專利名稱：輸送機(jī)和成膜裝置及其維護(hù)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種輸送機(jī)和成膜裝置。
本申請基于2007年4月16日在日本申請的專利申請2007-106877號(hào)主 張優(yōu)先權(quán)，在此引用其內(nèi)容。
背景技術(shù)：
在液晶顯示器等的制造工藝中，對大型玻璃基板進(jìn)行力口熱處理和成膜處 理等真空處理。因此，開發(fā)了各種各樣的真空處理裝置。其中之一就有用于 在液晶顯示器的彩色濾光片側(cè)形成ITO膜(電極膜)的托架循環(huán)型的直列濺 射裝置(例如，參照專利文獻(xiàn)l)。
此外，濺射裝置有使濺射后的玻璃基板在真空內(nèi)旋轉(zhuǎn)或橫向移動(dòng)并返 回到真空中的類型(真空返回型)，和使濺射后的玻璃基板從真空搬出到大 氣側(cè)后旋轉(zhuǎn)或橫向移動(dòng)并返回的類型(大氣返回型)。而且，還有輸送相面 對真空中的托架，利用大氣側(cè)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)一枚一枚地分開并返回的類型(兩 面成膜方式的大氣返回型)。其中，大氣返回型的濺射裝置具有制造出真空 狀態(tài)并通過濺射在玻璃基板上形成薄膜的真空裝置和在真空處理裝置外部 輸送搭載有成膜前后的玻璃基板的托架的大氣輸送系統(tǒng)。在該大氣返回型的 濺射裝置中，存在被真空處理裝置和大氣輸送系統(tǒng)包圍的區(qū)域(內(nèi)部區(qū)域)。 為了能夠在濺射裝置內(nèi)穩(wěn)定輸送玻璃基板，玻璃基板被安裝在稱作托架的臺(tái) 車上。
此外，在大氣輸送系統(tǒng)中，利用輸送機(jī)來輸送托架。作為該輸送機(jī)的機(jī) 構(gòu)，在下部支撐機(jī)構(gòu)上使用有齒條齒輪或滾輪，根據(jù)需要有使用磁鐵的非接 觸機(jī)構(gòu)作為上部支撐機(jī)構(gòu)被使用。在此，為了避免搭載于托架上的玻璃基板
4破裂、從托架產(chǎn)生微粒、輸送干擾，特別對輸送機(jī)的輸送線的中心進(jìn)行重點(diǎn) 調(diào)整。此外，為了不產(chǎn)生偏心和輸送線經(jīng)過一段時(shí)間發(fā)生偏離等，并且從調(diào) 整的容易性出發(fā)，以下部支撐機(jī)構(gòu)和上部支撐機(jī)構(gòu)安裝在同 一個(gè)框架上且一 旦調(diào)整之后位置不偏離地將框架牢固地固定在底面上。
專利文獻(xiàn)1:日本專利公開2002-309372號(hào)公報(bào)(圖4 ) 在上述專利文獻(xiàn)l的圖4所記載的連續(xù)式成膜裝置中，濺射室的耙和用 于防止薄膜附著在真空室上的防附著板等的定期更換以及其他機(jī)械系統(tǒng)的 定期檢查等是必須的。在此，圖13表示了現(xiàn)有的成膜裝置的整體結(jié)構(gòu)。濺 射室34的維護(hù)操作如圖13所示，以從賊射室34將包括耙的陰極部件80放 倒的狀態(tài)進(jìn)行。
可是，在陰極部件80從濺射室34朝向大氣輸送系統(tǒng)115放倒的結(jié)構(gòu)的 成膜裝置110中，由于輸送機(jī)40的下部支撐機(jī)構(gòu)和上部支撐機(jī)構(gòu)不動(dòng)，為 了使放倒的陰極部件80和大氣輸送系統(tǒng)115在俯視中不重疊，需要將真空 處理裝置113和大氣輸送系統(tǒng)115的間距擴(kuò)大。也就是說，如圖13所示需 要擴(kuò)大內(nèi)部區(qū)域117，成膜裝置IIO存在必要的設(shè)置面積增大的問題。而且， 由于近年來玻璃基板向大型化發(fā)展，與其相適應(yīng)地陰極部件80的維護(hù)機(jī)構(gòu) 111也大型化，因此存在必須確保內(nèi)部區(qū)域117的更加寬闊的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述情況而產(chǎn)生，提供一種在能夠輸送托架的輸送機(jī)以及在 具有上述輸送機(jī)且具有真空處理裝置和輸送系統(tǒng)的成膜裝置中，能夠使其設(shè) 置面積狹小化的輸送機(jī)和成膜裝置。
關(guān)于本發(fā)明的第一方面為一種輸送機(jī)，具有框架、支撐縱向放置有基板 的托架并輸送上述托架的下部支撐機(jī)構(gòu)、和支撐上述托架的上部支撐機(jī)構(gòu)， 上述框架由下部框架和上部框架構(gòu)成，上述下部支撐機(jī)構(gòu)設(shè)置于上述下部 架上，上述上部支撐框架設(shè)置于上述上部框架上，上述上部框架能夠與上述 下部框架分離而移動(dòng)。這種情況下，具有設(shè)置有上述支撐機(jī)構(gòu)的上部框架和設(shè)置與下部支撐機(jī) 構(gòu)的下部框架的位置關(guān)系能夠錯(cuò)開的效果。
此外，下部支撐機(jī)構(gòu)安裝在下部框架內(nèi)，利用下部支撐機(jī)構(gòu)一邊支撐托 架的載重 一邊輸送托架，因此能夠在下部支撐機(jī)構(gòu)的輸送路線精度良好地定 位的狀態(tài)下，精度良好地輸送托架。因此，具有能夠防止托架所搭載的基板 的破裂、從托架產(chǎn)生微粒和輸送干擾的效果。
上述下部框架被支撐固定在底面上，上述上部框架與將上述下部框架支 撐在上述底面上的垂直軸中的任意一個(gè)相連接，能夠以上述垂直軸為中心旋 轉(zhuǎn)。
這種情況下，能夠在下部支撐機(jī)構(gòu)處于固定的狀態(tài)下，僅使上部支撐機(jī) 構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)。因此，具有能夠維持下部支撐機(jī)構(gòu)精度的效果。此外，由于上部框 架能夠以將下部框架固定在底面上的垂直軸為中心旋轉(zhuǎn)，具有能夠在下部框 架的上方容易地形成空間，并使上部框架簡單地返回下部框架的上方而定位 的效果。
上述上部支撐機(jī)構(gòu)可以非接觸地支撐上述托架。
這種情況下，由于上部支撐機(jī)構(gòu)能夠與托架非接觸地輸送，即使上部框 架(上部支撐機(jī)構(gòu))的位置有一些偏離也不影響托架的輸送，具有能夠可靠 地輸送托架的效果。
在上述上部框架的旋轉(zhuǎn)方向的面前側(cè)，相對上述底面設(shè)置有支撐上述上 部框架并沿著上述底面轉(zhuǎn)動(dòng)的第一滾輪，在上述上部框架的旋轉(zhuǎn)方向里側(cè)， 相對上述底面設(shè)置有支撐上述上部框架并沿著上述底面轉(zhuǎn)動(dòng)的第二滾輪，上 述第二滾輪能夠移動(dòng)到，當(dāng)上述上部框架旋轉(zhuǎn)時(shí)，不與上述下部框架相干涉
的位置上。
這種情況下，當(dāng)上部框架旋轉(zhuǎn)時(shí)，由于上部框架的載重能夠通過與上述
下部框架相連接的垂直軸、第一滾輪和第二滾輪三點(diǎn)支撐在底面上，具有上
部框架不會(huì)因?yàn)樽灾囟鴥A斜，能夠可靠地旋轉(zhuǎn)的效果。
. 另外，由于第二滾輪能夠被收納，當(dāng)旋轉(zhuǎn)上部框架時(shí)，能夠僅在與下部框架干涉時(shí)移動(dòng)到不與第二滾輪相干涉的位置上，其它時(shí)候相對底面支撐上 部框架而使用，具有能夠高效使用的效果。
在具有縱向支撐并輸送上述基板的上述托架、在搭載于上述托架上的上 述基板上進(jìn)行成膜處理的成膜處理路徑、和與上述成膜處理路徑并列配置的 托架輸送路徑，且被構(gòu)成為上述成膜處理路徑的構(gòu)成部件能夠向著上述托架 輸送路徑移動(dòng)的成膜裝置中，上述托架輸送路徑上設(shè)置有上述任意一個(gè)輸送 機(jī)，上述上部框架能夠移動(dòng)到可以回避與移動(dòng)后的上述成膜處理路徑的上述 構(gòu)成部件干涉的位置上。
這種情況下，由于移動(dòng)上部框架，能夠在下部框架的上方形成空間，并 能夠?qū)⒁苿?dòng)后的成膜處理路徑的構(gòu)成部件配置在該空間內(nèi)，可以使成膜處理 路徑和托架輸送路徑的距離靠近。因此，具有能夠使成膜裝置的設(shè)置面積狹 小化的效果。
上述成膜處理路徑的上述構(gòu)成部件可以是濺射處理裝置的靶的支撐部件。
這種情況下，當(dāng)維護(hù)濺射處理裝置時(shí)，由于通過旋轉(zhuǎn)上部框架，能夠?qū)?濺射處理裝置的靶的支撐部件配置在形成于下部框架上方的空間內(nèi)，可以使 成膜處理路徑和托架輸送路徑的間隔狹窄。因此，具有能夠使具有成膜處理 路徑和托架輸送路徑的成膜裝置的設(shè)置面積狹小化的效果。
上述成膜裝置的維護(hù)方法可以具有使上述上部框架從上述下部框架分 離并移動(dòng)到退避位置的工序，和將上述成膜處理路徑的構(gòu)成部件放倒在上述 下部框架的上方，對上述成膜處理路徑的構(gòu)成部件進(jìn)行維護(hù)的工序。
這種情況下，由于移動(dòng)上述上部框架，能夠在上述下部框架的上方形成 空間，并能夠?qū)⒁苿?dòng)后的上述成膜處理路徑的上述構(gòu)成部件配置在該空間 內(nèi)，可以使上述成膜處理路徑和上述托架輸送路徑的距離靠近。因此，具有 能夠使成膜裝置的設(shè)置面積狹小化的效果。
發(fā)明效果
利用本發(fā)明，由于在維護(hù)成膜裝置時(shí)，旋轉(zhuǎn)輸送機(jī)的上部框架，可以在下部框架的上方形成空間，并能夠?qū)⒊赡ぬ幚硌b置的構(gòu)成部件配置在該空間 內(nèi)，所以可以使成膜處理路經(jīng)和托架輸送路徑的距離靠近。因此，具有能夠 將成膜裝置的設(shè)置面積狹小化的效果。


圖1為表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的賊射裝置整體結(jié)構(gòu)的概要圖2為表示表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的濺射室的維護(hù)機(jī)構(gòu)的移動(dòng)的說明
圖3為本發(fā)明的實(shí)施方式中的托架上放置玻璃基板時(shí)的立體圖； 圖4為本發(fā)明的實(shí)施方式中的輸送機(jī)的側(cè)視圖5為表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的輸送機(jī)的下部支撐機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的立體
圖6為表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的輸送機(jī)的上部支撐機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的概要
圖7為表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的輸送機(jī)的框架結(jié)構(gòu)的立體圖； 圖8為表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的輸送機(jī)的框架結(jié)構(gòu)的俯視圖； 圖9為圖8中的A部分的方丈大側(cè)一見圖10為本發(fā)明的實(shí)施方式中的輸送機(jī)的上部框架移動(dòng)時(shí)的概要說明圖； 圖11為表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的濺射室的側(cè)面放倒時(shí)的與下部框架的 位置關(guān)系的概要說明概要圖13為表示現(xiàn)有的成膜裝置的整體結(jié)構(gòu)的概要圖； 符號(hào)說明
IO成膜裝置，ll玻璃基板(基板)，13托架，15托架輸送路徑，17成膜 處理路徑，34賊射室(賊射處理裝置)，40輸送機(jī)，41框架，43下部支撐機(jī)構(gòu)， 45上部支撐機(jī)構(gòu)，47下部框架，49上部框架，55垂直軸，59第一滾輪，61 第二滾輪，80陰極部件(構(gòu)成部件，靶的支撐部件)，F(xiàn)L底面
具體實(shí)施例方式
接下來，根據(jù)圖1~圖12對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。用于以下說明的 各附圖中，為了成為能夠識(shí)別各部件的大小，適宜地改變了各部件的比例。 (成膜裝置) 圖1為表示成膜裝置整體結(jié)構(gòu)的俯視圖。
如圖1所示，成膜裝置10包括配置有縱向保持玻璃基板11的托架 13并在大氣壓下輸送該托架13的托架輸送路徑15，和在真空狀態(tài)下在玻璃 基板11上成膜的成膜處理路徑17。在此，成膜裝置IO是兩面成膜方式的 成膜裝置，即，托架13在成膜處理路徑17中能夠兩列并行輸送，在后述的 濺射室34能夠從兩側(cè)成膜。
成膜處理路徑17按照順序包:fe與第二旋轉(zhuǎn)部23連接并具有真空排氣 裝置29的加載(口一 H、口 、7夕)室31、具有加熱器30的加熱室32、調(diào)整 在行進(jìn)方向上相鄰的托架13之間的距離的濺射入口室33、在玻璃基板11 上進(jìn)行成膜的濺射室34、調(diào)整在行進(jìn)方向上相鄰的托架13之間的距離的濺 射出口室35、具有真空排氣裝置29的卸載(7乂口一 K口 、7夕)室36。卸載 室36與托架輸送路徑15的第三旋轉(zhuǎn)部24連接。
此外，第二旋轉(zhuǎn)部23和加載室31之間設(shè)置有閘閥38a,同樣，分別在 加載室31和加熱室32之間設(shè)置有閘閥38b,在加熱室32和濺射入口室33 之間設(shè)置有閘閥38c,在濺射出口室35和卸載室36之間設(shè)置有閘閥38d， 在卸載室36和第三旋轉(zhuǎn)部24之間設(shè)置有閘閥38e。
另外，濺射室34的維護(hù)機(jī)構(gòu)71被構(gòu)成為使濺射室34中的與輸送托架 13的成膜處理路徑17平行的側(cè)面72放倒。在側(cè)面72上，配置有作為靶的 支撐部件的陰極部件80和防止薄膜附著在濺射室34內(nèi)的防附著板等。當(dāng)通 過靶的更換等維護(hù)陰極部件80時(shí)，通過維護(hù)機(jī)構(gòu)71使側(cè)面72在放倒的狀 態(tài)下進(jìn)行。
圖2為表示維護(hù)機(jī)構(gòu)71的概要結(jié)構(gòu)的說明圖。如圖2所示，側(cè)面72的下部延伸地設(shè)置有腿73，在腿73的下端附近 通過旋轉(zhuǎn)軸74與濺射室34的下部結(jié)構(gòu)體75相連。側(cè)面72上一體形成有多 根腿76 (本實(shí)施方式中為4根)。腿76由動(dòng)力缸構(gòu)成，其軸部82通過旋 轉(zhuǎn)軸84與下部構(gòu)造體75相連。而且，軸部82通過動(dòng)力缸能夠伸縮。
回到圖1,托架輸送路徑15包括用于將從別處輸送來的玻璃基板11 放入成膜裝置10中的入口部21、使玻璃基板11旋轉(zhuǎn)并引導(dǎo)到成膜處理路 徑17中的第一旋轉(zhuǎn)部22和第二旋轉(zhuǎn)部23、使在成膜處理路徑17內(nèi)完成成 膜的玻璃基板11旋轉(zhuǎn)并引導(dǎo)到后述的出口部27中的第三旋轉(zhuǎn)部24和第四 旋轉(zhuǎn)部25、輸送成膜后的玻璃基板11的輸送部26、以及將成膜后的玻璃基 板11從成膜裝置取出的出口部27。
托架輸送路徑15被保持在大氣壓下的環(huán)境中，為了能夠避免微粒發(fā)生、 維持高的清潔度而使用HEPA過濾器，產(chǎn)生向下流動(dòng)的氣流來保持托架輸送 ^4圣15內(nèi)的氣氛。
此外，玻璃基板11從別處以水平狀態(tài)輸送過來，在入口部21將玻璃基 板大致垂直地立起，之后，搭載到托架13上。在出口部27通過與入口部 21相反的步驟將玻璃基板11從托架13取下。
圖3為表示托架13的概要結(jié)構(gòu)的立體圖。
如圖3所示，托架13具有由鋁等制成的框狀的托架框架65、沿著托架 框架65的上邊設(shè)置的-茲體66、沿著托架框架65的下邊設(shè)置的由圓桿形成 的滑件67、用于承受玻璃基板11的載重且保持玻璃基板11的水平度的基 板接納件68、用于使玻璃基板11保持在托架13上的夾緊件69、以及用于 覆蓋玻璃基板11周邊的非成膜區(qū)域的掩蓋物70。
而且，搭載有玻璃基板11的托架13能夠在托架輸送路徑15和成膜處 理路徑17上移動(dòng)。 (輸送機(jī))
圖4為輸送才幾40的剖面圖。
如圖4所示，.輸送機(jī)40具有由鋼制部件組成的框架41、能夠在支撐托架13的載重并輸送托架13的下部支撐機(jī)構(gòu)43、以及能夠非接觸地支撐 托架13的上部的上部支撐機(jī)構(gòu)45。
在此，框架41包括設(shè)置有下部支撐機(jī)構(gòu)43的下部框架47和設(shè)置有 上部支撐機(jī)構(gòu)45的上部框架49。托架13通過下部支撐機(jī)構(gòu)43和上部支撐 機(jī)構(gòu)45，能夠在水平方向上且保持在大致垂直的狀態(tài)下，在框架41內(nèi)移動(dòng)。 隨著玻璃基板11的大型化，框架41被形成為例如高4600mm,寬600mm(僅 框架部分)程度的大小。
圖5是表示輸送機(jī)40的下部支撐機(jī)構(gòu)43的結(jié)構(gòu)的立體圖。 如圖5所示，下部支撐機(jī)構(gòu)43具有電動(dòng)機(jī)51和滾輪52。通過電動(dòng)機(jī) 51驅(qū)動(dòng)，滾輪52旋轉(zhuǎn)，托架13在滾輪52上水平移動(dòng)。具體地，設(shè)置在托 架13下部的后述的滑件67與滾輪52外周的槽部配合，托架13能夠水平移 動(dòng)。為了使托架13的水平移動(dòng)無障礙，在一個(gè)下部框架47內(nèi)設(shè)置多個(gè)滾輪 52。
圖6是表示輸送機(jī)40的上部支撐機(jī)構(gòu)45的結(jié)構(gòu)的說明圖。 如圖6所示，在上部支撐機(jī)構(gòu)45，在上部框架49的上部且從托架13 的上邊通過的區(qū)域向側(cè)方隔著間隔地設(shè)置有一對磁體53a、 53b。 一對磁體 53a、 53b以彼此的N極和S才及相對地安裝。此外， 一對石茲體53a、 53b在上 部框架49內(nèi)設(shè)置有多對。而且，在托架13的上邊也安裝有后述的；茲體66， 構(gòu)成為》茲體66通過上部沖醫(yī)架49的一對石茲體53a、 53b之間，且纟皮配置為,茲 體53a的N極和磁體66的N極相對，磁體53b的S極和磁體66的S極相 對。
通過如此構(gòu)成，f茲體之間互相排斥，從而Y吏保持托架13的垂直狀態(tài)成 為可能。也就是，通過保持玻璃基板11垂直，能夠抑制隨著玻璃基板11的 大型化而產(chǎn)生的成膜裝置IO的設(shè)置面積的增大，并能夠避免大型基板的撓 曲所產(chǎn)生的影響。
回到圖4，具有下部支撐機(jī)構(gòu)的下部框架47被固定在底面FL上。也就
是，在成膜裝置10的設(shè)置階段，下部支撐機(jī)構(gòu)43被調(diào)整位置使托架13能
ii夠可靠地水平移動(dòng)，并且，相鄰的框架41的下部支撐機(jī)構(gòu)43也被調(diào)整位置， 一旦調(diào)整后位置不再偏移。
下部支撐機(jī)構(gòu)43利用滾輪52輸送托架13，由于滾輪52承受搭載玻璃 基板11的托架13的載重并在水平方向上進(jìn)行輸送，因此在輸送路線上如果 稍微發(fā)生偏移，將會(huì)發(fā)生托架13在輸送時(shí)震動(dòng)，由此產(chǎn)生微粒，成品率降 低等不好的情況。因此，對下部支撐機(jī)構(gòu)43有位置精度的要求，優(yōu)選一旦 位置調(diào)整之后，就固定在該位置上。
圖7為輸送機(jī)40的框架結(jié)構(gòu)的立體圖。
如圖7所示，上部框架49相對下部框架47的一根垂直軸55能夠旋轉(zhuǎn) 地被連接，并配置在下部框架47的正上方。此外，在上部框架49的旋轉(zhuǎn)方 向面前側(cè)的側(cè)面56上，設(shè)置有使上部框架49旋轉(zhuǎn)時(shí)使用的4巴手57。而且， 與把手57連接地向著底面FL延伸有腿58,在腿58的前端設(shè)置有與底面 FL相接觸的第 一滾輪59。
回到圖4，在與安裝有第一滾輪59的側(cè)面(旋轉(zhuǎn)方向面前側(cè)的面)56 相對的側(cè)面60上設(shè)置有第二滾輪61。第二滾輪61設(shè)置在腿63的前端，腿 63通過旋轉(zhuǎn)軸62與上部框架49相連。第二滾4侖61 ;故構(gòu)成為，當(dāng)〗吏上部框 架49旋轉(zhuǎn)時(shí)，能夠移動(dòng)到不與下部框架47相干涉的位置上。在此，第二滾 輪61通過旋轉(zhuǎn)軸62，在垂直剖面上描繪出近似半圓狀而旋轉(zhuǎn)，且與底面FL 相接觸。在第二滾輪被收納的狀態(tài)下，第二滾輪通過未圖示的止動(dòng)部件被保 持在上部框架49上。雖然圖4中的第二滾輪61是通過以旋轉(zhuǎn)軸62為中心 旋轉(zhuǎn)而被收納的結(jié)構(gòu)，但是因?yàn)榈诙L輪61只要在使上部框架49移動(dòng)時(shí)能 夠移動(dòng)到與下部框架47不干涉的位置上，且能夠精度良好地回到原來的位 置上就可以，所以也可以是例如能夠?qū)⑼?3向鉛直上方平行移動(dòng)而收納的 結(jié)構(gòu)，也可以使用定位用的連接器等使腿63可以裝卸。此外，第二滾輪61 由于還具有在輸送托架13時(shí)(上部框架49配置在下部框架47的正上方的 狀態(tài))及旋轉(zhuǎn)上部框架49時(shí)承受其載重的作用，優(yōu)選安裝在遠(yuǎn)離垂直軸55 的位置上。 ，圖8為表示輸送機(jī)40的框架結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖9為圖8的A部詳細(xì)側(cè)視圖。
如圖8、圖9所示，在上部框架49的側(cè)面60側(cè)，與下部框架47的交 界部上設(shè)置有承重導(dǎo)向滾輪64。承重導(dǎo)向滾輪64設(shè)置在側(cè)面60的兩側(cè)， 當(dāng)上部框架49位于下部框架47的上部時(shí)(通常狀態(tài))，與從下部框架47 向側(cè)方突出而一體形成的承重部86相接觸。承重導(dǎo)向滾輪64與承重部86 接觸，由此將上部框架49的載重的一部分傳遞給下部框架47，成為被下部 框架47支撐。通過如此構(gòu)成，上部框架49在通常狀態(tài)下，其四個(gè)角由第一 滾輪59、第二滾輪61、垂直軸55和承重導(dǎo)向滾輪64支撐，能夠保持穩(wěn)定 的狀態(tài)。
此外，上部框架49和下部框架47之間，還設(shè)置有未圖示的卡定部。卡 定部例如具有手柄，通過旋轉(zhuǎn)(檸)手柄，設(shè)置在上部框架49或下部框架 47的一方上的軸插入到形成在另 一方的孔中，將上部框架49和下部框架47 卡定，從而進(jìn)行對位。
進(jìn)一 步地，在上部框架49和下部框架47之間形成有20mm左右的間隙， 在該間隙中安裝有未圖示的防塵橡膠。防塵橡膠可以使用例如剖面為半圓形 狀的防塵橡膠。通過如此設(shè)置，能夠使框架的防塵性能提高。
而且，為了防止旋轉(zhuǎn)過度，在上部框架49的側(cè)面56上設(shè)置有與下部框 架47抵接而阻止過度的旋轉(zhuǎn)的止動(dòng)部件78 (參照圖4)。止動(dòng)部件78與下 部框架47抵接后，上部框架49和下部框架47之間利用卡定部卡定，從而 完成上部框架49與下部框架47對位。 (基板成膜方法)
接下來，根據(jù)圖1等對在玻璃基板11進(jìn)行成膜時(shí)的作用進(jìn)行說明。 玻璃基板11從別處以水平狀態(tài)被輸送來到成膜裝置10的入口部21前。 之后，將玻璃基板11立起為垂直狀態(tài)，并將玻璃基板11搭載到放置于入口 部21中的托架13上。此時(shí)，使玻璃基板11與托架13的基板接納件68相 抵接之后，通過夾緊件69將玻璃基板11保持在托架13上(參照圖3)。搭載有玻璃基板11的托架13，通過下部支撐機(jī)構(gòu)43的滾輪52的旋轉(zhuǎn) 開始移動(dòng)(參照圖5),并被輸送到第一旋轉(zhuǎn)部22。在第一旋轉(zhuǎn)部22,在 托架13放置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)79的狀態(tài)下，首先以垂直軸為中心旋轉(zhuǎn)托架13大約 90度，然后輸送到第二旋轉(zhuǎn)部23。在第二旋轉(zhuǎn)部23，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)79上使托 架13進(jìn)一步以垂直軸為中心旋轉(zhuǎn)大約90度，使其成為能夠向成膜處理路徑 17的加載室31輸送的方向。而且，在閘閥38a成為打開狀態(tài)后，將托架13 向加載室31輸送。
托架13被輸送到加載室31后，使閘閥38a成為關(guān)閉狀態(tài)，之后，利用 真空排氣裝置29使室內(nèi)排氣，使加載室31成為真空狀態(tài)。加載室31內(nèi)成 為真空狀態(tài)后，使閘閥38b成為開啟狀態(tài)，將托架13向加熱室32輸送。
托架13被輸送到加熱室32后，使閘閥38b成為關(guān)閉狀態(tài)，之后，通過 加熱器30加熱玻璃基^反11。玻璃基板11加熱完成后，使閘閥38c成為開啟 狀態(tài)，將4乇架13向?yàn)R射入口室33輸送。
托架13被輸送到濺射入口室33后，使閘閥38c成為關(guān)閉狀態(tài)。之后， 使托架13移動(dòng)到與位于其前方的托架的后端相連接的位置上。在托架13位 于前方的托架的后端的階段，使其成為與前方的托架相同的速度。通過如此 構(gòu)成，在濺射室34能夠連續(xù)濺射玻璃基板11,所以能夠高效地成膜。
在這種狀態(tài)下，托架13被輸送到濺射室34。在濺射室34,利用通常的 賊射方法對玻璃基板11實(shí)施成膜。在此，由于玻璃基板11的周邊配置有掩 蓋物70 (參照圖3)，所以僅在玻璃基板11的必要區(qū)域上成膜。成膜完成 后托架13被輸送到濺射出口室35。
托架13被輸送到濺射出口室35后，提高托架13的速度，拉開與后方 相連接的托架之間的間隔。之后，使閘閥38d成為開啟狀態(tài)，將托架13向 卸載室36輸送。此時(shí)，卸載室36被保持在真空狀態(tài)。
托架13被輸送到卸載室36后，使閘閥38d成為關(guān)閉狀態(tài)。之后，托架 13-陂輸送到卸載室36內(nèi)， -使閘閥38e成為開啟狀態(tài)，將托架13在大氣壓下 向第三旋轉(zhuǎn)部24輸送。之后，被輸送到第三旋轉(zhuǎn)室24的托架13，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)79上以垂直軸為 中心旋轉(zhuǎn)大約卯度，向第四旋轉(zhuǎn)部25輸送。在第四旋轉(zhuǎn)部25,使托架13 在旋轉(zhuǎn)臺(tái)79上以垂直軸為中心旋轉(zhuǎn)大約90度，成為能夠向輸送部26輸送 的方向之后，將托架13向輸送部26輸送。托架13在輸送部26內(nèi)祐_輸送， 被引導(dǎo)到出口部27。
托架13被輸送到出口部27后，將搭載在托架13上的成膜后的玻璃基 板11取出，將玻璃基板11輸送到下一道工序的裝置。
在此，該成膜裝置l(M皮構(gòu)成為，成膜處理路徑17平行地形成有兩條， 在濺射室34中，能夠從兩側(cè)成膜。也就是說，在賊射室34中能夠平行地配 置兩組托架13,且能夠?qū)Υ钶d在各自托架13上的玻璃基板11同時(shí)成膜。 成膜處理^各徑17也可以Y又形成一條。
在這種成膜裝置10中，在濺射室34的兩側(cè)面72上設(shè)置有靶的陰極部 件80和用于防止向?yàn)R射室34內(nèi)附著薄膜的防附著板等。陰極部件80和防 附著板需要進(jìn)行更換和定期檢查等維護(hù)。此時(shí)，將'減射室34的側(cè)面72放倒 在底面上，將安裝有靶等的面置于水平狀態(tài)下，進(jìn)行維護(hù)。 (濺射室的維護(hù)方法)
對于維護(hù)濺射室34的陰極部件80時(shí)的機(jī)構(gòu)進(jìn)行i兌明。
如圖2所示，為了維護(hù)設(shè)置在濺射室34的側(cè)面72上的陰極部件80, 將側(cè)面72放倒使其與底面FL大致平行。
在將側(cè)面72放倒時(shí)，側(cè)面72以旋轉(zhuǎn)軸74為中心倒下，直到側(cè)面72放 倒成水平狀態(tài)。此時(shí)，連接在與側(cè)面72 —體形成的腿76的軸部82 —邊以 旋轉(zhuǎn)軸84為中心旋轉(zhuǎn)，且一邊通過動(dòng)力缸伸展的同時(shí)，側(cè)面72 一皮;改倒下去。 當(dāng)腿76的前端位于底面FL上時(shí)，能夠支撐配置有陰極部件80的側(cè)面72 的載重的同時(shí)，保持其水平。
(框架的動(dòng)作方法)
接下來，對于使濺射室34的維修機(jī)構(gòu)71工作時(shí)的框架41的動(dòng)作，使 用圖IO進(jìn)行說明。圖10為輸送機(jī)的上部框架移動(dòng)時(shí)的概要說明圖。
如圖10所示，將卡定框架41的上部框架49和下部框架47的未圖示的 卡定部解開，將上部框架49的4巴手57 ^立向面前側(cè)時(shí)，上部才醫(yī)架49以連接 于上部框架49和下部框架47之間的垂直軸55為中心旋轉(zhuǎn)而移動(dòng)。此時(shí)， 上部框架49的載重由垂直軸55和第一滾輪59支撐。而且，當(dāng)使上部框架 49旋轉(zhuǎn)直到安裝有第二滾輪61的部位在俯視中為與下部框架47不干涉的 位置之后，解開第二滾輪61的未圖示的止動(dòng)件，以第二滾輪61接觸底面 FL并以旋轉(zhuǎn)軸62為中心旋轉(zhuǎn)。在這種狀態(tài)下，進(jìn)一步使上部框架49旋轉(zhuǎn)， 旋轉(zhuǎn)大約90度。此時(shí)上部框架49的載重由垂直軸55、第一滾輪59和第二 滾輪61三點(diǎn)支撐，上部框架49能夠不由于自重?fù)u晃地旋轉(zhuǎn)。
圖U為表示濺射室的側(cè)面72放倒時(shí)的與下部框架47的位置關(guān)系的概 要說明圖。
如圖ll所示，移動(dòng)上部框架49，則在下部框架47的上方形成有空間 77。濺射室34的側(cè)面72^b改倒到該空間77中，#1配置為在俯^見中與下部 框架47重疊(參照圖1)。進(jìn)一步地，構(gòu)成為下部框架47和側(cè)面72在上 下方向(垂直方向)上不干涉，即側(cè)面72配置在下部框架47的上方。,人而， 沒有必要將成膜處理路徑17和托架輸送路徑15配置成，被放倒的濺射室 34的側(cè)面72和托架輸送路徑15在俯視中不重合(參照圖13),從而使成 膜處理路徑17和托架輸送路徑15之間的距離靠近成為可能(參照圖1)。 也就是說，由于可以使形成于成膜裝置10中的內(nèi)部區(qū)域81狹窄，成膜裝置 10的設(shè)置面積狹小化成為可能。在此，由動(dòng)力缸構(gòu)成的腿76被設(shè)計(jì)成為能 夠進(jìn)入下部框架47的下部。
側(cè)面72的維護(hù)完成后，將側(cè)面72返回原來的位置，之后，使上部框架 49旋轉(zhuǎn)并回到原來的位置。此時(shí)，如果第二滾輪61在與下部框架47干涉 的位置上，則先暫時(shí)向上部框架49一側(cè)移動(dòng)(收納)，再使上部框架49壓 向下部框架47而旋轉(zhuǎn)。另外，在上部框架49上設(shè)置有通過與下部框架47 抵接而無法過度旋轉(zhuǎn)的止動(dòng)部件78,用于.不使上部框架49旋轉(zhuǎn)過度(參照圖4)。止動(dòng)部件78與下部框架47抵接之后，通過上部框架49和下部框 架47之間利用卡定部卡定，從而成為托架13能夠在框架41內(nèi)輸送的狀態(tài)。 此后，將移動(dòng)到上部框架49一側(cè)的第二滾輪61再次移動(dòng)，為了支撐上部框 架49的載重與底面FL相接觸。
此外，能夠如此旋轉(zhuǎn)的框架41，可以配置在適合濺射室34的側(cè)面72 的寬度的位置上，當(dāng)側(cè)面72具有以一個(gè)框架41是無法對應(yīng)的大小的寬度時(shí)， 以使兩個(gè)框架41能夠旋轉(zhuǎn)且可以從中心向左右打開來配置框架41,從而能 夠以兩個(gè)框架的寬度來對應(yīng)。
根據(jù)本實(shí)施方式，在具有框架41、支撐縱向放置有玻璃基板11的托架 13并輸送托架13的下部支撐機(jī)構(gòu)43、和支撐托架13的上部支撐機(jī)構(gòu)45的 輸送機(jī)40中，框架41由下部框架47和上部框架49構(gòu)成，下部支撐機(jī)構(gòu) 43設(shè)置在下部框架47上，上部支撐機(jī)構(gòu)45設(shè)置在上部框架49上，并構(gòu)成 為上部框架49能夠與下部框架47分離而移動(dòng)。
此外，下部支撐機(jī)構(gòu)43安裝在下部框架47內(nèi)，由下部支撐才幾構(gòu)43支 撐托架13的載重并輸送托架13，因此下部支撐機(jī)構(gòu)43的輸送路線在精度 良好地被定位的狀態(tài)下，可以精度良好地輸送托架。因此，能夠防止搭載于 托架13上的玻璃基板11破裂、從托架13產(chǎn)生微粒和輸送干擾。
此外，下部框架47固定在底面FL上，上部框架49與下部框架47的 固定在底面上的垂直軸55相連接，并能夠以垂直軸55為中心旋轉(zhuǎn)。
此時(shí)，下部支撐機(jī)構(gòu)43是被固定的狀態(tài)，可以僅使上部支撐機(jī)構(gòu)45 旋轉(zhuǎn)。因此，可以維持下部支撐機(jī)構(gòu)43的精度。此外，由于上部框架49被 構(gòu)成為能夠以將下部框架47固定在底面FL上的垂直軸55為中心旋轉(zhuǎn)，因 此下部框架47的上方能夠容易地形成空間77，并能夠使上部框架49簡單 地返回到下部框架47的上方而定位。
此外，上部支撐機(jī)構(gòu)45構(gòu)成為非接觸地支撐托架13。
由于這種構(gòu)成，即使上部框架49(上部支撐機(jī)構(gòu)45)的位置稍微偏離， 也不會(huì)對托架13的輸送產(chǎn)生影響，能夠可靠地輸送托架13。此外，在上部框架49的旋轉(zhuǎn)方向面前側(cè)的側(cè)面56上，相對底面FL設(shè) 置有支撐上部框架49并沿著底面FL轉(zhuǎn)動(dòng)的第一滾輪59，在上部框架49的 旋轉(zhuǎn)方向里側(cè)的側(cè)面60上，相對底面FL設(shè)置有支撐上部框架49并沿著底 面FL轉(zhuǎn)動(dòng)的第二滾輪61，在上部框架49移動(dòng)時(shí)使第二滾輪能夠移動(dòng)到不 與下部框架47相干涉的位置上。具體地，將第二滾輪61設(shè)置在腿63的前 端，腿63通過旋轉(zhuǎn)軸62與上部框架49相連。在使上部框架49旋轉(zhuǎn)時(shí)，第 二滾輪61通過旋轉(zhuǎn)軸62以在垂直剖面上描繪出近似半圓形狀而旋轉(zhuǎn)，并將 第二滾輪61向上方抬起，能夠移動(dòng)到不與下部框架47相干涉的位置上。
此時(shí)，^吏上部才醫(yī)架49旋轉(zhuǎn)時(shí)，由于可以使上部框架49的載重通過與下 部框架47連接的垂直軸55、第一滾輪59和第二滾輪61三點(diǎn)支撐在底面FL 上，上部框架49不會(huì)因自重而傾斜，可以可靠地旋轉(zhuǎn)。此外，由于第二滾 輪61能夠與下部框架47不干涉地移動(dòng)，因此當(dāng)旋轉(zhuǎn)上部框架49時(shí)，僅在 與下部框架47干涉時(shí)移動(dòng)第二滾輪61,其他時(shí)候可以用于相對底面FL支 撐框架49,可以高效地使用。
進(jìn)一步地，在具有縱向支撐并輸送玻璃基板U的托架13、在搭載于托 架13上的玻璃基板11上進(jìn)行成膜處理的成膜處理路徑17和與成膜處理路 徑17并列配置的托架輸送i 各徑15，且設(shè)置在成膜處理;洛徑17的濺射室34 的側(cè)面72上的陰極部件80能夠以向托架輸送路徑15放倒而移動(dòng)的成膜裝 置10中，托架輸送路徑15上設(shè)置有與具有托架13的下部支撐機(jī)構(gòu)43的下 部框架47相分離，并具有托架13的上部支撐機(jī)構(gòu)45的上部框架49,該上 部框架49能夠移動(dòng)到可以回避與移動(dòng)的陰極部件80之間干涉的位置(退避 位置)。
此時(shí)，移動(dòng)上部框架49,可以在下部框架47的上方形成空間77，并可 以將移動(dòng)后的賊射室34的側(cè)面72上設(shè)置的陰極部件80配置在該空間77內(nèi)， 因此可以使成膜處理路徑17和托架輸送路徑15的距離靠近。因此，成膜裝 置10的設(shè)置面積能夠狹小化。
而且，當(dāng)維護(hù)設(shè)置在賊射室34的側(cè)面72上的陰極部件80時(shí)，由于通過旋轉(zhuǎn)上部框架49,能夠?qū)㈥帢O部件80配置在形成于下部框架47上方的 空間77內(nèi)，可以使成膜處理路徑17和托架輸送路徑15的間隔狹窄。因此， 可以使成膜裝置10的內(nèi)部區(qū)域81狹窄，所以可以使具有成膜處理路徑17 和托架輸送路徑15的成膜裝置10的設(shè)置面積狹小化。
本發(fā)明的技術(shù)范圍不限于上述實(shí)施方式，在不脫離本發(fā)明的精神的范圍 內(nèi)，包括對上述實(shí)施方式進(jìn)行的各種變更。即，實(shí)施方式所舉出的具體材料 和結(jié)構(gòu)等都只是一個(gè)例子，可以進(jìn)行適當(dāng)變更。
例如，雖然在本實(shí)施方式中，使上部支撐機(jī)構(gòu)45為設(shè)置在上部框架49 上的磁體與設(shè)置在托架13上的磁體相互排斥的結(jié)構(gòu)，但如圖12所示，也可 以配置成，使設(shè)置在上部框架49上的一個(gè)》茲體53和設(shè)置在托架13上的》茲 體66在垂直方向上相對，并JU茲體53、 66雙方相互吸引，4吏托架13能夠 保持為大致垂直。
另外，在本實(shí)施方式中，雖然對成膜處理路徑采用兩面成膜方式的情況 作了說明，但本發(fā)明也適用于，在單面成膜方式中，將設(shè)置在濺射室的側(cè)面 上的陰極部件向托架輸送路徑側(cè)放倒并進(jìn)行維護(hù)的成膜裝置。
產(chǎn)業(yè)上的利用可能性
根據(jù)本發(fā)明的輸送機(jī)和成膜裝置，可以使其設(shè)置面積狹小化。
權(quán)利要求
1、一種輸送機(jī)，具有框架，支撐縱向放置有基板的托架并輸送所述托架的下部支撐機(jī)構(gòu)，和支撐所述托架的上部支撐機(jī)構(gòu)，該輸送機(jī)的特征在于，所述框架由下部框架和上部框架構(gòu)成，所述下部支撐機(jī)構(gòu)設(shè)置在下部框架上，所述上部支撐機(jī)構(gòu)設(shè)置在上部框架上，所述上部框架能夠與所述下部框架分離而移動(dòng)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的輸送機(jī)，其中， 所述下部框架被支撐固定在底面上，所述上部框架與將所述下部框架支撐在底面的垂直軸的任意一個(gè)相連 接，并能夠以所述垂直軸為中心旋轉(zhuǎn)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的輸送機(jī)，其中，所述上部支撐機(jī)構(gòu)非接觸地 支撐所述托架。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的輸送機(jī)，其中，在所述上部框架的旋轉(zhuǎn)方向面前側(cè)，相對所述底面設(shè)置有支撐所述上部 框架并沿著所述底面轉(zhuǎn)動(dòng)的第一滾輪；在所述上部框架的旋轉(zhuǎn)方向里側(cè)，相對所述底面設(shè)置有支撐所述上部框 架并沿著所述底面轉(zhuǎn)動(dòng)的第二滾輪；所述第二滾輪能夠移動(dòng)到，當(dāng)所述上部框架旋轉(zhuǎn)時(shí)不與所述下部框架相 干涉的位置上。
5、 一種成膜裝置，具有縱向支撐并輸送基板的托架，在搭載于所述托架上的所述基板上進(jìn)行成膜處理的成膜處理路徑，和 與所述成膜處理路徑并列配置的托架輸送路徑，所述成膜處理路徑的構(gòu)成部件能夠向著所述托架輸送路徑移動(dòng)，其中，所述托架輸送路徑上設(shè)置有權(quán)利要求1 4中的任一項(xiàng)所述的輸送機(jī)， 所述上部框架能夠移動(dòng)到能夠回避與移動(dòng)后的所述成膜處理路徑的構(gòu) 成部件之間千涉的位置上。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的成膜裝置，所述成膜處理路徑的構(gòu)成部件是 賊射處理裝置的靶的支撐部件。
7、 一種權(quán)利要求5所述的成膜裝置的維護(hù)方法，該維護(hù)方法包括使 所述上部框架從所述下部框架分離并移動(dòng)到退避位置的工序；和將所述成膜 處理路徑的構(gòu)成部件放倒在所述下部框架的上方，對所述成膜處理路徑的構(gòu) 成部件進(jìn)行維護(hù)的工序。
全文摘要
一種輸送機(jī)和成膜裝置及其維護(hù)方法。在具有框架、支撐縱向放置有基板的托架并輸送托架的下部支撐機(jī)構(gòu)、和支撐托架的上部支撐機(jī)構(gòu)的輸送機(jī)中，框架由下部框架和上部框架構(gòu)成，下部支撐機(jī)構(gòu)設(shè)置于下部框架上，上部支撐架構(gòu)設(shè)置于上部框架上，上部框架能夠與下部框架分離而移動(dòng)。于是，通過旋轉(zhuǎn)上部框架，能夠?qū)㈥帢O部件配置在形成于下部框架上方的空間內(nèi)，因此可以使成膜處理路徑與托架輸送路徑之間的間隔狹窄。因此，由于可以使成膜裝置的內(nèi)部區(qū)域狹窄，可以在能夠輸送托架的輸送機(jī)以及具有該輸送機(jī)并具有真空處理裝置和輸送系統(tǒng)的成膜裝置中，使其設(shè)置面積狹小化。
文檔編號(hào)B65G49/06GK101641272SQ20088000916
公開日2010年2月3日 申請日期2008年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月16日
發(fā)明者中村肇, 小清水孝治, 松田麻也子, 石野耕司, 進(jìn)藤孝明 申請人:株式會(huì)社愛發(fā)科