1.用于將還原劑噴射到內(nèi)燃發(fā)動機(jī)(2)的廢氣系統(tǒng)(22)中的噴射模塊(10)，
其中，所述噴射模塊(10)具有用于分別排出至少一個還原劑一次射流(13)的至少兩個出口開口(12)，其中，所述出口開口(12)這樣構(gòu)造，使得通過所述出口開口(12)排出的還原劑一次射流(13)相互會合并且在所述廢氣系統(tǒng)(22)中產(chǎn)生噴霧(11)，
其特征在于，
所述出口開口(12)這樣構(gòu)造，使得通過所述出口開口(12)排出的還原劑一次射流(13)僅部分重疊地相互會合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴射模塊(10)，其中，所述出口開口(12)構(gòu)造成彼此錯位和/或相互傾斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的噴射模塊(10)，其中，所述重疊處于所述一次射流(13)的面積的30％到70％的范圍中。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的噴射模塊(10)，其中，所述重疊處于所述一次射流(13)的面積的40％到60％的范圍中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的噴射模塊(10)，其中，所述出口開口(12)這樣構(gòu)造，使得所述還原劑一次射流(13)在小于10mm、特別是小于5mm的自由路段(L)后相互會合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的噴射模塊(10)，其中，所述出口開口(12)這樣構(gòu)造，使得所述還原劑一次射流(13)以大于30°的角度(α)相互會合。
7.內(nèi)燃發(fā)動機(jī)(2)的廢氣系統(tǒng)(22)區(qū)段，具有根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的噴射模塊(10)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的廢氣系統(tǒng)(22)區(qū)段，該區(qū)段具有屏蔽板(20)，該屏蔽板這樣構(gòu)造和布置，使得該屏蔽板可以阻止所述噴霧(11)撞到所述廢氣系統(tǒng)(22)的壁(24)上，其中，所述屏蔽板(20)尤其具有一個或多個開口(16)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的廢氣系統(tǒng)(22)區(qū)段，其中，在所述噴射模塊(10)的上游布置有氧化催化器(4)，并且在所述噴射模塊(10)的下游布置有還原催化器(6)，其中，所述噴射模塊(10)尤其被布置在所述氧化催化器(4)和所述還原催化器(6)之間的連接通道(5)中，其中，所述廢氣的流動方向被所述連接通道(5)轉(zhuǎn)向。
10.用于將還原劑噴射到內(nèi)燃發(fā)動機(jī)(2)的廢氣系統(tǒng)(22)中的方法，其特征在于，所述方法包括，將至少兩個還原劑一次射流(13)這樣噴射到所述廢氣系統(tǒng)(22)中，使得這兩個還原劑一次射流僅部分重疊地相互會合，以便在所述廢氣系統(tǒng)(22)的一區(qū)域中產(chǎn)生還原劑噴霧(11)。