技術(shù)特征：

1.一種光檢測(cè)裝置，包括：

圖案化金屬層，形成于一基板上方；

保護(hù)層，形成于該基板上方且暴露出部分該圖案化金屬層；

多個(gè)彩色濾光元件，形成于該保護(hù)層上；和

圖案化無(wú)機(jī)濾光層，形成于該些彩色濾光元件上方。

2.如權(quán)利要求1所述的光檢測(cè)裝置，還包括一中間層，形成于該保護(hù)層上和位于該圖案化金屬層的該些暴露部分之外，其中該中間層位于該些彩色濾光元件和該圖案化無(wú)機(jī)濾光層之間。

3.如權(quán)利要求2所述的光檢測(cè)裝置，其中該中間層全面地覆蓋該些彩色濾光元件。

4.如權(quán)利要求2所述的光檢測(cè)裝置，其中該中間層包括一平坦層、二氧化硅層、四乙基硅烷層、富硅氧化層、等離子體增強(qiáng)氧化層和旋轉(zhuǎn)涂布玻璃膜層至少其中一者。

5.如權(quán)利要求2所述的光檢測(cè)裝置，其中該中間層以一低溫化學(xué)氣相沉積制作工藝形成。

6.如權(quán)利要求2所述的光檢測(cè)裝置，其中該中間層于溫度100℃到300℃之間沉積于該保護(hù)層上。

7.如權(quán)利要求2所述的光檢測(cè)裝置，其中該中間層的一厚度在到之間。

8.如權(quán)利要求7所述的光檢測(cè)裝置，其中各該彩色濾光元件的一厚度在0.5μm到2.5μm之間。

9.如權(quán)利要求1所述的光檢測(cè)裝置，其中該圖案化無(wú)機(jī)濾光層包括：

第一無(wú)機(jī)層，形成于一第一光檢測(cè)區(qū)域，該第一光檢測(cè)區(qū)域具有至少的該些彩色濾光元件的一堆疊；和

第二無(wú)機(jī)層，形成于一第二光檢測(cè)區(qū)域，該第二光檢測(cè)區(qū)域具有排列為一陣列的該些彩色濾光元件。

10.如權(quán)利要求9所述的光檢測(cè)裝置，還包括一中間層，覆蓋位于該第一光檢測(cè)區(qū)域和該第二光檢測(cè)區(qū)域的所有該些彩色濾光元件，其中該第一無(wú)機(jī)層和該第二無(wú)機(jī)層形成于該中間層上并分別對(duì)應(yīng)該第一光檢測(cè)區(qū)域和該 第二光檢測(cè)區(qū)域。

11.如權(quán)利要求9所述的光檢測(cè)裝置，其中該第一無(wú)機(jī)層與該第二無(wú)機(jī)層分隔開來。

12.如權(quán)利要求1所述的光檢測(cè)裝置，其中該圖案化無(wú)機(jī)濾光層為一多層膜結(jié)構(gòu)。

13.如權(quán)利要求1所述的光檢測(cè)裝置，其中該圖案化無(wú)機(jī)濾光層至少包括多個(gè)第一無(wú)機(jī)材料層和第二無(wú)機(jī)材料層交替堆疊而成，且該些第一無(wú)機(jī)材料層的第一介電系數(shù)不同于該些第二無(wú)機(jī)材料層的第二介電系數(shù)。

14.一種光檢測(cè)裝置的制造方法，包括：

提供一基板，且該基板具有一圖案化金屬層形成于其上方；

形成一保護(hù)層于該基板上方且暴露出部分該圖案化金屬層；

形成多個(gè)彩色濾光元件于該保護(hù)層上；和

形成一圖案化無(wú)機(jī)濾光層于該些彩色濾光元件上方。

15.如權(quán)利要求14所述的制造方法，還包括形成一中間層于該些彩色濾光元件上，且該圖案化無(wú)機(jī)濾光層形成于該中間層上，其中該中間層全面地覆蓋該些彩色濾光元件。

16.如權(quán)利要求15所述的制造方法，其中該中間層包括一平坦層、二氧化硅層、四乙基硅烷層、富硅氧化層、等離子體增強(qiáng)氧化層和旋轉(zhuǎn)涂布玻璃膜層至少其中一者。

17.如權(quán)利要求15所述的制造方法，其中該中間層于溫度100℃到300℃之間沉積于該保護(hù)層上。

18.如權(quán)利要求15所述的制造方法，其中該中間層的一厚度在到之間。

19.如權(quán)利要求14所述的制造方法，其中該圖案化無(wú)機(jī)濾光層包括：

第一無(wú)機(jī)層，形成于一第一光檢測(cè)區(qū)域，該第一光檢測(cè)區(qū)域具有至少的該些彩色濾光元件的一堆疊；和

第二無(wú)機(jī)層，形成于一第二光檢測(cè)區(qū)域，該第二光檢測(cè)區(qū)域具有排列為一陣列的該些彩色濾光元件，

其中該第一無(wú)機(jī)層和該第二無(wú)機(jī)層依序形成。

20.如權(quán)利要求19所述的制造方法，還包括形成一中間層覆蓋位于該第一光檢測(cè)區(qū)域和該第二光檢測(cè)區(qū)域的所有該些彩色濾光元件，其中該第一無(wú) 機(jī)層和該第二無(wú)機(jī)層形成于該中間層上并分別對(duì)應(yīng)該第一光檢測(cè)區(qū)域和該第二光檢測(cè)區(qū)域。

21.如權(quán)利要求14所述的制造方法，還包括：

形成微透鏡于該圖案化無(wú)機(jī)濾光層上方。

22.如權(quán)利要求21所述的制造方法，還包括：

形成一平坦層以覆蓋該圖案化無(wú)機(jī)濾光層，其中該些微透鏡形成于該平坦層上。

23.如權(quán)利要求14所述的制造方法，還包括：

形成微透鏡于該些彩色濾光元件上，其中該圖案化無(wú)機(jī)濾光層在不使該些微透鏡形變的溫度下形成于該些微透鏡上。