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測量裝置及基板玻璃垂度測量設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):12904323閱讀:325來源:國知局
測量裝置及基板玻璃垂度測量設(shè)備的制作方法

本實(shí)用新型涉及測量技術(shù)領(lǐng)域,具體地,涉及一種測量裝置及基板玻璃垂度測量設(shè)備。



背景技術(shù):

基板玻璃是液晶顯示面板的重要組成部分,為保證基板玻璃的制造品質(zhì),需要對(duì)基板玻璃的垂度進(jìn)行測量,垂度具體是指基板玻璃被支架支撐起來時(shí),基板玻璃下垂的程度。

目前,基板玻璃的垂度通常通過刻度尺進(jìn)行測量,但是目前市售刻度尺的精度最大為0.5mm。因此通過刻度尺測量的所述“垂度”的誤差等級(jí)較高,為0.5mm級(jí)別。但0.5mm級(jí)別的“垂度”指標(biāo)測量精度遠(yuǎn)不能滿足基板玻璃制造工藝需求,從而會(huì)影響玻璃基板的制造品質(zhì),為此需提高“垂度”指標(biāo)測量精度。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的是提供一種測量裝置及基板玻璃垂度測量設(shè)備,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中基板玻璃的垂度測量精度不能滿足基板玻璃制造工藝需求的問題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供一種測量裝置,所述測量裝置包括顯微鏡及刻度尺,所述顯微鏡的物鏡上具有多條第一刻度線,所述刻度尺具有多條第二刻度線,所述顯微鏡和所述刻度尺設(shè)置為所述第一刻度線能夠與所述第二刻度線配合進(jìn)行測量。

優(yōu)選地,所述測量裝置還包括支架,所述顯微鏡安裝在所述支架上且能相對(duì)所述支架進(jìn)行高度調(diào)節(jié),所述刻度尺相對(duì)所述支架固定。

優(yōu)選地,所述顯微鏡設(shè)置為所述物鏡的軸線垂直于所述刻度尺的長度方向。

優(yōu)選地,所述支架包括底座及所述底座上設(shè)置的滑桿,所述顯微鏡安裝在所述滑桿上并能夠沿所述滑桿上下滑動(dòng)。

優(yōu)選地,與所述滑桿連接有用于旋轉(zhuǎn)以使得所述顯微鏡在所述滑桿上滑動(dòng)并能夠?qū)⑺鲲@微鏡固定在所述滑桿上的控制旋鈕。

優(yōu)選地,所述滑桿垂直于所述底座的底面。

優(yōu)選地,所述刻度尺垂直于所述底座的底面。

根據(jù)本實(shí)用新型的另一方面,還提供一種基板玻璃垂度測量設(shè)備,包括有根據(jù)如上所述的測量裝置。

優(yōu)選地,所述基板玻璃垂度測量設(shè)備還包括測量平臺(tái),所述測量平臺(tái)上設(shè)置有所述測量裝置以及用于支撐基板玻璃的玻璃支架。

優(yōu)選地,所述刻度尺的長度方向垂直于所述測量平臺(tái)的上平面。

本實(shí)用新型提供的測量裝置及基板玻璃垂度測量設(shè)備能夠提高基板玻璃垂度的測量精度,以給液晶基板玻璃制造工藝提高準(zhǔn)確可靠的參考,從而為液晶玻璃基板制造提高品質(zhì)提供保障。

本實(shí)用新型的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式部分予以詳細(xì)說明。

附圖說明

附圖是用來提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,并且構(gòu)成說明書的一部分,與下面的具體實(shí)施方式一起用于解釋本實(shí)用新型,但并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。在附圖中:

圖1為用根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施方式中測量裝置測量基板玻璃垂度的示意圖;

圖2為從顯微鏡的目鏡中看到的測量玻璃邊緣的放大視圖。

附圖標(biāo)記說明

1-顯微鏡; 11-物鏡; 12-第一刻度線;

2-刻度尺; 21-第二刻度線; 3-安裝架;

31-底座; 32-滑桿; 33-控制旋鈕;

4-基板玻璃; 5-玻璃支架; 6-測量平臺(tái)。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是,此處所描述的具體實(shí)施方式僅用于說明和解釋本實(shí)用新型,并不用于限制本實(shí)用新型。

在本實(shí)用新型的描述中,需要理解的是,術(shù)語“上”、“下”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”等指示的方位或位置關(guān)系為設(shè)備或裝置在實(shí)際應(yīng)用情況下的方位或位置關(guān)系,或是基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制。

本實(shí)用新型提供一種測量裝置,如圖1和圖2所示,該測量裝置包括顯微鏡1及刻度尺2,顯微鏡1的物鏡11上具有多條第一刻度線12,刻度尺2上具有多個(gè)第二刻度線21,顯微鏡1和刻度尺2設(shè)置為所述第一刻度線12能夠與所述第二刻度線21配合進(jìn)行測量。

在本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案中,用顯微鏡1上的第一刻度線12與刻度尺2的第二刻度線21配合是利用顯微鏡來放大刻度尺2上的刻度,并用顯微鏡上的第一刻度線12將刻度尺2上的第二刻度線21進(jìn)一步等分,例如,用物鏡11上的十等份的刻度線的起始、終止線與刻度尺2上的0.5mm的刻度線起始、終止線重合,可將刻度尺2上的0.5mm的距離等分為十份,由此可將刻度尺2上0.5mm的測量精度提高到0.05mm的測量精度。其中,在此所說的“0.5mm”僅是舉例說明,也可為1mm或2mm等,可根據(jù)具體情況,例如所要測量的精度,來調(diào)節(jié)顯微鏡1的物鏡11上的第一刻度線12與刻度尺2上的第二刻度線21的配合。

本實(shí)用新型提供的測量裝置能夠提高測量精度,可適用于測量基板玻璃的垂度(當(dāng)然并不限于測量垂度),由此提高基板玻璃垂度的測量精度,以給液晶基板玻璃制造工藝提高準(zhǔn)確可靠的參考,從而為液晶玻璃基板制造提高品質(zhì)提供保障。

在本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式中,該測量裝置還包括支架3,顯微鏡1安裝在該支架3上且能相對(duì)該支架3進(jìn)行高度調(diào)節(jié),刻度尺2相對(duì)支架3固定。

優(yōu)選地,顯微鏡1設(shè)置為物鏡11的軸線垂直于刻度尺2的長度方向,以從目鏡中可以正視刻度尺2,從而利于減小讀數(shù)誤差。其中,所述刻度尺2的長度方向是指刻度尺2上的刻度的布置方向。

本實(shí)施方式中,如圖1所示,支架3包括底座31及底座31上設(shè)置的滑桿32,顯微鏡1安裝在滑桿32上并能夠沿滑桿32上下滑動(dòng)。與所述滑桿32連接有用于旋轉(zhuǎn)以使得所述顯微鏡1在滑桿32上滑動(dòng)并能夠?qū)@微鏡1固定在滑桿32上的控制旋鈕33。該控制旋鈕33可旋轉(zhuǎn)至將顯微鏡1頂緊在滑桿32上,從而固定顯微鏡1,或者旋轉(zhuǎn)至放松顯微鏡1,使得顯微鏡1可沿滑桿32滑動(dòng),在滑動(dòng)止所需位置時(shí),再通過控制旋鈕33固定。

其中,支架3上的滑桿32垂直于底座31的底面??潭瘸?也垂直于底座31的底面,也就是說,刻度尺2平行于滑桿32,這樣,有利于設(shè)置顯微鏡1的物鏡11平行于刻度尺2,從而利于提高讀書精度。

根據(jù)本實(shí)用新型的另一方面,還提供一種基板玻璃垂度測量設(shè)備,包括有如上所述的測量裝置。

本實(shí)用新型提供的基板玻璃垂度測量設(shè)備還包括測量平臺(tái)6,如圖1所示,測量平臺(tái)6上設(shè)置有如上所述的測量裝置以及用于支撐基板玻璃的玻璃支架5。以測量平臺(tái)6的上表面為基準(zhǔn)高度,玻璃支架5的高度與基板玻璃4所垂下的下邊緣的高度差即為基板玻璃4的垂度。玻璃支架5的高度為一恒定值。因此,通過上述的測量裝置測量出基板玻璃4的下邊緣的高度即可獲得基板玻璃4的垂度。

在測量玻璃基板4的垂度時(shí),首先將基板玻璃4支撐在測量平臺(tái)6的玻璃支架5上,優(yōu)選地,設(shè)置所述測量裝置的刻度尺2的長度方向垂直于測量平臺(tái)6的上平面,同時(shí)設(shè)置顯微鏡1的物鏡11平行于刻度尺2的長度方向。由于上述的測量裝置中,刻度尺2和滑桿32均垂直于支架3的底座31,因此,本實(shí)施方式中可直接將上述的測量裝置的支架3放置在測量平臺(tái)6上,然后通過控制旋鈕33上下調(diào)節(jié)顯微鏡1,使得顯微鏡1聚焦在刻度尺2與基板玻璃4下邊緣接觸位置,并使得顯微鏡的十等份的第一刻度線12的起始和終止線分別與刻度尺2的0.5mm的第二刻度線21的起始和終止線重合,從顯微鏡的目鏡中可看到如圖2中所示的視圖,圖中的A位置為基板玻璃4的下邊緣所對(duì)應(yīng)的刻度位置,刻度尺2上的0.5mm的第二刻度線21通過物鏡11上的第一刻度線12分割為十等份,因此所測出的基板玻璃4下邊緣的高度值精度達(dá)0.05mm。

以上結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,但是,本實(shí)用新型并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié),在本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi),可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡單變型,這些簡單變型均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。

另外需要說明的是,在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征,在不矛盾的情況下,可以通過任何合適的方式進(jìn)行組合。為了避免不必要的重復(fù),本實(shí)用新型對(duì)各種可能的組合方式不再另行說明。

此外,本實(shí)用新型的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合,只要其不違背本實(shí)用新型的思想,其同樣應(yīng)當(dāng)視為本實(shí)用新型所公開的內(nèi)容。

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