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一種晶閘管用引線框架的制作方法

文檔序號(hào):12451058閱讀:547來源:國(guó)知局
一種晶閘管用引線框架的制作方法與工藝

本實(shí)用新型涉及一種金屬框架,特別涉及一種引線框架。



背景技術(shù):

隨著我國(guó)電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,新型的封裝技術(shù)的升級(jí)發(fā)展,對(duì)半導(dǎo)體封裝引線框架材料的要求也愈來愈苛刻,國(guó)內(nèi)引線框架的材料與國(guó)外同類產(chǎn)品相比,生產(chǎn)上存在品種規(guī)格少,性能不穩(wěn)定,產(chǎn)業(yè)化規(guī)模小等一系列問題;在板型的狀況、殘余內(nèi)應(yīng)力、表面光潔度、邊部毛刺、寬度和厚度公差超差、外觀要求不合格等方面存在不足,與國(guó)外產(chǎn)品存在較大的差距,以上的種種現(xiàn)象對(duì)國(guó)內(nèi)引線框架市場(chǎng)起了一定程度的影響。

當(dāng)今計(jì)算機(jī)和信息工業(yè)已成為世界各工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家的主導(dǎo)產(chǎn)業(yè)之一,集成電路和電子分立器件是現(xiàn)代化電子信息的工業(yè)技術(shù)核心,是電子計(jì)算機(jī)、信息工業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ),隨著電子信息元件向輕、薄、短、小化方向發(fā)展,從而也促進(jìn)了引線框架的生產(chǎn)技術(shù)的進(jìn)步和發(fā)展,不僅合金材料品種增多、厚度減薄,而且外形品種也不斷的增加。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的是提供一種晶閘管用引線框架,提高芯片制造的精度,保證鍵合過程中焊接牢度以形成良好的歐姆接觸。

本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種晶閘管用引線框架,包括銅片基板,基板上開設(shè)有定位孔,基板的一側(cè)經(jīng)底筋連接有若干結(jié)構(gòu)相同的封裝組件,所述封裝組件包括第一引腳、第二引腳、第三引腳以及方形基島,所述基島與第二引腳固定連接,第一引腳、第二引腳、第三引腳之間經(jīng)中筋連接在一起,第一引腳伸入基島的一側(cè)設(shè)置,第三引腳伸入基島的底部設(shè)置,第一引腳的端部、第三引腳的端部均鍍有銀質(zhì)保護(hù)層。

本實(shí)用新型使用時(shí),將本實(shí)用新型通過基板上的定位孔固定好位置,再將芯片貼合在封裝組件上,可通過導(dǎo)電膠工藝將芯片與封裝組件進(jìn)行固定連接,從而形成良好的歐姆接觸,固定完成后,將封裝組件的引腳斷開,形成封裝組件與芯片的固定連接,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果在于,本實(shí)用新型提高了芯片封裝的精度,保證鍵合過程中焊接牢度以形成良好的歐姆接觸。本實(shí)用新型可用于芯片生產(chǎn)制造中。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步限定,所述基板的厚度為0.10-0.15mm。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步限定,所述基島為正方形,且邊長(zhǎng)為2.0-2.5mm。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型中封裝組件放大示意圖。

其中,1基板,1a定位孔,2底筋,3中筋,4封裝組件,4a第一引腳,4b第二引腳,4c第三引腳,4d基島,4e銀質(zhì)保護(hù)層。

具體實(shí)施方式

如圖1-2所示的一種晶閘管用引線框架,包括銅片基板1,基板1上開設(shè)有定位孔1a,基板1的一側(cè)經(jīng)底筋2連接有若干結(jié)構(gòu)相同的封裝組件4,封裝組件4包括第一引腳4a、第二引腳4b、第三引腳4c以及方形基島4d,基島4d與第二引腳4b固定連接,第一引腳4a、第二引腳4b、第三引腳4c之間經(jīng)中筋3連接在一起,第一引腳4a伸入基島4d的一側(cè)設(shè)置,第三引腳4c伸入基島4d的底部設(shè)置,第一引腳4a的端部、第三引腳4c的端部均鍍有銀質(zhì)保護(hù)層4e,基板1的厚度為0.10-0.15mm,基島4d為正方形,且邊長(zhǎng)為2.0-2.5mm。

本實(shí)用新型使用時(shí),將本實(shí)用新型通過基板1上的定位孔1a固定好位置,再將芯片貼合在封裝組件4上,可通過導(dǎo)電膠工藝將芯片與封裝組件4進(jìn)行固定連接,從而形成良好的歐姆接觸,固定完成后,將封裝組件4的引腳斷開,形成封裝組件4與芯片的固定連接。

本實(shí)用新型并不局限于上述實(shí)施例,在本實(shí)用新型公開的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,本領(lǐng)域的技術(shù)人員根據(jù)所公開的技術(shù)內(nèi)容,不需要?jiǎng)?chuàng)造性的勞動(dòng)就可以對(duì)其中的一些技術(shù)特征作出一些替換和變形,這些替換和變形均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。

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