中放置1秒鐘至60秒鐘后浸漬到35°C至100°C左右的水中，可以考慮制造效率來(lái)適 當(dāng)決定。
[0081] <鏡面研磨工序>
[0082] 鏡面研磨工序（第2研磨工序）是進(jìn)一步精密地研磨加工玻璃基板的兩個(gè)主表面 的工序。在鏡面研磨工序中，可以使用與在粗研磨工序中使用的雙面研磨機(jī)同樣的雙面研 磨機(jī)。
[0083] 較為理想的是，對(duì)于研磨墊而言，使用硬度比在粗研磨工序中所用的研磨墊低的 軟質(zhì)墊，例如較為理想的是使用聚氨酯泡沫、絨面革。
[0084] 對(duì)于研磨劑泥漿而言，可以使用與粗研磨工序同樣的含有氧化鈰等的泥漿。但是， 為了使玻璃基板的表面更加平滑，較為理想的是使用磨粒的粒徑更細(xì)且偏差較小的研磨劑 泥漿。例如，較為理想的是使用使平均粒徑20nm至70nm的膠體二氧化硅分散到溶劑中制 成的泥漿狀物來(lái)作為研磨劑泥漿。溶劑并無(wú)特別限定，可以使用水。此外，在這些溶劑中， 可以添加表面活性材或分散劑。溶劑與膠體二氧化硅的混合比率較為理想的是1 :9至3 :7 左右。
[0085] 研磨劑泥衆(zhòng)的添加量并無(wú)特別限定，例如為100mL/min至600mL/min。
[0086] 鏡面研磨工序中的研磨量較為理想的是設(shè)為2 μπι至5 μπι左右。通過(guò)將研磨量設(shè) 為此種范圍，所獲得的玻璃基板可以良好地去除發(fā)生在玻璃基板的表面的微小的凹凸或起 伏、或者在此前的工序中產(chǎn)生的微小的劃痕之類(lèi)的微小缺陷。由此，本發(fā)明的玻璃基板的制 造方法能夠提高所獲得的玻璃基板的平坦度，從而能夠制作磁頭在端部區(qū)域能更穩(wěn)定地浮 起的玻璃基板。
[0087] 此外，在本工序中，通過(guò)適當(dāng)調(diào)整鏡面研磨工序的研磨條件，能夠?qū)⒉ＡЩ宓膬?個(gè)主表面的平坦度減小至3 μ m以下，并將玻璃基板的兩個(gè)主表面的面粗糙度Ra減小至 0· Inm為止。
[0088] <最終清洗工序>
[0089] 最終清洗工序是進(jìn)行清洗以從經(jīng)研磨的玻璃基板的表面去除研磨劑的工序。具體 而言，例如可列舉以下述方式對(duì)完成了精密研磨工序的玻璃基板進(jìn)行的工序等。
[0090] 首先，對(duì)于完成了精密研磨工序的玻璃基板，不使其干燥（包含自然干燥）而是保 管在水中，在保持濕潤(rùn)的狀態(tài)下輸送至接下來(lái)的清洗工序。這是因?yàn)?，若在殘存有研磨殘?jiān)?的狀態(tài)下使玻璃基板干燥，則有時(shí)將難以通過(guò)清洗處理來(lái)去除研磨材（膠體二氧化硅）。此 處的清洗被要求在不損傷經(jīng)過(guò)鏡面加工的玻璃基板的表面的情況下去除研磨材。
[0091] 在本實(shí)施方式中，較為理想的是，最終清洗工序是在使玻璃基板旋轉(zhuǎn)的同時(shí)對(duì)玻 璃基板的主表面及端面都進(jìn)行高頻清洗來(lái)實(shí)現(xiàn)。因此，在玻璃基板的主表面及端面上都很 少殘留微小附著物，所獲得的玻璃基板難以引起后發(fā)錯(cuò)誤。
[0092] 另外，在最終清洗工序中使用的清洗液只要是可在硬盤(pán)用玻璃基板的制造方法的 最終清洗工序中使用的清洗液即可，并無(wú)特別限定。具體而言，例如，較為理想的是不具有 腐蝕作用或浸出（leaching)作用且以對(duì)在精密研磨工序中所用的研磨劑例如二氧化硅系 的研磨劑具備選擇性的溶解性能的方式組成的清洗液。即，較為理想的是選擇不含腐蝕玻 璃的因素即氫氟酸（HF)或氟硅酸（H 2SiF6)等的成分作為清洗液。此外，例如在清洗液對(duì)玻 璃基板具有腐蝕作用或浸出作用的情況下，有可能導(dǎo)致好不容易完成了鏡面加工的玻璃表 面受到損傷，從而成為梨皮斑點(diǎn)狀的表面。若為梨皮斑點(diǎn)狀的表面，則被認(rèn)為無(wú)法充分降低 磁頭的浮起量。因而，較為理想的是不具有腐蝕作用或浸出作用且以對(duì)在精密研磨工序中 所用的研磨劑具備選擇性的溶解性能的方式組成的清洗液。經(jīng)過(guò)該最終清洗工序而制成硬 盤(pán)用玻璃基板。
[0093] 另外，在上述實(shí)施方式中，在粗研磨工序之后且精密研磨工序之前進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化 工序，但并不限于該方式，可以適當(dāng)變更。例如也可在精密研磨工序之后進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化工 序。
[0094] 經(jīng)過(guò)了最終清洗工序的玻璃基板在檢查了有無(wú)劃痕、破裂、異物附著等之后，為了 避免異物等附著于表面上而在潔凈的環(huán)境中被收納到專(zhuān)用收納匣，并在真空包裝后出貨。
[0095] 如上所述，本說(shuō)明書(shū)公開(kāi)了各種方式的技術(shù)，其中主要技術(shù)總結(jié)為如下。
[0096] 即，本發(fā)明的一方面所涉及的硬盤(pán)用玻璃基板的制造方法的特征在于：至少包括 粗磨削工序、在使磨削液流動(dòng)的狀態(tài)下利用金剛石固定磨粒進(jìn)行磨削的精磨削工序、以及 粗研磨工序，其中，所述精磨削工序使用具有平均粒徑〇. 5 μ m以上且小于2. 0 μ m的金剛石 固定磨粒的磨削薄膜來(lái)進(jìn)行，并且所述磨削液至少含有陰離子表面活性劑及分子量在500 至10000的范圍內(nèi)的非離子系表面活性劑，所述非離子系表面活性劑相對(duì)于表面活性劑總 量的比例大于70質(zhì)量％。
[0097] 根據(jù)該構(gòu)成，即便在使用具有平均粒徑小于2. 0 μπι的固定磨粒的磨削薄膜來(lái)進(jìn) 行精磨削工序的情況下，也能一并保證磨削速率與磨削薄膜的壽命，由此能夠高效地制造 硬盤(pán)用玻璃基板。此外，借助所述精磨削工序，也能夠降低隨后的粗研磨工序的負(fù)荷，因此 在成本方面也具有優(yōu)勢(shì)。
[0098] 此外，在所述硬盤(pán)用玻璃基板的制造方法中，較為理想的是，所述磨削液還含有含 磷螯合劑。由此，被認(rèn)為能獲得更進(jìn)一步的磨削速率的提高與磨削薄膜的磨損抑制效果。
[0099] 進(jìn)而，在所述硬盤(pán)用玻璃基板的制造方法中，較為理想的是，所述精磨削工序中的 所述磨削液的流量為I. 51/min以上。由此，被認(rèn)為能更可靠地獲得所述效果。
[0100] [實(shí)施例]
[0101] 下面，通過(guò)實(shí)施例來(lái)更具體地說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明并不受實(shí)施例的任何限定。
[0102] 首先，準(zhǔn)備了表1所不的玻璃成分（質(zhì)量％ )的玻璃基板。
[0103] 表 1
[0104]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種硬盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于：至少包括粗磨削工序、在使磨削液 流動(dòng)的狀態(tài)下利用金剛石固定磨粒進(jìn)行磨削的精磨削工序、以及粗研磨工序，其中， 所述精磨削工序使用具有平均粒徑〇. 5 μπι以上且小于2. O μπι的金剛石固定磨粒的磨 削薄膜來(lái)進(jìn)行，并且所述磨削液至少含有陰離子表面活性劑及分子量在500至10000的范 圍內(nèi)的非離子系表面活性劑，所述非離子系表面活性劑相對(duì)于表面活性劑總量的比例大于 70質(zhì)量％。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于：所述磨削液還含 有含磷螯合劑。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于：所述精磨削 工序中的所述磨削液的流量為I. 51/min以上。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的硬盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于：在 所述粗磨削工序與所述精磨削工序之間，還進(jìn)行副精磨削工序。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及硬盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其至少包括粗磨削工序、在使磨削液流動(dòng)的狀態(tài)下利用金剛石固定磨粒進(jìn)行磨削的精磨削工序、以及粗研磨工序，其中，所述精磨削工序使用具有平均粒徑0.5μm以上且小于2.0μm的金剛石固定磨粒的磨削薄膜來(lái)進(jìn)行，并且所述磨削液至少含有陰離子表面活性劑及分子量在500至10000的范圍內(nèi)的非離子系表面活性劑，所述非離子系表面活性劑相對(duì)于表面活性劑總量的比例大于70質(zhì)量％。
【IPC分類(lèi)】B24B7-22, G11B5-84, B24B37-04, B24B7-17, B24B37-08
【公開(kāi)號(hào)】CN104838444
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201380064023
【發(fā)明人】原田圓央, 塚田和也
【申請(qǐng)人】Hoya株式會(huì)社
【公開(kāi)日】2015年8月12日
【申請(qǐng)日】2013年12月25日
【公告號(hào)】WO2014103296A1