本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別是指一種過(guò)濾裝置、真空抽氣裝置及刻蝕設(shè)備。

背景技術(shù)：

刻蝕是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的重要工藝，刻蝕需要在真空反應(yīng)腔中進(jìn)行，在刻蝕完成之后，通過(guò)真空抽氣裝置抽出真空反應(yīng)腔室中的工藝廢氣。具體地，在低壓下，反應(yīng)氣體在射頻功率的激發(fā)下，產(chǎn)生電離形成等離子體，等離子體由帶電的電子和離子組成，真空反應(yīng)腔室中的氣體在電子的撞擊下，除了轉(zhuǎn)變成離子外，還能吸收能量并形成大量的活性基團(tuán)?；钚曰鶊F(tuán)與被刻蝕物質(zhì)表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并生成揮發(fā)性的反應(yīng)生成物(工藝廢氣)。反應(yīng)生成物脫離被刻蝕物質(zhì)表面，然后被真空抽氣裝置抽出真空反應(yīng)腔室。

目前，普遍采用過(guò)濾網(wǎng)來(lái)過(guò)濾真空反應(yīng)腔室中體積較大的異物，以防止異物掉落到真空抽氣裝置中。但是，在刻蝕工藝過(guò)程中，當(dāng)突然開(kāi)啟真空抽氣裝置，并開(kāi)始抽氣時(shí)，氣流會(huì)出現(xiàn)短暫的亂擾和反沖，導(dǎo)致真空反應(yīng)腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應(yīng)腔室，從而影響真空反應(yīng)腔室的潔凈度，降低生產(chǎn)良率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實(shí)用新型的目的在于提出一種過(guò)濾裝置、真空抽氣裝置及刻蝕設(shè)備，以解決在開(kāi)始抽氣的瞬間，真空反應(yīng)腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應(yīng)腔室的技術(shù)問(wèn)題。

基于上述目的，本實(shí)用新型提供的過(guò)濾裝置，包括支撐框架、固定架和葉片，所述葉片通過(guò)固定架設(shè)置在所述支撐框架內(nèi)，所述葉片與所述支撐框架所在平面呈一定夾角，所述葉片在所述支撐框架所在平面上的投影面積覆蓋所述支撐框架內(nèi)的通風(fēng)面積。

在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述固定架的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)固定架間隔地分布在所述支撐框架上，每個(gè)固定架上至少設(shè)置有一張葉片；或者

所述葉片的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)葉片組成同心圓。

在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述葉片上設(shè)有阻擋片，所述阻擋片與所述葉片所在平面呈一定夾角，所述阻擋片在所述葉片上的投影處開(kāi)設(shè)有通孔。

在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述葉片為金屬材料，所述金屬材料的表面鍍有氧化層。

在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述葉片與所述支撐框架所在平面的夾角為5-45°。

在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述葉片與所述支撐框架所在平面的夾角的角度可調(diào)。

在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述支撐框架上設(shè)置有用于將所述支撐框架固定于過(guò)濾通道的連接件。

在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述連接件為樹(shù)形卡扣。

本實(shí)用新型還提供一種真空抽氣裝置，包括真空泵、過(guò)濾通道和上述任意一個(gè)實(shí)施例中的過(guò)濾裝置，所述過(guò)濾通道與真空泵的入口連通，所述過(guò)濾裝置固定于所述過(guò)濾通道內(nèi)。

本實(shí)用新型還提供一種刻蝕設(shè)備，包括真空反應(yīng)腔室和上述真空抽氣裝置，所述真空反應(yīng)腔室與真空泵通過(guò)過(guò)濾通道連通，所述過(guò)濾裝置位于所述真空反應(yīng)腔室和真空泵之間。

從上面所述可以看出，本實(shí)用新型提供的過(guò)濾裝置、真空抽氣裝置及刻蝕設(shè)備通過(guò)葉片在支撐框架所在平面上的投影面積覆蓋支撐框架內(nèi)的通風(fēng)面積，葉片起到阻擋粉塵反沖的作用，從而解決在開(kāi)始抽氣的瞬間，真空反應(yīng)腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應(yīng)腔室的問(wèn)題。而且，相比于傳統(tǒng)鏤空的過(guò)濾網(wǎng)，在本實(shí)用新型中，由于葉片的折角位置較少，可以更有效地在葉片表面鍍氧化膜，且尖端放電較少，耐腐蝕能力也較強(qiáng)。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例過(guò)濾裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例過(guò)濾裝置的側(cè)視圖；

圖3為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例過(guò)濾裝置的俯視圖；

圖4為本實(shí)用新型另一個(gè)實(shí)施例過(guò)濾裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本實(shí)用新型又一個(gè)實(shí)施例過(guò)濾裝置的俯視圖；

圖6為本實(shí)用新型又一個(gè)實(shí)施例過(guò)濾裝置的側(cè)視圖；

圖7為本實(shí)用新型再一個(gè)實(shí)施例葉片的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本實(shí)用新型另一個(gè)實(shí)施例過(guò)濾裝置的側(cè)視圖。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合具體實(shí)施例，并參照附圖，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。

參考圖1，其為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例過(guò)濾裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。作為本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述過(guò)濾裝置包括支撐框架1、固定架2和葉片3，所述葉片3通過(guò)固定架2設(shè)置在所述支撐框架1內(nèi)，并且所述葉片3與所述支撐框架1所在平面呈一定夾角，所述葉片3在所述支撐框架1所在平面上的投影面積覆蓋所述支撐框架1內(nèi)的通風(fēng)面積。

在本實(shí)用新型提供的過(guò)濾裝置中，如圖2所示，葉片3與支撐框架1所在平面呈一定夾角，以保證正常抽氣，并沿著與支撐框架1所在平面呈一定夾角的方向流通氣體。而且，如圖3所示，葉片3在支撐框架1所在平面上的投影面積覆蓋支撐框架1內(nèi)的通風(fēng)面積，葉片3起到阻擋粉塵反沖的作用，從而解決在開(kāi)始抽氣的瞬間，真空反應(yīng)腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應(yīng)腔室的問(wèn)題。而且，相比于傳統(tǒng)鏤空的過(guò)濾網(wǎng)，在本實(shí)用新型中，由于葉片的折角位置較少，可以更有效地在葉片表面鍍氧化膜，且尖端放電較少，耐腐蝕能力也較強(qiáng)。

作為本實(shí)用新型的又一個(gè)實(shí)施例，如圖1-3所示，所述固定架2的數(shù)量可以為多個(gè)，多個(gè)固定架2間隔地分布在所述支撐框架1上，每個(gè)固定架2上至少設(shè)置有一張葉片3，從而將葉片3固定在所述支撐框架1內(nèi)。優(yōu)選地，所述多個(gè)固定架2互相平行，以形成陣列式的葉片3，葉片3之間的間隔既可以保證正常抽氣，使氣流通過(guò)所述過(guò)濾裝置，同時(shí)還能阻截體積較大的異物，防止其掉落到真空泵中。

需要說(shuō)明的是，所述支撐框架1的形狀限于本實(shí)用新型附圖中的形狀，所述支撐框架1的形狀可以是不規(guī)則形狀，可以是正方向，也可以是圓形。根據(jù)所述支撐框架1的形狀，所述固定架2間隔地分布在所述支撐框架1上。無(wú)論支撐框架1是哪種形狀，要保證葉片3在所述支撐框架1所在平面上的投影面積覆蓋所述支撐框架1內(nèi)的通風(fēng)面積，從而使葉片3起到阻擋粉塵反沖的作用，解決在開(kāi)始抽氣的瞬間，真空反應(yīng)腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應(yīng)腔室的問(wèn)題。

作為本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例，如圖4所示，每個(gè)固定架2上設(shè)置的葉片3數(shù)量不限，可以為一張、兩張、三張或者四張等。優(yōu)選地，同一個(gè)固定架2上的不同葉片3與所述支撐框架1所在平面的夾角的角度可以一樣，也可以不一樣。但是無(wú)論選用幾張葉片、無(wú)論如何設(shè)置夾角的角度，都要使所有葉片3在所述支撐框架1所在平面上的投影面積覆蓋所述支撐框架1內(nèi)的通風(fēng)面積，以解決在開(kāi)始抽氣的瞬間，真空反應(yīng)腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應(yīng)腔室的問(wèn)題。

作為本實(shí)用新型的又一個(gè)實(shí)施例，如圖5-6所示，所述葉片3的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)葉片3組成同心圓。在該實(shí)施例中，所述固定架2設(shè)置在所述支撐框架1內(nèi)，所述葉片3以同心圓的方式固定在所述固定架2上，并且所述葉片3與所述支撐框架1所在平面呈一定夾角，所述葉片3在所述支撐框架1所在平面上的投影面積覆蓋所述支撐框架1內(nèi)的通風(fēng)面積。所述葉片3以同心圓方式的分布，葉片3之間的間隔既可以保證正常抽氣，使氣流通過(guò)所述過(guò)濾裝置，同時(shí)還能阻截體積較大的異物，防止其掉落到真空泵中。

在本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例中，如圖7所示，所述葉片3上設(shè)有阻擋片31，所述阻擋片31與所述葉片3所在平面呈一定夾角，所述阻擋片3在所述葉片3上的投影處開(kāi)設(shè)有通孔32。因此，在葉片上進(jìn)一步設(shè)置阻擋片和通孔，阻擋片同樣能夠起到阻擋粉塵反沖的作用，葉片上開(kāi)設(shè)的通孔一方面可以提高氣流分布的均勻性，另一方面可以提高氣流流動(dòng)速度。

在本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例中，所述葉片3為金屬材料，所述金屬材料的表面鍍有氧化層。金屬材料的葉片可以使葉片與其周?chē)慕饘龠^(guò)濾通道之間形成靜電屏蔽，從而防止等離子體沖向真空泵；此外，金屬材料表面的氧化層可以防止金屬材料被腐蝕。

在本實(shí)用新型的再一個(gè)實(shí)施例中，所述葉片3與所述支撐框架1所在平面的夾角為5-45°，以保證正向抽氣時(shí)可以正常排出氣體，反向擾流時(shí)可以形成氣流阻擋，防止粉塵沖向真空反應(yīng)腔室。

在本實(shí)用新型的再一個(gè)實(shí)施例中，所述葉片3與所述支撐框架1所在平面的夾角的角度可調(diào)。本實(shí)用新型可以選擇不同角度的葉片，如果用于沉積物較多的刻蝕環(huán)境，可以選擇夾角較大的葉片，以減少沉積物的沉積，減少維護(hù)頻率；沉積物較少的刻蝕環(huán)境，可選擇夾角較小的葉片，可以更有效防止粉塵反沖。

作為本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例，如圖8所示，所述支撐框架1上設(shè)置有用于將所述支撐框架1固定于過(guò)濾通道的連接件4。所述連接件用于將所述支撐框架固定于過(guò)濾通道內(nèi)，以使在抽氣過(guò)程中，所述過(guò)濾裝置可以牢固地固定在真空反應(yīng)腔室與真空泵之間的過(guò)濾通道內(nèi)。需要說(shuō)明的是，所述支撐框架1上可以設(shè)置多個(gè)連接件4，以提高所述過(guò)濾裝置在過(guò)濾通道內(nèi)的固定穩(wěn)定性。所述多個(gè)連接件4可以根據(jù)支撐框架1的形狀，均勻地設(shè)置在支撐框架1上，以保證固定牢固性。

在本實(shí)用新型的又一個(gè)實(shí)施例中，所述連接件4為樹(shù)形卡扣，樹(shù)形卡扣可以插入過(guò)濾通道上預(yù)留的螺絲孔內(nèi)，并卡在螺絲孔內(nèi)，使支撐框架與過(guò)濾通道固定連接，從而簡(jiǎn)化拆卸螺絲。

本實(shí)用新型還提供一種真空抽氣裝置，包括真空泵、過(guò)濾通道和上述任意一個(gè)實(shí)施例中的過(guò)濾裝置，所述過(guò)濾通道與真空泵的入口連通，所述過(guò)濾裝置固定于所述過(guò)濾通道內(nèi)。所述真空抽氣裝置可以提高真空反應(yīng)腔室的潔凈度，從而提高生產(chǎn)良率。

本實(shí)用新型還提供一種刻蝕設(shè)備，包括真空反應(yīng)腔室和上述真空抽氣裝置，所述真空反應(yīng)腔室與真空泵通過(guò)過(guò)濾通道連通，所述過(guò)濾裝置位于所述真空反應(yīng)腔室和真空泵之間，從而提高真空反應(yīng)腔室的潔凈度，提高生產(chǎn)良率。

由此可見(jiàn)，本實(shí)用新型提供的過(guò)濾裝置、真空抽氣裝置及刻蝕設(shè)備通過(guò)葉片在支撐框架所在平面上的投影面積覆蓋支撐框架內(nèi)的通風(fēng)面積，葉片起到阻擋粉塵反沖的作用，從而解決在開(kāi)始抽氣的瞬間，真空反應(yīng)腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應(yīng)腔室的問(wèn)題。而且，相比于傳統(tǒng)鏤空的過(guò)濾網(wǎng)，在本實(shí)用新型中，由于葉片的折角位置較少，可以更有效地在葉片表面鍍氧化膜，且尖端放電較少，耐腐蝕能力也較強(qiáng)。

所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：以上任何實(shí)施例的討論僅為示例性的，并非旨在暗示本公開(kāi)的范圍(包括權(quán)利要求)被限于這些例子；在本實(shí)用新型的思路下，以上實(shí)施例或者不同實(shí)施例中的技術(shù)特征之間也可以進(jìn)行組合，并存在如上所述的本實(shí)用新型的不同方面的許多其它變化，為了簡(jiǎn)明它們沒(méi)有在細(xì)節(jié)中提供。因此，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所做的任何省略、修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。