可以通過改變掩膜板圖案在圖案化工藝中同時進行上述容膠凹槽的制作。在又一種可能的實現(xiàn)方式中，上述刻蝕過程中還可以同時對下層基板進行刻蝕，以使容膠凹槽貫穿表面介質層并部分位于下層基板中。在又一種可能的實現(xiàn)方式中，上述容膠凹槽直接在顯示基板的襯底上制作形成(襯底表面直接與框膠接觸)。在又一種可能的實現(xiàn)方式中，刻蝕形成容膠凹槽的過程可以通過半色調掩膜(halftonemask，htm)依次對不同位置處的介質材料層進行刻蝕，如此可以得到具有不同凹槽深度的容膠凹槽?？衫斫獾氖?，當限流矩陣的容膠凹槽均具有同樣的凹槽深度時，刻蝕工藝可以得到簡化；但是為了得到所需要的容膠凹槽的容積，也可以使同一限流矩陣的容膠凹槽之間具有不同的凹槽深度。此外，還可以設置容膠凹槽的凹槽深度隨位置變化，比如將上述任意一個或多個的容膠凹槽的底部設置為凹槽深度沿著容膠凹槽的延伸方向從中間向兩邊逐漸降低的形狀。當然，容膠凹槽的內部形狀及彼此間的關系可以不僅限于以上形式。

作為上述限流組陣中容膠凹槽的可選形狀示例，圖6和圖7分別是容膠凹槽為弧形的限流組陣的俯視結構示意圖和立體結構示意圖?？梢钥闯觯鐖D6和圖7所示的容膠凹槽均呈向著遠離顯示區(qū)域的方向彎曲的弧形，并且最靠近轉角區(qū)的容膠凹槽的邊沿線與轉角區(qū)的邊緣線相切。作為另一種示例，圖8和圖9分別是容膠凹槽為另一種弧形的限流組陣的俯視結構示意圖和立體結構示意圖?？梢钥闯觯鐖D8和圖9所示的容膠凹槽均呈向著遠離顯示區(qū)域的方向彎曲的弧形，并且最靠近轉角區(qū)的容膠凹槽的靠近轉角區(qū)一側的邊沿線與轉角區(qū)的邊緣線重合。比較后可以看出，圖6和圖7所示的凹槽形狀相比于圖1至圖4所示的凹槽形狀而言更加貼近于轉角區(qū)的彎曲形狀，因而可以更有利于在框膠流溢時保持原有的彎曲形狀，并能夠節(jié)省限流組陣外側的布局空間。圖8和圖9所示的凹槽形狀相比于圖6和圖7所示的凹槽形狀而言進一步貼近于轉角區(qū)的彎曲形狀，因而更有利于在框膠流溢時保持原有的彎曲形狀，并能夠進一步節(jié)省限流組陣外側的布局空間。當然，上述限流組陣中容膠凹槽的可選形狀可以不僅限于此。

在以上三種容膠凹槽的可選形狀示例中，每個限流組陣均以包含三個平行設置的容膠凹槽作為示例，但在其他可能的實現(xiàn)方式中，顯示基板上的每個限流組陣均可以包含任意所需數(shù)量的容膠凹槽，并可以彼此不同，從而適應于不同的應用需求，本發(fā)明對此不做限制。

在以上三種容膠凹槽的可選形狀示例中，每個限流組陣的容膠凹槽的容積均是沿著框膠設置區(qū)域遠離顯示區(qū)域的方向依次減小的，該設置能夠在同樣的效果下使限流組陣所占據(jù)更小的布局空間，有利于邊框的窄化。當然，還可以根據(jù)實際應用需求設置容膠凹槽之間的容積大小關系，比如容積均相同或者沿著顯示區(qū)域的方向先減小后增大，以實現(xiàn)所需要的限制框膠流溢的效果。

在以上三種容膠凹槽的可選形狀示例中，圖8和圖9所示的限流組陣中包括的容膠凹槽均與框膠設置區(qū)域遠離顯示區(qū)域的一側的邊緣平行。相比于不平行的實現(xiàn)方式而言，該設置方式更有利于在框膠流溢時保持原有的彎曲形狀，并能夠節(jié)省限流組陣外側的布局空間。在一種示例中，圖6和圖7所示的限流組陣中的容膠凹槽所具有的弧形的圓心位置可以依次更加遠離或靠近顯示區(qū)域的中心，以形成彼此不平行的圓弧，以實現(xiàn)所需要的限制框膠流溢的效果。

在以上三種容膠凹槽的可選形狀示例中，圖8和圖9所示的限流組陣中最靠近轉角區(qū)的容膠凹槽的邊沿線與轉角區(qū)的邊緣線之間是具有重合區(qū)段的部分重合的關系，而圖1至圖4所示的限流組陣和圖6及圖7所示的限流組陣中最靠近轉角區(qū)的容膠凹槽的邊沿線與轉角區(qū)的邊緣線之間是相切的關系。比較后可以看出，相切設置方式下框膠的流溢是從切點處開始并逐漸向兩側蔓延，而部分重合的設置方式下框膠的流溢是在邊緣線處類似于瀑布那樣流入容膠凹槽，顯然前者比后者更有利于控制框膠流溢后的形狀。當然，還可以設置限流組陣中最靠近轉角區(qū)的容膠凹槽的邊沿線與轉角區(qū)的邊緣線之間具有間隔，比如將上述任一種限流組陣向遠離顯示區(qū)域的水平方向平移預定距離，使得框膠從開始流溢到流入容膠凹槽之間存在一定程度的緩沖。當然，限流組陣中最靠近框膠設置區(qū)域的容膠凹槽的邊沿線與框膠設置區(qū)域遠離顯示區(qū)域的邊緣線之間的關系可以不僅限于以上幾種形式。

在以上三種容膠凹槽的可選形狀示例中，限流組陣均設置在了框膠設置區(qū)域的轉角區(qū)遠離顯示區(qū)域的一側，由此可以對框膠流溢最不容易控制的轉角區(qū)進行框膠流溢上的限制。此外，根據(jù)對限制框膠流溢方面的需求的不同，可以在框膠設置區(qū)域的其他外邊緣處設置限流組陣。比如針對顯示基板的框膠設置區(qū)域之外設置有對位標記的情況來說，可以在框膠設置區(qū)域最靠近對位標記的邊緣處設置限流組陣，從而避免框膠流溢到對位標記處遮蓋對位標記。再如，還可以沿著框膠設置區(qū)域的外邊緣設置至少兩圈環(huán)形的容膠凹槽，以限制各個位置處的框膠流溢。此外，為了實現(xiàn)限制框膠流溢的作用，限流組陣實際上并不需要嚴格地位于框膠設置區(qū)域之外，例如將上述任意一種限流組陣在原有的基礎上向靠近顯示區(qū)域的方向平移，使得框膠設置區(qū)域的外邊緣落在限流組陣中最靠近框膠設置區(qū)域的容膠凹槽內，而此時限流組陣實際上仍設置在框膠設置區(qū)域遠離顯示區(qū)域的一側的邊緣處。當然，限流組陣的設置數(shù)量和設置位置可以不僅限于上述幾種形式。

需要說明的是，在可能的范圍內，還可以對上述各個方面上的變形方式進行組合，以得到適應于不同有關于框膠流溢的應用需求的顯示基板和顯示裝置，本發(fā)明對此不做限制。

基于同樣的發(fā)明構思，本發(fā)明的又一實施例提供了一種上述任意一種顯示基板的制作方法，該方法包括：形成用于接觸框膠的表面介質層，所述容膠凹槽均設置在所述表面介質層中。該制作方法中該步驟的示例已在上文中詳述，而其他步驟均可以根據(jù)所需要制作的結構進行適應性設置，在此不在贅述。因為本發(fā)明實施例的方法可以制作上述顯示基板，因此可以減少框膠的流溢對后續(xù)工藝造成的影響，有助于良率的提升。

基于同樣的發(fā)明構思，本發(fā)明的又一實施例提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括上述任意一種的顯示基板。該顯示裝置的具體示例已在上文中詳述，而其他可包含的部件可根據(jù)實際需求進行設置，在此不再贅述。需要說明的是，上述顯示裝置可以是例如顯示面板、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。由于本發(fā)明實施例的顯示裝置包括上述顯示基板，因此可以減少框膠的流溢對后續(xù)工藝造成的影響，有助于良率的提升。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內。