熒光檢測(cè)方法
【專利摘要】本發(fā)明揭露一種熒光檢測(cè)方法，首先將熒光檢測(cè)試劑加入樣品中。將樣品盛裝至一樣品盤中，其中樣品盤包含至少一列背景樣品孔，以及至少一列待測(cè)樣品孔。以一背景光源照射樣品盤。取得樣品盤的一背景灰階影像。均值濾波背景灰階影像。二值化背景灰階影像。根據(jù)二值化后的背景灰階影像，計(jì)算出此列背景樣品孔的邊緣位置。根據(jù)此列背景樣品孔的邊緣位置，計(jì)算出此列待測(cè)樣品孔的邊緣位置。取得位于此列背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并將其平均作為一背景信號(hào)臨界值。根據(jù)背景信號(hào)臨界值對(duì)此列待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)。
【專利說明】熒光檢測(cè)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明與包含酶或微生物的測(cè)定或檢驗(yàn)方法有關(guān)，特別是有關(guān)于一種熒光檢測(cè)方法。
【背景技術(shù)】
[0002]利用熒光，是檢測(cè)核酸的一種技術(shù)。是利用適當(dāng)波長的光照射具有熒光性質(zhì)的樣品，樣品會(huì)吸收光的能量而被激發(fā)至高能量狀態(tài)，并在極短時(shí)間內(nèi)回復(fù)低能量狀態(tài)，同時(shí)以放光的形式將多余能量釋出。當(dāng)樣品上結(jié)合有熒光或可呈色的化學(xué)物質(zhì)，便能提供光源，使化學(xué)物質(zhì)產(chǎn)生熒光反應(yīng)。借此，由外部觀察是否有熒光反應(yīng)，便能知道樣品有沒有結(jié)合化學(xué)物質(zhì)，或者是結(jié)合化學(xué)物質(zhì)的樣品是否存在。
[0003]已知的熒光技術(shù)系統(tǒng)通常包含一激發(fā)光源、一感光元件、一聚光裝置。當(dāng)光源照射在樣品上，樣品吸收能量產(chǎn)生光致熒光效應(yīng)后發(fā)出熒光，但因?yàn)闊晒庑盘?hào)微弱且亦受其他光源干擾如激發(fā)光源，需通過聚光裝置收集后才能由感光元件感測(cè)。上述的聚光裝置通常由多片透鏡、反射鏡及放射光濾片(Emission Filter)組成，其光路復(fù)雜且不容易精確。而且光源通常為汞燈、氙燈或鹵素?zé)舻?，雖其發(fā)光波長涵蓋范圍長，但激發(fā)光源需針對(duì)不同的熒光指示劑下去做選擇波段，所以還必須使用不同濾鏡做搭配，耗費(fèi)成本高且激發(fā)能量弱。而感光元件感測(cè)光信號(hào)后將其轉(zhuǎn)為電流信號(hào)，又需通過轉(zhuǎn)阻放大器(Trans-1mpedanceAmplifier, TIA)將此電流信號(hào)轉(zhuǎn)換為模擬電壓信號(hào)，再利用模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換電路(Analog toDigital Converter, ADC)將模擬電壓信號(hào)轉(zhuǎn)為數(shù)字電壓信號(hào)，才能得出所需的實(shí)驗(yàn)要據(jù)，如此一來手續(xù)繁雜又需增加額外成本支出。
[0004]一般由外部判斷熒光反應(yīng)的技術(shù)，是直接接收熒光，當(dāng)熒光強(qiáng)度高于特定值，便視為有熒光反應(yīng)。然而接收熒光的技術(shù)，容易受環(huán)境影響，難有穩(wěn)定的準(zhǔn)確度。且已知的熒光檢測(cè)技術(shù)裝置大體上為體積龐大的復(fù)雜系統(tǒng)，攜帶不便，如有須檢測(cè)的樣品需帶回實(shí)驗(yàn)室才有辦法進(jìn)行檢測(cè)，浪費(fèi)時(shí)間且麻煩。
[0005]有鑒于上述問題，本發(fā)明提供了一種方便且檢測(cè)準(zhǔn)確度更為穩(wěn)定的一種熒光檢測(cè)方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]因此本發(fā)明的一目的在于提供一種熒光檢測(cè)方法，利用灰階影像與比對(duì)技術(shù)準(zhǔn)確快速地分辨出樣品是否有熒光信號(hào)。
[0007]將熒光檢測(cè)試劑加入樣品中；將樣品盛裝至一樣品盤中。其中該樣品盤包含至少一列背景樣品孔。以及至少一列待測(cè)樣品孔。以一背景光源照射該樣品盤。取得該樣品盤的一背景灰階影像。
[0008]根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施方式，上述熒光檢測(cè)方法還包含下述步驟。均值濾波背景灰階影像。二值化背景灰階影像。根據(jù)二值化后的背景灰階影像，計(jì)算出背景樣品孔的邊緣位置。根據(jù)背景樣品孔的邊緣位置，計(jì)算出待測(cè)樣品孔的邊緣位置。取得位于背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并將其平均，作為一背景信號(hào)臨界值。根據(jù)待測(cè)樣品孔的邊緣位置以及背景信號(hào)臨界值，對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)。
[0009]依據(jù)本發(fā)明又一實(shí)施方式，上述對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)的步驟，包含以背景光源照射樣品盤；取得樣品盤的一待測(cè)灰階影像。均值濾波待測(cè)灰階影像，取得位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)。逐個(gè)判斷位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)是否大于背景信號(hào)臨界值；以及當(dāng)位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)大于背景信號(hào)臨界值時(shí)，判斷為讀出熒光信號(hào)。
[0010]依據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，上述對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)的步驟，還包含根據(jù)待測(cè)灰階影像，取得位于背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)；根據(jù)位于背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，判斷是否讀出光源信號(hào)，當(dāng)未讀出光源信號(hào)時(shí)，判斷為異常狀況，并終止實(shí)驗(yàn)。
[0011]依據(jù)本發(fā)明再一實(shí)施方式，其中對(duì)于取得樣品盤的背景灰階影像的步驟是以電荷率禹合元件(Charge-couple Device, CO))或互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體(ComplementaryMetal Oxide Semiconductor, CMOS)等光感測(cè)器為之。
[0012]依據(jù)本發(fā)明又一實(shí)施方式，其中背景樣品孔上覆蓋有一減光片或偏光片，且待測(cè)樣品孔上覆蓋有一突光濾鏡。而背景光源為一發(fā)光二極管或一激光光源，且背景光源照射樣品盤的方向，是選自樣品盤的上方、側(cè)邊、下方、及其組合。
[0013]根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式是在提供一種熒光檢測(cè)方法包含下述步驟。均值濾波背景灰階影像。二值化背景灰階影像。根據(jù)二值化后的背景灰階影像，計(jì)算出背景樣品孔的邊緣位置。根據(jù)背景樣品孔的邊緣位置，計(jì)算出待測(cè)樣品孔的邊緣位置。取得位于背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并將其平均，作為一背景信號(hào)臨界值。根據(jù)待測(cè)樣品孔的邊緣位置以及背景信號(hào)臨界值，對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)。其中對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)的步驟，包含以背景光源照射該樣品盤。以相異曝光的時(shí)間取得該樣品盤的多個(gè)待測(cè)灰階影像。均值濾波待測(cè)灰階影像。取得位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)。逐個(gè)判斷位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)是否大于背景信號(hào)臨界值。以及當(dāng)位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)大于背景信號(hào)臨界值時(shí)，判斷為讀出熒光信號(hào)。
[0014]依據(jù)本發(fā)明再一實(shí)施方式，上述其中取得樣品盤的待測(cè)灰階影像可為兩次、三次、四次或以上，且曝光時(shí)間隨著待測(cè)樣品距離光感測(cè)器遞增而遞增，通過擷取待測(cè)灰階影像的時(shí)間相異以浮動(dòng)方式讓起始測(cè)量值一致。
[0015]根據(jù)本發(fā)明又一實(shí)施方式是在提供一種熒光檢測(cè)方法包含下述步驟。一定位步驟。均值濾波背景灰階影像。二值化背景灰階影像。根據(jù)二值化后的背景灰階影像，計(jì)算出背景樣品孔的邊緣位置。根據(jù)背景樣品孔的邊緣位置，計(jì)算出待測(cè)樣品孔的邊緣位置。取得位于背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并將其平均，作為一背景信號(hào)臨界值。根據(jù)待測(cè)樣品孔的邊緣位置以及背景信號(hào)臨界值，對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)。
[0016]依據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中該定位步驟包含直接由樣品管內(nèi)的樣品透出光定位。
[0017]依據(jù)本發(fā)明又一實(shí)施方式，其中該定位步驟包含實(shí)驗(yàn)前樣品孔座標(biāo)定位。
[0018]依據(jù)本發(fā)明再一實(shí)施方式，其中該定位步驟包含由樣品管加上一減光片或一偏光做樣品管定位。[0019]依據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中該定位步驟包含外加至少兩光源輔助定位。
[0020]借此，本發(fā)明的熒光信號(hào)讀取作業(yè)不易受環(huán)境的影響，且移動(dòng)后的熒光信號(hào)讀取作業(yè)也可以通過定位步驟做測(cè)量的校準(zhǔn)；且本發(fā)明方法的穩(wěn)定度與準(zhǔn)確度高。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]圖1繪示本發(fā)明一實(shí)施方式的熒光檢測(cè)方法的流程圖；
[0022]圖2繪示本發(fā)明一實(shí)施方式的熒光檢測(cè)方法的流程圖；
[0023]圖3繪示圖1的對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)的流程圖；
[0024]圖4繪示對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)的另一實(shí)施方式流程圖；
[0025]圖5繪示應(yīng)用本發(fā)明的實(shí)施方式熒光感測(cè)裝置示意圖；
[0026]圖6繪示多次取得樣品盤的待測(cè)灰階影像的整合示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0027]圖1繪示本發(fā)明一實(shí)施方式是在提供一種熒光檢測(cè)方法，包含下述步驟。將熒光檢測(cè)試劑加入樣品中。將樣品盛裝至一樣品盤中，其中樣品盤包含至少一列背景樣品孔，以及至少一列待測(cè)樣品孔。以一背景光源照射樣品盤。取得樣品盤的一背景灰階影像。請(qǐng)參照?qǐng)D2，如上述的熒光檢測(cè)方法還包含下述步驟。均值濾波背景灰階影像。二值化背景灰階影像。根據(jù)二值化后的背景灰階影像，計(jì)算出背景樣品孔的邊緣位置。根據(jù)背景樣品孔的邊緣位置，計(jì)算出待測(cè)樣品孔的邊緣位置。取得位于背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并將其平均，作為一背景信號(hào)臨界值。根據(jù)待測(cè)樣品孔的邊緣位置以及背景信號(hào)臨界值，對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)。
[0028]其中前述的樣品，能結(jié)合熒光或可呈色的化學(xué)物質(zhì)。但不確定其中有多少部分已結(jié)合前述的化學(xué)物質(zhì)，亦不知有多少部分未結(jié)合。因此需要利用前述方法分析。
[0029]其中取得灰階影像的技術(shù)，是取得背景光源中穿過背景樣品孔的可見光影像，再分析影像中每個(gè)像素的亮度所得。其中均值濾波的技術(shù)，是將背景灰階影像分割成多個(gè)由4x4立方的16像素組成的區(qū)塊。將16個(gè)像素的灰階值相加后除以16，再用此值表示此區(qū)塊的灰階值，便能完成均值濾波的技術(shù)。其中二值化的技術(shù)是將大于臨界灰階值的區(qū)塊設(shè)定為極大值，也就是黑色；將小于臨界灰階值的區(qū)塊設(shè)定為極小值，也就是白色，進(jìn)而完成二值化。且臨界灰階值并非固定數(shù)值，而是依照使用者需求而調(diào)整，故于此不討論之。
[0030]背景光源所發(fā)射的光線會(huì)透過背景樣品孔，因此當(dāng)背景灰階影像二值化而成黑白畫面后，便能利用白色的發(fā)光部分在背景灰階影像上找到背景樣品孔的邊緣，并確定背景樣品孔的位置。由于早已知道背景樣品孔與待測(cè)樣品孔的尺寸與位置等相對(duì)關(guān)系，因此能根據(jù)背景樣品孔的邊緣與位置，在背景灰階影像上標(biāo)示出待測(cè)樣品孔的邊緣與位置。
[0031]圖3繪示圖2的對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)的流程圖。根據(jù)背景灰階影像中背景樣品孔在二值化前的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，取平均值設(shè)定為背景信號(hào)臨界值。利用背景信號(hào)臨界值，便能對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)，判斷待測(cè)樣品孔中是否有熒光反應(yīng)，其方法如下。以背景光源照射樣品盤。取得樣品盤的一待測(cè)灰階影像。均值濾波待測(cè)灰階影像。取得位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)。逐個(gè)判斷位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)是否大于背景信號(hào)臨界值。當(dāng)位于各待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)大于背景信號(hào)臨界值時(shí)，判斷為讀出熒光信號(hào)。
[0032]圖4是繪示本發(fā)明的另一實(shí)施方式流程圖，其對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)的步驟如下，以背景光源照射樣品盤。以相異曝光的時(shí)間取得該樣品盤的多個(gè)待測(cè)灰階影像。均值濾波待測(cè)灰階影像。取得位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)。逐個(gè)判斷位于待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)是否大于背景信號(hào)臨界值。當(dāng)位于各待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)大于背景信號(hào)臨界值時(shí)，判斷為讀出熒光信號(hào)。
[0033]圖5及圖6為應(yīng)用本發(fā)明一實(shí)施方式的一突光感測(cè)裝置400不意圖及繪不多次取得樣品盤的待測(cè)灰階影像的整合示意圖。其中圖6詳細(xì)說明其取得樣品盤的待測(cè)灰階影像的步驟。第一次取得樣品盤的一待測(cè)灰階影像，其光感測(cè)器500擷取待測(cè)灰階影像的曝光時(shí)間為2秒。第二次取得樣品盤的一待測(cè)灰階影像，其光感測(cè)器500擷取待測(cè)灰階影像的曝光時(shí)間為4秒。第三次取得樣品盤的一待測(cè)灰階影像，其光感測(cè)器500擷取待測(cè)灰階影像的曝光時(shí)間為6秒。第四次取得樣品盤的一待測(cè)灰階影像，其光感測(cè)器500擷取待測(cè)灰階影像的曝光時(shí)間為8秒。由圖6中可以看到光感測(cè)器500感測(cè)超過背景信號(hào)臨界值的待測(cè)樣品410，隨著時(shí)間變化而不同，以黑色實(shí)心表待測(cè)樣品410已到達(dá)背景信號(hào)臨界值，離光感測(cè)器500越遠(yuǎn)的待測(cè)樣品410其大于背景信號(hào)臨界值的時(shí)間需越長，所以需使用此曝光時(shí)間隨著所述多個(gè)待測(cè)樣品距離光感測(cè)器遞增而遞增的方法，能避免不同待測(cè)樣品410起始背景信號(hào)臨界值的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)上的誤差，但如果曝光時(shí)間太久，離光感測(cè)器500越近的待測(cè)樣品410其所得的灰階影像會(huì)影響整個(gè)實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確及一致性。最后將這四次所感測(cè)的四灰階影像再做均值濾波，借此能得到更為精確且一致的多個(gè)待測(cè)樣品410數(shù)據(jù)。
[0034]由于前面取得背景信號(hào)臨界值的過程中，已界定出待測(cè)樣品孔的位置，因此待測(cè)灰階影像不需要二值化。只要根據(jù)待測(cè)灰階影像，找出各待測(cè)樣品孔的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并與背景信號(hào)臨界值比較，便能確認(rèn)各待測(cè)樣品孔內(nèi)是否有熒光反應(yīng)。
[0035]另外，前述的熒光信號(hào)讀取作業(yè)，除了前述方法外，還能增加下述方法。根據(jù)待測(cè)灰階影像，取得位于背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)。根據(jù)位于背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，判斷是否讀出光源信號(hào)，當(dāng)未讀出光源信號(hào)時(shí)，判斷為異常狀況，并終止實(shí)驗(yàn)。
[0036]也就是說，當(dāng)所有待測(cè)樣品孔內(nèi)皆無熒光反應(yīng)時(shí)，便停止熒光信號(hào)讀取作業(yè)。如此實(shí)驗(yàn)人員可以立刻檢查或更換樣品，以利實(shí)驗(yàn)的續(xù)行。
[0037]其中取得背景灰階影像或待測(cè)灰階影像的技術(shù)，可以利用互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體或是電荷耦合元件等光感測(cè)器擷取。而光感測(cè)器擷取待測(cè)灰階影像的時(shí)間相異以浮動(dòng)方式讓起始測(cè)量值一致，即通過預(yù)設(shè)的軟件判斷，隨著不同待測(cè)樣品的熒光強(qiáng)度而變化，當(dāng)熒光強(qiáng)度遞增而其曝光時(shí)間遞減。
[0038]其中待測(cè)樣品孔上覆蓋著熒光濾鏡。由于非熒光的光線無法通過熒光濾鏡，因此能確保通過待測(cè)樣品孔的都是樣品所發(fā)射的熒光。
[0039]其中背景光源可以是發(fā)光二極管，或者是激光光源。當(dāng)要激發(fā)不同樣品發(fā)出熒光時(shí)，能選擇使用適合的色光，而不必再搭配激發(fā)光濾片(Excitation filter)加上控制馬達(dá)來替換濾片得到所需的激發(fā)波長。
[0040]值得一提的是本發(fā)明利用均值濾波其灰階影像，并使用二值化做分析樣品的技術(shù)，使用更為單純且背景信號(hào)臨界值可依據(jù)不同實(shí)驗(yàn)的需求而做更動(dòng)，比起已知技術(shù)還須對(duì)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)圖做分析更為簡單直觀，再加上對(duì)多個(gè)待測(cè)樣品作多次相異時(shí)間擷取多個(gè)灰階影像，來整合取得多個(gè)待測(cè)樣品最準(zhǔn)確一致的數(shù)據(jù)。
[0041]而根據(jù)本發(fā)明又一實(shí)施方式是在提供一種熒光檢測(cè)方法包含下述步驟。將樣品盛裝至一樣品盤中，其中樣品盤包含至少一列背景樣品孔，以及至少一列待測(cè)樣品孔。一定位步驟。以一背景光源照射樣品盤。取得樣品盤的一背景灰階影像。均值濾波背景灰階影像。二值化背景灰階影像。根據(jù)二值化后的背景灰階影像，計(jì)算出背景樣品孔的邊緣位置。根據(jù)背景樣品孔的邊緣位置，計(jì)算出待測(cè)樣品孔的邊緣位置。取得位于背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并將其平均，作為一背景信號(hào)臨界值。根據(jù)待測(cè)樣品孔的邊緣位置以及背景信號(hào)臨界值，對(duì)待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)。
[0042]依據(jù)本發(fā)明一實(shí)施方式，上述該定位步驟包含以下方式。當(dāng)樣品管置放于樣品孔，樣品孔的座標(biāo)可直接由樣品管內(nèi)的樣品的透出光通過一分析軟件來加以定位其樣品孔座標(biāo)，該透出光的分析方法不限定為影像分析或光電分析。
[0043]或者在此熒光檢測(cè)方法的實(shí)驗(yàn)前通過一軟件設(shè)定好樣品孔的座標(biāo)做定位。
[0044]也可在樣品管外額外加上一減光片或一偏光做樣品管的定位，利用減光片或偏光片所透射的光源通過一分析軟件來加以定位其樣品孔座標(biāo)，該透出光的分析方法不限定為影像分析或光電分析。
[0045]或者通過外加至少兩光源如發(fā)光二極管來輔助定位，其光源放置在樣品孔兩側(cè)，并通過上述的分析軟件分析樣品受光照射位置并定位其座標(biāo)。
[0046]雖然本發(fā)明已以實(shí)施方式揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視所附的權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種熒光檢測(cè)方法，其特征在于，包含: 將熒光檢測(cè)試劑加入樣品中； 將樣品盛裝至一樣品盤中，其中該樣品盤包含至少一列背景樣品孔及至少一列待測(cè)樣品孔 ； 以一背景光源照射該樣品盤；以及 取得該樣品盤的一背景灰階影像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，還包含: 均值濾波該背景灰階影像； 二值化該背景灰階影像； 根據(jù)二值化后的該背景灰階影像，計(jì)算出該列背景樣品孔的邊緣位置； 根據(jù)該列背景樣品孔的邊緣位置，計(jì)算出該列待測(cè)樣品孔的邊緣位置； 取得位于該列背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并將其平均，作為一背景信號(hào)臨界值；以及 根據(jù)該列待測(cè)樣品孔的邊緣位置以及該背景信號(hào)臨界值，對(duì)該列待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，對(duì)該列待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)的步驟包含: 以該背景光源照射該樣品盤； 取得該樣品盤的一待測(cè)灰階影像； 均值濾波該待測(cè)灰階影像； 取得位于該列待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)； 逐個(gè)判斷位于該列待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)是否大于該背景信號(hào)臨界值；以及 當(dāng)位于該列待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)大于該背景信號(hào)臨界值時(shí)，判斷為讀出熒光信號(hào)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，取得該樣品盤的該背景灰階影像的步驟是以互補(bǔ)金氧式半導(dǎo)體或電荷耦合元件為之。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該列待測(cè)樣品孔上覆蓋有一濾鏡。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該背景光源為發(fā)光二極管或激光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，還包含: 均值濾波該背景灰階影像； 二值化該背景灰階影像； 根據(jù)二值化后的該背景灰階影像，計(jì)算出該列背景樣品孔的邊緣位置； 根據(jù)該列背景樣品孔的邊緣位置，計(jì)算出該列待測(cè)樣品孔的邊緣位置； 取得位于該列背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并將其平均，作為一背景信號(hào)臨界值；根據(jù)該列待測(cè)樣品孔的邊緣位置以及該背景信號(hào)臨界值，對(duì)該列待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)； 以該背景光源照射該樣品盤；以相異曝光的時(shí)間取得該樣品盤的多個(gè)待測(cè)灰階影像； 均值濾波所述多個(gè)待測(cè)灰階影像； 取得位于該列待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)； 逐個(gè)判斷位于該列待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)是否大于該背景信號(hào)臨界值；以及 當(dāng)位于該列待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)大于該背景信號(hào)臨界值時(shí)，判斷為讀出熒光信號(hào)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，取得該樣品盤的該背景灰階影像的步驟是以互補(bǔ)金氧式半導(dǎo)體或電荷耦合元件為之。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，相異曝光的時(shí)間由一軟件判斷，隨著熒光強(qiáng)度遞增而遞減。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該列待測(cè)樣品孔上覆蓋有一濾鏡。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該背景光源為發(fā)光二極管或激光。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，還包含: 一定位步驟； 均值濾波該背景灰階影像； 二值化該背景灰階影像； 根據(jù)二值化后的該背景灰階影像，計(jì)算出該列背景樣品孔的邊緣位置； 根據(jù)該列背景樣品孔的邊緣位置，計(jì)算出該列待測(cè)樣品孔的邊緣位置； 取得位于該列背景樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)，并將其平均，作為一背景信號(hào)臨界值；以及 根據(jù)該列待測(cè)樣品孔的邊緣位置以及該背景信號(hào)臨界值，對(duì)該列待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，對(duì)該列待測(cè)樣品孔進(jìn)行熒光信號(hào)讀取作業(yè)的步驟包含: 以該背景光源照射該樣品盤； 取得該樣品盤的一待測(cè)灰階影像； 均值濾波該待測(cè)灰階影像； 取得位于該列待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)； 逐個(gè)判斷位于該列待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)是否大于該背景信號(hào)臨界值；以及 當(dāng)位于該列待測(cè)樣品孔內(nèi)的灰階像素?cái)?shù)據(jù)大于該背景信號(hào)臨界值時(shí)，判斷為讀出熒光信號(hào)。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，取得該樣品盤的該背景灰階影像的步驟是以互補(bǔ)金氧式半導(dǎo)體或電荷耦合元件為之。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該列待測(cè)樣品孔上覆蓋有一濾鏡。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該背景光源為發(fā)光二極管或激光。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該定位步驟包含直接由樣品管內(nèi)的樣品透出光定位。
18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該定位步驟包含實(shí)驗(yàn)前樣品孔座標(biāo)定位。
19.根據(jù)權(quán)利要求12所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該定位步驟包含由樣品管加上一減光片或一偏光做樣品孔定位。
20.根據(jù)權(quán)利要求12所述的熒光檢測(cè)方法，其特征在于，該定位步驟包含外加至少兩光源輔助定位。
【文檔編號(hào)】G01N21/64GK103472040SQ201310151570
【公開日】2013年12月25日 申請(qǐng)日期:2013年4月27日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月6日
【發(fā)明者】鄧秉華, 林清格, 陳宏銘 申請(qǐng)人:瑞基海洋生物科技股份有限公司