等離子體處理裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明用于在等離子體處理裝置內(nèi)部堅固地固定基板托盤，特別涉及一種等離子體處理裝置，能夠應(yīng)用于在室的下部形成有等離子體的方式的等離子體處理裝置，把基板托盤固定于室內(nèi)。
【背景技術(shù)】
[0002]—般而言，在用于半導(dǎo)體的晶片及要求精密的薄膜加工工序中，使用利用了等離子體的蝕刻和沉積法，提尚制品的精密度。
[0003]如此產(chǎn)生等離子體的等離子體處理裝置，由形成外形的室和安裝于室的外側(cè)的天線及使晶片放置于室內(nèi)部的卡盤構(gòu)成。
[0004]由此，所述的天線供應(yīng)高頻，借助于高頻而在室內(nèi)部形成有等離子體，對放置于卡盤的晶片進彳丁加工。
[0005]以往的等離子體處理裝置在室上部形成等離子體，在下部固定托盤，利用等離子體蝕刻安放于托盤的晶片(基板)。這存在的問題是，在室上部發(fā)生的工序副產(chǎn)物借助于重力而落于基板，因此，工序副產(chǎn)物對基板的工序造成影響，蝕刻作業(yè)無法順利進行，因而發(fā)生不良。
[0006]為了解決這種問題，提出了在室的上部固定托盤、在下部形成等離子體的方案。由此，消除了因工序副產(chǎn)物落于基板而發(fā)生不良的問題，但基板與以往朝向上面的情形相反，而是朝向下面，在把托盤堅固地固定于室的上部方面發(fā)生問題。
[0007]以往的日本專利公開公報2004-285469 A提出“載置架處理裝置及方法”。但是，在這種現(xiàn)有文獻中，只公開了在平行平板式電極之間接入高頻電力并產(chǎn)生等離子體，借助于該等離子體而使工程氣體激活，在較低溫度下進行既定的成膜處理或蝕刻處理，并未針對在室內(nèi)部堅固地固定基板托盤的手段進行公開。
[0008]作為所述【背景技術(shù)】而說明的事項，只是為了增進對本發(fā)明的背景的理解，不得視為承認屬于該所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員已知的以往技術(shù)。
[0009]現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0010]專利文獻
[0011]專利文獻1:日本專利公開公報JP 2004-285469 A

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]本發(fā)明正是為了解決這種問題而研發(fā)的，其目的在于提供一種等離子體處理裝置，針對在室的下部形成有等離子體的方式的等離子體處理裝置，在室內(nèi)部堅固地固定基板托盤，使得基板托盤的周邊工序環(huán)境均一，在蝕刻作業(yè)時使出錯實現(xiàn)最少化。
[0013]旨在達成所述目的的本發(fā)明的等離子體處理裝置包括:室，其具備供等離子體生成的空間，在上端壁部的下端固定有卡盤；第I夾具組件，其安裝于所述室的上端壁部，配備有供基板托盤安放的第I夾具，配備得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，從而當上升運轉(zhuǎn)時，使得基板托盤接觸卡盤并固定；及第2夾具組件，其安裝于所述室的上端壁部，配備得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，當包圍所述第I夾具與基板托盤地形成的第2夾具上升運轉(zhuǎn)時，使得基板托盤與第I夾具一同貼緊卡盤。
[0014]本發(fā)明的另一特征在于，所述室在上端壁部固定有卡盤，工程氣體從下端壁部向上方供應(yīng)，側(cè)端壁部的上側(cè)，天線配備于下側(cè)。
[0015]本發(fā)明的另一特征在于，所述第I夾具組件包括:第I長度調(diào)節(jié)部，其固定安裝于所述室的上端壁部上端，長度沿上下方向可變；第I運轉(zhuǎn)部，其位于所述第I長度調(diào)節(jié)部的上側(cè)，連接有第I長度調(diào)節(jié)部，借助于第I長度調(diào)節(jié)部而上下移動；第I支撐部，其從所述第I運轉(zhuǎn)部向下方延長，貫通室的上端壁部，在延長的末端，具備在室的內(nèi)部供基板托盤安放的第I夾具。
[0016]其特征在于，所述第I長度調(diào)節(jié)部包括:缸，其固定于室上端壁部；活塞桿，其配備得在缸中沿上下方向升降，且連接有第I運轉(zhuǎn)部。
[0017]本發(fā)明的另一特征在于，所述第I運轉(zhuǎn)部與室的上端壁部水平地配置，在中心連接有所述第I長度調(diào)節(jié)部，從中心呈輻射狀延長形成有構(gòu)成相同長度和等角的至少兩個以上的第I連接臂，并連接有第I支撐部。
[0018]本發(fā)明的另一特征在于，所述第I運轉(zhuǎn)部的第I連接臂能夠彈性彎曲地形成。
[0019]本發(fā)明的另一特征在于，所述第I運轉(zhuǎn)部從中心呈輻射狀延長形成有三個第I連接臂。
[0020]本發(fā)明的另一特征在于，所述第I支撐部的一端連接于第I運轉(zhuǎn)部的第I連接臂，另一端向下方延長而其末端位于比室內(nèi)部的卡盤更下側(cè)，在另一端配備有朝向室的中央以凸緣形態(tài)延長的第I夾具。
[0021]本發(fā)明的另一特征在于，連接于所述多個第I連接臂的各個第I支撐部，連接于以環(huán)形態(tài)形成的連接環(huán)的外周。
[0022]本發(fā)明的另一特征在于，所述連接環(huán)在第I支撐部的延長的末端連接于比第I夾具更上側(cè)。
[0023]本發(fā)明的另一特征在于，在所述室中形成有引導(dǎo)支撐部，所述引導(dǎo)支撐部固定安裝于上端壁部的上端，向上方延長，連接有第I夾具組件與第2夾具組件，從而使得第I夾具組件和第2夾具組件向相同方向升降，在延長的末端配備有固定面板。
[0024]所述第2夾具組件包括:第2長度調(diào)節(jié)部，其固定安裝于固定面板的下端，長度沿上下方向可變；第2運轉(zhuǎn)部，其位于所述第2長度調(diào)節(jié)部的下側(cè)，連接有第2長度調(diào)節(jié)部，借助于第2長度調(diào)節(jié)部而向上下移動；第2支撐部，其從所述第2運轉(zhuǎn)部向下方延長，貫通室的上端壁部，在延長的末端，具備在室的內(nèi)部一同包圍第I夾具與基板托盤的第2夾具。
[0025]本發(fā)明的另一特征在于，所述第2長度調(diào)節(jié)部包括:缸，其固定于第2運轉(zhuǎn)部；活塞桿，其配備得在缸中沿上下方向升降，連接于固定面板。
[0026]本發(fā)明的另一特征在于，所述第2運轉(zhuǎn)部與室的上端壁部水平地配置，在中心連接有所述第2長度調(diào)節(jié)部，從中心呈輻射狀延長形成有構(gòu)成相同長度和等角的至少兩個以上的第2連接臂，連接有第2支撐部。
[0027]本發(fā)明的另一特征在于，所述第2運轉(zhuǎn)部的第2連接臂能夠彈性彎曲地形成。
[0028]本發(fā)明的另一特征在于，所述第2支撐部一端連接于第2運轉(zhuǎn)部的第2連接臂，另一端向下方延長，其末端位于比第I夾具更下側(cè)，在另一端配備有以環(huán)形態(tài)形成并包圍第I夾具與基板托盤的第2夾具。
[0029]本發(fā)明的另一特征在于，所述第2夾具以環(huán)形態(tài)形成，在外周形成有供第I夾具容納的插入槽和供基板托盤安放的支撐槽。
[0030]本發(fā)明的另一特征在于，在所述引導(dǎo)支撐部的固定面板上，形成有向下方延長并位于第I運轉(zhuǎn)部上側(cè)的停止部，從而使得第I運轉(zhuǎn)部在向上方過度移動時接觸停止部并限制移動。
[0031]本發(fā)明的另一特征在于，還配備有盒模塊，所述盒模塊具備在底面兩側(cè)對稱的板，并具備:在兩板上沿上下方向構(gòu)成多段，且朝向相互相向的方向凸出的支撐架；放置架，其安放于所述支撐架，在中央部，以比基板托盤外周更小的外周形成有移送槽，前方以與移送槽相接的方式開放，沿著移送槽的外周形成有供基板托盤安放的安放槽；移送組件，其將安放于所述放置架的基板托盤移送到所述室內(nèi)而安放于第I夾具組件。
[0032]本發(fā)明的另一特征在于，所述盒模塊設(shè)有安裝于支撐架的傳感器部，所述傳感器部判斷安放于支撐架的基板托盤的有無。
[0033]本發(fā)明的另一特征在于，所述移送組件以平面形成，以便與基板托盤的下面接觸，在外周配備有防止基板托盤滑動的橡膠墊，在中央形成有用于分散負載的分散孔。
[0034]另一方面，旨在達成所述目的的本發(fā)明的晶片固定裝置包括:其特征在于，包括:第I夾具組件，其配備有供基板托盤安放的第I夾具，配備得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，從而當運轉(zhuǎn)時，使得基板托盤接觸室內(nèi)的卡盤并固定；及第2夾具組件，其與所述第I夾具組件獨立地配備，使得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，具備包圍所述第I夾具和基板托盤地形成的第2夾具，運轉(zhuǎn)時，使得基板托盤與第I夾具一同貼緊室內(nèi)的卡盤。
[0035]發(fā)明效果
[0036]由如上所述結(jié)構(gòu)構(gòu)成的等離子體處理裝置，針對在室的下部形成等離子體的方式的等離子體處理裝置，在室內(nèi)部堅固地固定基板托盤，使得基板托盤的周邊工序環(huán)境均一，在蝕刻作業(yè)時使出錯實現(xiàn)最少化。
[0037]另外，提供作為用于向室內(nèi)部移送基板托盤的手段的盒，使得容易把裝載于盒的基板托盤移送到室內(nèi)，增大作業(yè)效率。
【附圖說明】
[0038]圖1是顯示本發(fā)明一實施例的等離子體處理裝置的圖