一種顯示基板及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示基板及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的顯示面板如圖1所示,包括顯示區(qū)域101以及位于顯示區(qū)域101周邊的電路綁定區(qū)域102。每個(gè)顯示區(qū)域101包括由柵線11和數(shù)據(jù)線12交叉形成的多個(gè)顯示單元,每個(gè)顯示單元對應(yīng)設(shè)置有一個(gè)薄膜晶體管13,薄膜晶體管13包括柵極G、源極S和漏極D,其中,柵極G和柵線11連接,源極S和數(shù)據(jù)線12連接,當(dāng)柵線11和數(shù)據(jù)線12同時(shí)輸入電信號時(shí),該薄膜晶體管13打開,控制使得對應(yīng)的顯示單元顯示不同的灰階。而電路綁定區(qū)域102主要通過PFC (Flexible Printed Circuit board,柔性線路板)等向柵線11、數(shù)據(jù)線12等輸出控制信號。
[0003]—般的,電路綁定區(qū)域的線路較多,難免會有交叉。示例的,如圖2所示,一條第一連接線21和三條第二連接線22交叉設(shè)置,則在交叉位置處第一連接線21和第二連接線22會形成電容,影響信號的傳輸。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種顯示基板及顯示裝置,所述顯示基板上的第一連接線和第二連接線之間形成有半導(dǎo)體層,減小第一連接線和第二連接線的電容。
[0005]為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0006]—方面,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種顯示基板,所述顯示基板包括襯底基板以及依次形成在所述襯底基板上的第一導(dǎo)電層、絕緣層、第二導(dǎo)電層,其中,所述顯示基板劃分為顯示區(qū)域以及電路綁定區(qū)域,所述第一導(dǎo)電層包括位于所述電路綁定區(qū)域的第一連接線,所述第二導(dǎo)電層包括位于所述電路綁定區(qū)域的第二連接線,所述第一連接線和所述第二連接線交叉設(shè)置;所述顯示基板還包括位于所述第一導(dǎo)電層和所述第二導(dǎo)電層之間的半導(dǎo)體層,所述半導(dǎo)體層包括至少位于所述第一連接線和所述第二連接線交叉位置處的半導(dǎo)體圖案。
[0007]可選的,所述半導(dǎo)體圖案為圓形或橢圓形。
[0008]可選的,所述半導(dǎo)體層位于所述絕緣層和所述第二導(dǎo)電層之間。
[0009]可選的,沿所述第二連接線的方向,所述半導(dǎo)體圖案伸出于所述第一連接線。
[0010]可選的,沿所述第一連接線的方向,所述半導(dǎo)體圖案伸出于所述第二連接線。
[0011]可選的,一個(gè)所述半導(dǎo)體圖案對應(yīng)多個(gè)所述交叉位置。
[0012]可選的,所述第一導(dǎo)電層還包括位于所述顯示區(qū)域的柵線,所述第二導(dǎo)電層還包括位于所述顯示區(qū)域的數(shù)據(jù)線,所述半導(dǎo)體層還包括位于所述顯示區(qū)域的有源層圖案。
[0013]另一方面,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種顯示裝置,包括本實(shí)用新型實(shí)施例提供的任一顯示基板。
[0014]本實(shí)用新型的實(shí)施例提供了一種顯示基板及顯示裝置,在電路綁定區(qū)域,第一連接線和第二連接線之間還形成有半導(dǎo)體圖案,第一連接線和半導(dǎo)體圖案形成第一電容,第二連接線和半導(dǎo)體圖案形成第二電容,則第一電容和第二電容并聯(lián),其電容值小于第一連接線和第二連接線直接形成電容的電容值,從而可以減少第一連接線和第二連接線的信號干擾。
【附圖說明】
[0015]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0016]圖1為現(xiàn)有的顯不面板不意圖;
[0017]圖2為現(xiàn)有的顯示面板電路綁定區(qū)域示意圖;
[0018]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖;
[0019]圖4為圖3所不顯不基板的截面圖;
[0020]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖;
[0021]圖6為圖5所不顯不基板的截面圖;
[0022]圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖;
[0023]圖8為圖7所不顯不基板的截面圖;
[0024]圖9為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖;
[0025]圖10為圖9所不顯不基板的截面圖;
[0026]圖11為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖;
[0027]圖12為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種顯示基板的制作方法示意圖。
[0028]附圖標(biāo)記:
[0029]11-柵線;12_數(shù)據(jù)線;13_薄膜晶體管;20_襯底基板;21_第一連接線;22_第二連接線;23_絕緣層;24_半導(dǎo)體圖案;101_顯示區(qū)域;102_電路綁定區(qū)域。
【具體實(shí)施方式】
[0030]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0031]需要說明的是,在本實(shí)用新型的描述中,需要理解的是,術(shù)語“上”、“下”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對本實(shí)用新型的限制。
[0032]在本實(shí)用新型所有實(shí)施例中,需要闡明“層”和“圖案”的定義,以及之間的關(guān)系。其中,“層”是指利用某一種材料在基板上利用沉積或其他工藝制作出的一層薄膜,若在整個(gè)制作過程當(dāng)中該薄膜還需構(gòu)圖工藝,則構(gòu)圖工藝后稱為“層”。經(jīng)過構(gòu)圖工藝后的“層”中包含至少一個(gè)“圖案”。
[0033]示例的,沉積形成金屬薄膜,經(jīng)構(gòu)圖后形成源漏金屬層,源漏金屬層包括源極和漏極,其中源極和漏極即為圖案。
[0034]所謂“構(gòu)圖工藝”一般是將薄膜形成包含至少一個(gè)圖案的層的工藝;而構(gòu)圖工藝通常包含:在薄膜上涂膠,利用掩膜板對所述光刻膠進(jìn)行曝光,再利用顯影液將需去除的光刻膠沖蝕掉,再刻蝕掉未覆蓋光刻膠的薄膜部分,最后將剩下的光刻膠剝離。而在本實(shí)用新型所有實(shí)施例中,“一次構(gòu)圖工藝”是指經(jīng)過一次曝光形成所需要的層結(jié)構(gòu)工藝。
[0035]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種顯示基板,如圖3所示、圖4所示,顯示基板包括襯底基板20以及依次形成在襯底基板20上的第一導(dǎo)電層(即第一連接線21所在層)、絕緣層23、第二導(dǎo)電層(即第二連接線22所在層),其中,顯示基板劃分為顯示區(qū)域以及電路綁定區(qū)域(可參照圖1所示),第一導(dǎo)電層包括位于電路綁定區(qū)域的第一連接線21,第二導(dǎo)電層包括位于電路綁定區(qū)域的第二連接線22,第一連接線21和第二連接線22交叉設(shè)置;其中,顯示基板還包括位于第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層之間的半導(dǎo)體層,半導(dǎo)體層包括至少位于第一連接線21和第二連接線22交叉位置處的半導(dǎo)體圖案24。
[0036]需要說明的是,半導(dǎo)體層位于第一電極層和第二電極層之間,可以是如圖4所示,半導(dǎo)體圖案24位于絕緣層23和第二電極22之間,還可以是半導(dǎo)體圖案24位于絕緣層23和第一電極21之間。本實(shí)用新型實(shí)施例及附圖4所示為例進(jìn)行說明。其中,第一連接線和第二連接線可以是不同用途的各種導(dǎo)線,本實(shí)用新型實(shí)施例對其具體連接關(guān)系不作限定。
[0037]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的顯示基板,在電路綁定區(qū)域,第一連接線和第二連接線之間還形成有半導(dǎo)體圖案,第一連接線和半導(dǎo)體圖案形成第一電容,第二連接線和半導(dǎo)體圖案形成第二電容,則第一電容和第二電容并聯(lián),其電容值小于第一連接線和第二連接線直接形成電容的電容值,從而可以減少第一連接線和第二連接線的信號干擾。
[0038]需要說明的是,顯示基板的顯示區(qū)域形成有顯示器件等,顯示器件可以是0LED器件、液晶顯示器件、微膠囊顯示器件等。其中,0LED顯示裝置一般包括陣列基板以及封裝基板,其中陣列基板上形成有0LED器件陣列,電路綁定區(qū)域一般形成在陣列基板上,柔性線路板一般與陣列基板連接;液晶顯示裝置一般包括陣列基板和彩膜基板,其中,陣列基板上形成有TFT陣列,電路綁定區(qū)域一般形成在陣列基板上,柔性線路板一般與陣列基板連接。則本實(shí)用新型實(shí)施例提供的顯示基板可以是0LED顯示裝置或液晶顯示裝置的陣列基板。
[0039]當(dāng)然,顯示裝置一般都會有電路綁定區(qū)域與柔性電路板連接,以對電路進(jìn)行集成驅(qū)動(dòng),電路綁定區(qū)域可以是形成在陣列基板上也可以形成在其他基板上,則本實(shí)用新型實(shí)施例提供的顯示基板為包括電路綁定區(qū)域的基板,且電路綁定區(qū)域具有交叉的第一連接線和第二連接線,而不限定其具體為陣列基板或封裝基板。
[0040]優(yōu)選的,如圖3、5、7所示,半導(dǎo)體圖案24為圓形或橢圓形。由于圓形或橢圓形的邊緣光滑,從而可以避免發(fā)生尖端放電。
[0041]優(yōu)選的,第一導(dǎo)電層還包括位于顯示區(qū)域的柵線,第二導(dǎo)電層還包括位于顯示區(qū)域的數(shù)據(jù)線,半導(dǎo)體層還包括位于顯示區(qū)域的有源層圖案。即柵線和第一連接線通過一次構(gòu)圖工藝形成,數(shù)據(jù)線與第二連接線通過一次構(gòu)圖工藝形成,有源層圖案和半導(dǎo)體圖案通過一次構(gòu)圖工藝形成。
[0042]此外,柵線和有源層之間一般設(shè)置有柵絕緣層,則柵絕緣層可以是與電路綁定區(qū)域的絕緣層同時(shí)形成。從而半導(dǎo)體圖案24位于絕緣層23和第二連接線22之間。即優(yōu)選的,半導(dǎo)體層位于絕緣層和第二導(dǎo)電層之間。
[0043]如圖3以及圖4(a)所示,沿第二連接線22的方向,半導(dǎo)體圖案24位于第一連接線21和第二連接線22交叉位置的部分區(qū)域,第一連接線21和第二連接線22的交叉位置仍有部分去區(qū)域沒有半導(dǎo)體圖案24。一方面,在沒有半導(dǎo)體圖案24的區(qū)域,第一連接線21和第二連接線22的電容仍然較大。另一方面,由于第一