本發(fā)明涉及氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備。

背景技術(shù)：

氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)作為一種計(jì)量器具，在分析檢測(cè)和校準(zhǔn)中起著重要的量值保證作用。因此氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)具有高度均勻性、穩(wěn)定性、量值準(zhǔn)確性以及良好的不確定度的特點(diǎn)。

制備氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)前要考慮混合氣體組分與容器材料、容器閥門以及轉(zhuǎn)移系統(tǒng)是否可能發(fā)生反應(yīng)，因此鋼瓶作為氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的容器，保證其無殘留氣體、無雜質(zhì)、無水分、無吸附等是制備一瓶氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的基礎(chǔ)，鋼瓶的處理是氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)質(zhì)量的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。尤其是對(duì)于多組分天然氣分析用混合氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)一般采用鋁合金鋼瓶進(jìn)行包裝，由于某些組分濃度低，精度高，對(duì)其所配置的組分要求準(zhǔn)確，因此對(duì)混合氣體的包裝物鋼瓶就有較高的要求。

目前，各標(biāo)氣生產(chǎn)廠家都有一些各自應(yīng)用的清洗設(shè)備，但各自流程、參數(shù)以及自動(dòng)化程度等均不同。在鋼瓶加熱的過程中，現(xiàn)有的清洗設(shè)備在保證瓶體達(dá)到高溫的同時(shí)，無法避免瓶體上閥門由于溫度過高而產(chǎn)生變形，從而導(dǎo)致閥門密封性下降。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了在保證瓶體能達(dá)到高溫的同時(shí)，避免閥門由于溫度過高導(dǎo)致變形，保證閥門的密封性，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備。所述技術(shù)方案如下：

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備，包括處理艙體，所述處理艙體內(nèi)設(shè)置有用于承載至少一個(gè)氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶的瓶架、閥門腔體以及升降機(jī)構(gòu)；

在對(duì)所述氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶進(jìn)行清洗時(shí)，所述升降機(jī)構(gòu)控制所述閥門腔體與所述氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶之間相對(duì)移動(dòng)以使得所述氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶的閥門位于所述閥門腔體內(nèi)；

所述閥門腔體內(nèi)設(shè)置有用于與所述氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶的閥門連接的快速接頭。

進(jìn)一步的，所述氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還包括真空泵；

所述快速接頭通過所述真空泵連接原料氣體氣瓶。

其中，所述氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還包括吸收器，所述吸收器用于吸收氣瓶內(nèi)的殘余氣體或所述真空泵抽出的氣體。

此外，所述氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還包括：用于連接外接氣瓶的外接氣瓶接口以及用于對(duì)所述外接氣瓶進(jìn)行加熱的加熱帶；

所述外接氣瓶接口與所述原料氣體氣瓶相連接。

進(jìn)一步的，所述處理艙體內(nèi)設(shè)置有加熱裝置。

所述氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還包括自動(dòng)控制系統(tǒng)，所述自動(dòng)控制系統(tǒng)分別與所述加熱裝置、所述氣瓶以及所述真空泵電連接；

所述自動(dòng)控制系統(tǒng)用于根據(jù)設(shè)定的參數(shù)條件自動(dòng)控制所述氣瓶的加熱、排空、充氣以及抽真空流程。

進(jìn)一步的，所述氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還包括溫控系統(tǒng)，所述溫控系統(tǒng)與所述加熱帶和/或所述加熱裝置電連接；

所述溫控系統(tǒng)的溫控范圍為0～120℃；

所述溫控系統(tǒng)的控溫精度為≤1℃。

優(yōu)選的，所述瓶架承載12個(gè)4L或8L的氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶。

所述外接氣瓶包括1個(gè)40L的氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶。

本發(fā)明實(shí)施例提供的氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備，包括處理艙體，該處理艙體內(nèi)設(shè)置有用于承載至少一個(gè)氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶的瓶架、閥門腔體以及升降機(jī)構(gòu)。在氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶加熱的過程中，通過閥門腔體可以將氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶的閥門隔絕，從而在保證瓶體能達(dá)到高溫的同時(shí)，避免了閥門由于溫度過高導(dǎo)致變形，有效保證了閥門的密封性。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記：

1-處理艙體，2-氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶，3-瓶架，4-閥門腔體，5-升降機(jī)構(gòu)，6-快速接頭，7-真空泵，8-原料氣體氣瓶，9-吸收器，10-外接氣瓶，11-外接氣瓶接口，12-加熱帶，13-加熱裝置，14-溫控系統(tǒng)。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。

本發(fā)明實(shí)施例提供的氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備，如圖1所示，包括處理艙體1，處理艙體1內(nèi)設(shè)置有用于承載至少一個(gè)氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶2的瓶架3、閥門腔體4以及升降機(jī)構(gòu)5。

在對(duì)氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶2進(jìn)行清洗時(shí)，升降機(jī)構(gòu)5控制閥門腔體4與氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶2之間相對(duì)移動(dòng)以使得氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶2的閥門位于閥門腔體4內(nèi)。

閥門腔體4內(nèi)設(shè)置有用于與氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶2的閥門連接的快速接頭6。

本發(fā)明實(shí)施例提供的氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備，包括處理艙體，該處理艙體內(nèi)設(shè)置有用于承載至少一個(gè)氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶的瓶架、閥門腔體以及升降機(jī)構(gòu)。在氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶加熱的過程中，通過閥門腔體可以將氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶的閥門隔絕，從而在保證瓶體能達(dá)到高溫的同時(shí)，避免了閥門由于溫度過高導(dǎo)致變形，有效保證了閥門的密封性。

進(jìn)一步的，如圖1所示，氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還可以包括真空泵7?？焖俳宇^6通過真空泵7連接原料氣體氣瓶8。

進(jìn)一步的，如圖1所示，氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還可以設(shè)置有吸收器9，該吸收器9用于吸收氣瓶內(nèi)的殘余氣體或吸收真空泵7抽出的氣體，從而可以實(shí)現(xiàn)對(duì)氣瓶內(nèi)殘余有毒有害氣體進(jìn)行吸收過濾。

進(jìn)一步的，如圖1所示，氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還可以包括：用于連接外接氣瓶10的外接氣瓶接口11以及用于對(duì)外接氣瓶10進(jìn)行加熱的加熱帶12。其中，外接氣瓶接口11與原料氣體氣瓶8相連接。該加熱帶12可以通過外接的方式對(duì)40-50L的氣瓶進(jìn)行加熱處理，滿足了對(duì)大容量氣瓶的處理要求。

進(jìn)一步的，如圖1所示，處理艙體1內(nèi)還可以設(shè)置有加熱裝置13。

進(jìn)一步的，氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還可以包括自動(dòng)控制系統(tǒng)，該自動(dòng)控制系統(tǒng)分別與加熱裝置13、氣瓶2以及真空泵7電連接。

具體的，自動(dòng)控制系統(tǒng)可以用于根據(jù)設(shè)定的參數(shù)條件自動(dòng)控制所述氣瓶的加熱、排空、充氣以及抽真空流程。例如，在實(shí)際處理的過程中，該自動(dòng)控制系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)氣瓶的加熱→排空→充氣→排空→抽真空的一整套處理，其中，處理的時(shí)間或強(qiáng)度等參數(shù)可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)定，這樣一來，大大提高了設(shè)備的智能性，提高了氣瓶處理的可靠性，降低了操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度。

此外，如圖1所示，氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備還可以包括溫控系統(tǒng)14，該溫控系統(tǒng)14與加熱帶12和/或加熱裝置13電連接。

優(yōu)選的，溫控系統(tǒng)14的溫控范圍可以為0～120℃，溫控系統(tǒng)14的控溫精度為≤1℃。

需要說明的是，在本發(fā)明實(shí)施例中，瓶架3可以承載12個(gè)4L或8L的氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶。外接氣瓶10可以包括1個(gè)40L的氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶。

優(yōu)選的，在本發(fā)明實(shí)施例中，氣瓶可以采用不銹鋼材料制成；鋼瓶與裝置接口全部可以采用不銹鋼快速接頭，便于拆卸安裝；此外，真空泵7可以選用國外進(jìn)口無油低噪音大功率真空泵，真空度>95kPa，排量≥60L/min；設(shè)備內(nèi)部氣體管路均采用國外進(jìn)口EP等級(jí)316L不銹鋼管；部分閥門、管路及接頭連接采用進(jìn)口軌道自動(dòng)對(duì)焊，對(duì)于活接部分，采用VCR連接方式。

本發(fā)明實(shí)施例提供的氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備的實(shí)際使用過程如下：

將12個(gè)待處理的4L鋼瓶上好鋼瓶閥門快速接頭，依次放置于瓶架3中，放置好后將瓶架3直接推入處理艙體1中，將閥門腔體4通過液壓的升降機(jī)構(gòu)5下降25cm，鋼瓶的閥門穿過閥門腔體4的孔，閥門腔體4以降到鋼瓶與閥門的 接頭處為準(zhǔn)，將鋼瓶的閥門通過閥門腔體4中的快速接頭6連接到裝置上，將閥門腔體4和瓶體處理室都關(guān)閉。

啟動(dòng)電源開關(guān)，并設(shè)置參數(shù)，該裝置即可按預(yù)先定義好的程序自動(dòng)對(duì)鋼瓶進(jìn)行處理。其中，裝置的技術(shù)參數(shù)具體為：通過設(shè)定氣體置換時(shí)間、次數(shù)、溫度等參數(shù)以及充入底氣(氮?dú)?的量等，在設(shè)定的溫度環(huán)境中同時(shí)自動(dòng)處理和置換12個(gè)8L或4L鋼瓶，外接口可以處理1個(gè)40L鋼瓶；溫控范圍：常溫～120℃；控溫精度≤1℃；底氣充裝壓力：≤0.8Mpa。

具體的，可以將裝置溫度設(shè)定為100℃，裝置開始升溫，同時(shí)進(jìn)行如下的操作—將鋼瓶內(nèi)的殘氣放入吸收器9中，吸收器9連接單向閥，保證吸收液不倒吸。充入高純氮?dú)庵?.5MPa，然后再放空氣體至0MPa，啟動(dòng)真空泵7對(duì)管路和鋼瓶進(jìn)行抽真空20分鐘，再次充入高純氮?dú)膺M(jìn)行第二次循環(huán)，重復(fù)此操作循環(huán)3次。

采用這樣一種結(jié)構(gòu)的氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶清洗設(shè)備，可以根據(jù)對(duì)氣瓶加熱-放空-充氣-抽真空的流程，通過自動(dòng)控制系統(tǒng)設(shè)定氣體置換時(shí)間、次數(shù)、溫度等參數(shù)以及充入底氣(氮?dú)?的量等，在設(shè)定的溫度環(huán)境中同時(shí)自動(dòng)處理和置換12個(gè)8L或4L鋼瓶，外接口可以處理1個(gè)40L鋼瓶。在氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶加熱的過程中，通過閥門腔體可以將氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)氣瓶的閥門隔絕，從而在保證瓶體能達(dá)到高溫的同時(shí)，避免了閥門由于溫度過高導(dǎo)致變形，有效保證了閥門的密封性。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。