一種鐳雕機用物料帶式輸送的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于：包括傳送帶，用于放置物料的托盤和放置所述托盤的凹槽；所述凹槽的上表面與傳送帶齊平，所述凹槽位于傳送帶內(nèi)部。本發(fā)明的有益之處在于：托盤放在凹槽內(nèi)，凹槽四邊的深度高于托盤的高度，可以避免運輸過程中物料的偏移，凹槽采用下凸的球型能夠使得托盤底部的四周與傳送帶接觸的面積更大，能夠更加平穩(wěn)的傳送物料。
【專利說明】一種鐳雕機用物料帶式輸送機
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種帶式輸送機，具體涉及一種鐳雕機用物料帶式輸送機。
【背景技術(shù)】
[0002]在物料傳送的過程中，常常會發(fā)生物料偏移，而偏移所帶來的對產(chǎn)品的影響是很大的，尤其是在鐳雕領(lǐng)域，由于存在偏移，鐳雕出來的產(chǎn)品會出現(xiàn)殘次品的現(xiàn)象，現(xiàn)有技術(shù)中雖然有很多能夠固定或者穩(wěn)定物料的方法，但是大多都是較為復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡單的鐳雕機用物料帶式輸送機。
[0004]為了實現(xiàn)上述目標，本發(fā)明采用如下的技術(shù)方案:
一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:包括傳送帶，用于放置物料的托盤和用于放置所述托盤的凹槽；所述凹槽的上表面與傳送帶齊平，所述凹槽位于傳送帶內(nèi)部。
[0005]前述的一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:所述凹槽的深度比托盤的高度高1cm。
[0006]前述的一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:所述凹槽的橫截面為長方形。
[0007]前述的一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:所述凹槽的底面為平面或者向下凸的球面。
[0008]前述的一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:所述傳送帶為齒型帶。
[0009]本發(fā)明的有益之處在于:托盤放在凹槽內(nèi)，凹槽四邊的深度高于托盤的高度，可以避免運輸過程中物料的偏移，凹槽采用下凸的球型能夠使得托盤底部的四周與傳送帶接觸的面積更大，能夠更加平穩(wěn)的傳送能夠物料。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖中附圖標記的含義:
1-傳送帶，2-凹槽。
【具體實施方式】
[0012]以下結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明作具體的介紹。
[0013]一種鐳雕機用物料帶式輸送機，傳送帶1，用于放置物料的托盤和用于放置托盤的凹槽2，凹槽2的上表面與傳送帶齊平，凹槽2位于傳送帶內(nèi)部。
[0014]凹槽2的深度比托盤的高度高1cm，這樣托盤能夠完全位于凹槽2內(nèi)，并且部分物料也會位于凹槽2內(nèi)，避免了物料在傳送過程中發(fā)生較大的偏移。凹槽2的橫截面為長方形。[0015]凹槽2的底面為平面或者向下凸的球面，這樣的結(jié)構(gòu)會使得托盤底部接觸的表面積更大或者更加均勻，能夠增大底部的摩擦力，從而實現(xiàn)平穩(wěn)的送料。
[0016]傳送帶I采用齒型帶。
[0017]以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，上述實施例不以任何形式限制本發(fā)明，凡采用等同替換或等效變換的方式所獲得的技術(shù)方案，均落在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:包括傳送帶，用于放置物料的托盤和用于放置所述托盤的凹槽；所述凹槽的上表面與傳送帶齊平，所述凹槽位于傳送帶內(nèi)部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:所述凹槽的深度比托盤的高度高1cm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:所述凹槽的橫截面為長方形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:所述凹槽的底面為平面或者向下凸的球面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鐳雕機用物料帶式輸送機，其特征在于:所述傳送帶為齒型帶。
【文檔編號】B65G15/30GK103523452SQ201310483466
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2013年10月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月16日
【發(fā)明者】楊俊民 申請人:蘇州市國晶電子科技有限公司