技術(shù)編號：8262054
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。為了對FPD(平板顯示器)用的玻璃基板等被處理基板在真空條件下進行等離子體蝕刻、等離子體灰化、等離子體成膜等處理，使用等離子體處理裝置。等離子體處理裝置例如能夠構(gòu)成為具備對基板進行處理的處理模塊、收納有進行向處理模塊搬入基板和從處理模塊搬出基板的搬送裝置的搬送模塊、和設(shè)置在處理模塊與搬送模塊之間的閘閥裝置等的真空處理系統(tǒng)的一部分。處理模塊具有用于在搬入或搬出基板時使基板通過的開口部。設(shè)置在處理模塊與搬送模塊之間的閘閥裝置具有使處理模塊的開口部開閉的閥體。通...
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