0所示，閥座板205在通過(guò)閥體250將基板搬送用開(kāi)口 Ibl關(guān)閉的狀態(tài)下介于閥體250與處理容器I之間。
[0124]閥座側(cè)抵接板207為呈框狀的薄板。在閥座主體206設(shè)置有與閥座側(cè)抵接板207的厚度和寬度相當(dāng)?shù)纳疃群蛯挾鹊娜笨诓?06a，閥座側(cè)抵接板207嵌入該缺口部206a。因此，在閥座板205中，閥體250的與密封面250A抵接一側(cè)的面除了 O形圈231和屏蔽環(huán)232的配設(shè)部位以外，呈平坦的平面。此外，也能夠代替閥座主體206的缺口部206a而形成槽，在其中嵌入閥座側(cè)抵接板207。閥座側(cè)抵接板207由未圖示的螺釘?shù)裙潭?gòu)件固定于閥座主體206。
[0125]閥座側(cè)抵接板207能夠由與閥座主體206不同的金屬材料構(gòu)成。閥座主體206的材質(zhì)只要具有導(dǎo)電性即可，沒(méi)有特別限制，例如能夠由鋁、不銹鋼等構(gòu)成。閥座側(cè)抵接板207的材質(zhì)例如為不銹鋼。此外，也能夠由相同的材質(zhì)構(gòu)成閥座主體206和閥座側(cè)抵接板207。
[0126]本實(shí)施方式中，作為第二抵接部的閥座側(cè)抵接板207、作為第一導(dǎo)電性部件的屏蔽環(huán)232、作為第二導(dǎo)電性部件的屏蔽環(huán)242和作為第一抵接部的抵接板252均由同種的金屬材料構(gòu)成。在此，作為同種的金屬材料，能夠列舉例如不銹鋼等。這樣，由同種的金屬材料構(gòu)成閥座側(cè)抵接板207、屏蔽環(huán)232、242、抵接板252，由此能夠?qū)崿F(xiàn)閥體250與處理容器I之間的導(dǎo)通，并抑制金屬顆粒的產(chǎn)生。即，在作為可動(dòng)部件的閥體的材質(zhì)例如為鋁的情況下，如果在閥體與鋁制的處理容器I之間，直接設(shè)置作為異種金屬的不銹鋼制的屏蔽環(huán)，則容易在閥體或處理容器I產(chǎn)生損傷。相對(duì)于此，將閥體250的一部分置換為不銹鋼制的抵接板252，并且在閥體250與處理容器I之間設(shè)置由與屏蔽環(huán)232、242同種的金屬材料構(gòu)成的具有閥座側(cè)抵接板207的閥座板205，由此能夠防止閥體250和處理容器I的損傷，抑制金屬顆粒的產(chǎn)生。特別，在處理容器I側(cè)的閥座板205設(shè)置閥座側(cè)抵接板207且在閥體250側(cè)設(shè)置抵接板252，由此能夠避免異種金屬在滑動(dòng)部位的接觸，可靠地降低金屬顆粒的產(chǎn)生。另外，在維護(hù)時(shí)，更換抵接板252、屏蔽環(huán)232、242、承接側(cè)抵接板207等即可，因此，也能夠?qū)崿F(xiàn)閥體250的主體部251和處理容器I的長(zhǎng)壽命化。
[0127]此外，閥座側(cè)抵接板207的形狀不限于框狀，也能夠使用例如被分割為多個(gè)部分的板狀部件。
[0128]本實(shí)施方式中的其它構(gòu)成、作用和效果與第一實(shí)施方式和第二實(shí)施方式相同。
[0129]本發(fā)明不限于上述各實(shí)施方式，能夠進(jìn)行各種變更。例如在上述實(shí)施方式中，能夠列舉平行平板型的等離子體蝕刻裝置為例，本發(fā)明也能夠適用于例如、電感耦合等離子體裝置、表面波等離子體裝置、ECR(Electron Cyclotron Resonance:電子回旋共振)等離子體裝置、螺旋波等離子體裝置、微波等離子體處理裝置等其它方式的等離子體蝕刻裝置。另夕卜，不限于等離子體蝕刻裝置，也同樣能夠適用例如等離子體成膜裝置和等離子體灰化裝置等。
[0130]另外，本發(fā)明不限于將Fro用基板作為被處理體，例如也能夠適用于將半導(dǎo)體晶片或太陽(yáng)電池用基板作為被處理體的情況。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種閘閥裝置，其特征在于: 所述閘閥裝置配置在具有用于將被處理基板搬入處理容器內(nèi)和從所述處理容器內(nèi)搬出所述被處理基板的開(kāi)口部、利用在所述處理容器內(nèi)生成的等離子體對(duì)所述被處理基板實(shí)施等離子體處理的等離子體處理裝置中，該閘閥裝置包括: 閥體，其用于開(kāi)閉所述開(kāi)口部； 閥體移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述閥體移動(dòng)來(lái)通過(guò)所述閥體開(kāi)閉所述開(kāi)口部； 導(dǎo)電性的閥座部件，其為具有開(kāi)口的框狀，安裝于所述處理容器中的所述開(kāi)口部的周?chē)谋冢谕ㄟ^(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下介于所述閥體與所述處理容器之間； 第一氣密密封部件，其在通過(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下，介于所述閥體與閥座部件之間而將它們之間氣密地密封； 第一導(dǎo)電性部件，其在通過(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下，介于所述閥體與閥座部件之間而將它們之間電連接； 第二氣密密封部件，其設(shè)置成包圍所述開(kāi)口部，介于所述閥座部件與所述處理容器之間而將它們之間氣密地密封；和 第二導(dǎo)電性部件，其設(shè)置成包圍所述開(kāi)口部，介于所述閥座部件與所述處理容器之間而將它們之間電連接， 所述第一導(dǎo)電性部件和所述閥座部件由相同材料形成。
2.一種閘閥裝置，其特征在于: 所述閘閥裝置配置在具有用于將被處理基板搬入處理容器內(nèi)和從所述處理容器內(nèi)搬出所述被處理基板的開(kāi)口部、利用在所述處理容器內(nèi)生成的等離子體對(duì)所述被處理基板實(shí)施等離子體處理的等離子體處理裝置中，該閘閥裝置包括: 閥體，其用于開(kāi)閉所述開(kāi)口部； 閥體移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述閥體移動(dòng)來(lái)通過(guò)所述閥體開(kāi)閉所述開(kāi)口部； 導(dǎo)電性的閥座部件，其為具有開(kāi)口的框狀，安裝于所述處理容器中的所述開(kāi)口部的周?chē)谋?，在通過(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下介于所述閥體與所述處理容器之間； 第一氣密密封部件，其在通過(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下，介于所述閥體與閥座部件之間而將它們之間氣密地密封； 第一導(dǎo)電性部件，其在通過(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下，介于所述閥體與閥座部件之間而將它們之間電連接； 第二氣密密封部件，其設(shè)置成包圍所述開(kāi)口部，介于所述閥座部件與所述處理容器之間而將它們之間氣密地密封；和 第二導(dǎo)電性部件，其設(shè)置成包圍所述開(kāi)口部，介于所述閥座部件與所述處理容器之間而將它們之間電連接， 所述閥體包括:主體部；和由與該主體部不同的導(dǎo)電性材料構(gòu)成的，與所述第一導(dǎo)電性部件抵接的第一抵接部， 所述第一導(dǎo)電性部件、所述第一抵接部和所述閥座部件由相同材料形成。
3.—種閘閥裝置，其特征在于: 所述閘閥裝置配置在具有用于將被處理基板搬入處理容器內(nèi)和從所述處理容器內(nèi)搬出所述被處理基板的開(kāi)口部、利用在所述處理容器內(nèi)生成的等離子體對(duì)所述被處理基板實(shí)施等離子體處理的等離子體處理裝置中，該閘閥裝置包括: 閥體，其用于開(kāi)閉所述開(kāi)口部； 閥體移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述閥體移動(dòng)來(lái)通過(guò)所述閥體開(kāi)閉所述開(kāi)口部； 導(dǎo)電性的閥座部件，其為具有開(kāi)口的框狀，安裝于所述處理容器中的所述開(kāi)口部的周?chē)谋?，在通過(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下介于所述閥體與所述處理容器之間； 第一氣密密封部件，其在通過(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下，介于所述閥體與閥座部件之間而將它們之間氣密地密封； 第一導(dǎo)電性部件，其在通過(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下，介于所述閥體與閥座部件之間而將它們之間電連接； 第二氣密密封部件，其設(shè)置成包圍所述開(kāi)口部，介于所述閥座部件與所述處理容器之間而將它們之間氣密地密封；和 第二導(dǎo)電性部件，其設(shè)置成包圍所述開(kāi)口部，介于所述閥座部件與所述處理容器之間而將它們之間電連接， 所述閥體包括:主體部；和由與該主體部不同的導(dǎo)電性材料構(gòu)成的，與所述第一導(dǎo)電性部件抵接的第一抵接部， 所述閥座部件包括:閥座主體；和由與該閥座主體不同的導(dǎo)電性材料構(gòu)成的，與所述第一導(dǎo)電性部件抵接的第二抵接部， 所述第一導(dǎo)電性部件、所述第一抵接部和所述第二抵接部由相同材料形成。
4.如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的閘閥裝置，其特征在于: 所述第二導(dǎo)電性部件由與所述第一導(dǎo)電性部件相同的材料形成。
5.如權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的閘閥裝置，其特征在于: 所述第一導(dǎo)電性部件和所述第二導(dǎo)電性部件由不銹鋼形成。
6.如權(quán)利要求1?5中任一項(xiàng)所述的閘閥裝置,其特征在于: 設(shè)置成在通過(guò)所述閥體將所述開(kāi)口部關(guān)閉了的狀態(tài)下，第一導(dǎo)電性部件包圍所述第一氣密密封部件。
7.如權(quán)利要求1?6中任一項(xiàng)所述的閘閥裝置，其特征在于: 第二導(dǎo)電性部件設(shè)置成包圍所述第二氣密密封部件。
8.一種等離子體處理裝置，其特征在于: 具備權(quán)利要求1?7中任一項(xiàng)所述的閘閥裝置。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種閘閥裝置，其能夠確保閥體和處理容器的導(dǎo)通，并且降低閥體和處理容器的損傷，抑制金屬顆粒的產(chǎn)生。閥座板(204)為框狀，具有與基板搬送用開(kāi)口(1b1)基本同等大小的開(kāi)口(204a)。閥座板(204)由金屬等導(dǎo)電性材料構(gòu)成，在由閥體(202)將基板搬送用開(kāi)口(1b1)關(guān)閉的狀態(tài)下介于閥體(202)與處理容器(1)之間。由與閥座板(204)同種的金屬材料構(gòu)成屏蔽環(huán)(232、242)，由此減少異種金屬間的接觸，抑制金屬顆粒的產(chǎn)生。
【IPC分類(lèi)】H01J37-18, H01J37-32
【公開(kāi)號(hào)】CN104576283
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410569365
【發(fā)明人】鍋山裕樹(shù), 田中誠(chéng)治
【申請(qǐng)人】東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2014年10月22日