涂布裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種涂布裝置，其可減少被廢棄的涂布液的量且提高涂布效率。多個噴嘴包括：第一噴嘴群，在主掃描方向上隔開規(guī)定的間隔而排列；以及第二噴嘴群，相對于所述第一噴嘴群而與基板的主面平行且在副掃描方向上隔開間隔而排列。間距調(diào)整機構(gòu)包括：對第一噴嘴群的噴嘴加以保持的滑動格，對第二噴嘴群的噴嘴加以保持的滑動格，從副掃描方向的一側(cè)抵接于滑動格的桿，從副掃描方向的另一側(cè)將滑動格向桿賦能的噴嘴賦能機構(gòu)，以及對桿的副掃描方向的位置進行調(diào)整的驅(qū)動機構(gòu)。
【專利說明】涂布裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種將涂布液涂布于基板的涂布裝置的技術(shù)。

【背景技術(shù)】
[0002]近年來,開發(fā)出一種利用有機電致發(fā)光(Electro Luminescence, EL)材料的有機EL顯示裝置。例如,在使用了高分子有機EL材料的有源矩陣(active matrix)驅(qū)動方式的有機EL顯示裝置的制造中，對玻璃基板(以下簡稱作“基板”)，依次形成薄膜晶體管(ThinFilm Transistor,TFT)電路、形成成為陽極的銦錫氧化物(Indium Tin Oxide, ITO)電極、形成間隔壁、涂布包含空穴(hole)傳輸材料的流動性材料(以下稱作“空穴傳輸液”)、利用加熱處理形成空穴傳輸層、涂布包含有機EL材料的流動性材料(以下稱作“有機EL液”)、利用加熱處理形成有機EL層、形成陰極、及通過形成絕緣膜而進行密封。
[0003]在有機EL顯示裝置的制造中，作為將空穴傳輸液或有機EL液涂布于基板的裝置，專利文獻I所示的裝置已為人所知。此種涂布裝置中，將連續(xù)地噴出流動性材料的多個噴嘴，相對于基板而在主掃描方向及副掃描方向上相對移動，由此將流動性材料條紋狀地涂布于基板上。
[0004]專利文獻I的涂布裝置中，從3根噴嘴噴出3種有機EL液，并涂布于預先形成在基板上的涂布區(qū)域的間隔壁之間的3個槽中，所述3種有機EL液分別包含紅色(R)、綠色(G)、藍色(G)這3種顏色互不相同的有機EL材料。
[0005]該裝置中，3根噴嘴由保持構(gòu)件而保持為一體。而且，通過以與基板垂直的支持軸為中心來轉(zhuǎn)動該保持構(gòu)件，而可使3根噴嘴的副掃描方向上的間距發(fā)生變動。由此，調(diào)整有機EL液的涂布間距。
[0006]而且，專利文獻2的涂布裝置中，當因供涂布液涂布的噴嘴的安裝誤差或制造誤差等，而噴嘴間間距變得不均勻時，設置用以使噴嘴間間距均勻化的間距調(diào)整機構(gòu)。
[0007]該裝置中，各噴嘴搭載于可在副掃描方向上移動的滑塊(slider)上。而且，間距調(diào)整機構(gòu)通過使各滑塊在副掃描方向上移動，而可使各噴嘴個別地移動。由此，進行各噴嘴的與副掃描方向相關(guān)的噴嘴間間距的調(diào)整。
[0008][現(xiàn)有技術(shù)文獻]
[0009][專利文獻]
[0010][專利文獻I]日本專利特開2003-010755號公報
[0011][專利文獻2]日本專利特開2008-155138號公報


【發(fā)明內(nèi)容】

[0012][發(fā)明所要解決的問題]
[0013]且說，通過增加噴嘴的數(shù)量，以一次主掃描方向的移動便可形成多個條紋線，從而可縮短涂布時間。然而，當多個噴嘴在主掃描方向上移動時，因從到達基板的涂布對象區(qū)域前開始持續(xù)噴出涂布液，所以如果在主掃描方向上增加噴嘴的數(shù)量，則噴嘴到達基板的涂布區(qū)域為止的距離變長，從而被廢棄的涂布液增多。
[0014]為了應對所述問題，而考慮縮短在主掃描方向上排列的噴嘴的間隔。然而，在設置如專利文獻2所述那樣的間距調(diào)整機構(gòu)時，因在縮小該機構(gòu)自身的尺寸方面存在極限，所以存在不容易縮小主掃描方向的噴嘴間隔的問題。
[0015]本發(fā)明鑒于所述課題而完成，目的在于提供一種可減少被廢棄的涂布液的量且提高涂布效率的技術(shù)。
[0016][解決問題的手段]
[0017]為了解決所述課題，第一形態(tài)為將涂布液涂布于基板上的涂布裝置，包括:基板保持部，對基板加以保持；多個噴嘴，朝向所述基板連續(xù)地噴出涂布液；噴嘴安裝部，安裝著所述多個噴嘴；主掃描機構(gòu)，在與所述基板的主面平行的主掃描方向上，使所述多個噴嘴連同所述噴嘴安裝部一起相對于所述基板相對地移動；副掃描機構(gòu)，在與所述基板的所述主面平行、且與所述主掃描方向交叉的副掃描方向上，使所述多個噴嘴及所述噴嘴安裝部相對于所述基板相對地移動；以及間距調(diào)整機構(gòu)，通過使所述多個噴嘴在所述副掃描方向上移動，而對關(guān)于所述副掃描方向相互鄰接的2個所述噴嘴間的距離進行調(diào)整，且所述多個噴嘴包括:在所述主掃描方向上隔開規(guī)定的間隔而排列的第一噴嘴群，以及相對于所述第一噴嘴群而在所述副掃描方向上隔開規(guī)定的間隔排列的第二噴嘴群。
[0018]而且，第二形態(tài)在第一形態(tài)的涂布裝置中，所述間距調(diào)整機構(gòu)包括:噴嘴保持部，可在副掃描方向上移動地保持所述噴嘴；噴嘴抵接部，從所述副掃描方向的一側(cè)抵接于所述噴嘴保持部；噴嘴賦能機構(gòu)，從所述副掃描方向的另一側(cè)將所述噴嘴保持部向所述噴嘴抵接部賦能；以及驅(qū)動機構(gòu)，對所述噴嘴抵接部的所述副掃描方向的位置進行調(diào)整。
[0019]而且，第三形態(tài)在第二形態(tài)的涂布裝置中，噴嘴抵接構(gòu)件配置于對所述第二噴嘴群的噴嘴加以保持的鄰接的2個噴嘴保持部間，所述噴嘴抵接構(gòu)件抵接于對所述第一噴嘴群的噴嘴加以保持的各個所述噴嘴保持部。
[0020]而且，第四形態(tài)在第二形態(tài)的涂布裝置中，所述噴嘴賦能機構(gòu)包括彈性構(gòu)件，所述彈性構(gòu)件將對所述第一噴嘴群及所述第二噴嘴群的所述噴嘴加以保持的2個所述噴嘴保持部之間予以連接。
[0021]而且，第五形態(tài)在第二形態(tài)的涂布裝置中，所述噴嘴賦能機構(gòu)包括:楔形抵接構(gòu)件，以夾住的狀態(tài)抵接于對所述第一噴嘴群的所述噴嘴及所述第二噴嘴群的2個所述噴嘴分別加以保持的2個所述噴嘴保持部；以及移動機構(gòu)，使所述楔形抵接構(gòu)件朝向所述2個噴嘴保持部之間移動。
[0022]而且，第六形態(tài)在第二形態(tài)的涂布裝置中，所述噴嘴賦能機構(gòu)包括磁體，所述磁體配置于對所述第一噴嘴群的所述噴嘴、及所述第二噴嘴群的所述噴嘴分別加以保持的2個所述噴嘴保持部之間，所述2個所述噴嘴保持部包括磁性部，所述磁性部具有相對于所述磁體排斥的磁極。
[0023][發(fā)明的效果]
[0024]根據(jù)第一形態(tài)，相對于第一噴嘴群，在副掃描方向上隔開間隔而排列第二噴嘴群，由此可縮短主掃描方向上的兩端的噴嘴的距離。因此，可連續(xù)地噴出涂布液，且可減少在噴嘴到達基板的涂布區(qū)域前被廢棄的涂布液的量。并且，通過增加噴嘴的數(shù)量而可提高涂布效率。
[0025]根據(jù)第二形態(tài)，可進行副掃描方向上的噴嘴間隔的調(diào)整，因而可提高涂布精度。
[0026]根據(jù)第三形態(tài)，可利用通過第二噴嘴群的噴嘴保持部之間的噴嘴保持部，來進行位于離開驅(qū)動機構(gòu)的位置的第一噴嘴群的噴嘴保持部的位置調(diào)整。
[0027]根據(jù)第四形態(tài)，可利用I個彈性構(gòu)件，來將2個噴嘴保持部朝向抵接于各噴嘴保持部的噴嘴抵接部賦能。
[0028]根據(jù)第五形態(tài)，可利用I個楔形構(gòu)件，來將2個噴嘴保持部朝向抵接于各噴嘴保持部的噴嘴抵接部賦能。
[0029]根據(jù)第六形態(tài)，可利用I個磁體，來將2個噴嘴保持部朝向抵接于各噴嘴保持部的噴嘴抵接部賦能。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0030]圖1是第一實施方式的涂布裝置的俯視圖。
[0031]圖2是第一實施方式的涂布裝置的正視圖。
[0032]圖3是涂布頭所具備的噴嘴安裝部的概略俯視圖。
[0033]圖4是第二實施方式的涂布頭所具備的噴嘴安裝部的概略俯視圖。
[0034]圖5是第三實施方式的涂布頭所具備的噴嘴安裝部的概略俯視圖。
[0035]圖6是第三實施方式的噴嘴賦能機構(gòu)的概略側(cè)視圖。
[0036]圖7是第四實施方式的涂布頭所具備的噴嘴安裝部的概略俯視圖。
[0037]圖8是第五實施方式的涂布頭所具備的噴嘴安裝部的概略俯視圖。
[0038]圖9是第六實施方式的涂布頭所具備的噴嘴安裝部的概略俯視圖。
[0039][符號的說明]
[0040]1:涂布裝置
[0041]2:控制部
[0042]3、3A、3B、3C、3D、3E:間距調(diào)整機構(gòu)
[0043]9:基板
[0044]10:平臺
[0045]11:拍攝部
[0046]12:受液部
[0047]20:平臺移動機構(gòu)
[0048]21:基臺
[0049]22:副掃描機構(gòu)
[0050]23:支持板
[0051]24:旋轉(zhuǎn)機構(gòu)
[0052]30、30A、30B、30C、30D、30E:涂布頭
[0053]31:噴嘴
[0054]31A:第一噴嘴群
[0055]31B:第二噴嘴群
[0056]32A、32B:滑動格(噴嘴保持部)
[0057]33、33B、33C:噴嘴賦能機構(gòu)
[0058]33A、33D、33E:彈性構(gòu)件(噴嘴賦能機構(gòu))
[0059]33SA、33SB:抵接面
[0060]221:線性電動機
[0061]222:導軌
[0062]34、34A、34B、34C:噴嘴安裝部
[0063]3421、342IA:引導槽
[0064]3422:開口部
[0065]3425、3427:貫通孔
[0066]35、35A、35B:位置調(diào)整機構(gòu)
[0067]40:涂布液供給機構(gòu)
[0068]41:涂布液積蓄部
[0069]42:供給管
[0070]50:頭移動機構(gòu)
[0071]51:引導構(gòu)件
[0072]52:滑塊
[0073]53:滑輪
[0074]54:同步傳送帶
[0075]91:涂布區(qū)域
[0076]331:桿
[0077]332:賦能致動器
[0078]333:楔形抵接構(gòu)件
[0079]334:桿
[0080]335:缸體
[0081]351、351A、351B:致動器(驅(qū)動機構(gòu))
[0082]352.352A.352B:桿(噴嘴抵接部)
[0083]336:磁體
[0084]337:磁性體(磁性部)
[0085]X、Y、Z:方向

【具體實施方式】
[0086]以下，參照附圖對本發(fā)明的實施方式的涂布裝置I進行說明。另外，附圖中，為了容易理解，有時視需要而將各部的尺寸或數(shù)量進行夸張或簡化而加以圖示。而且，圖1及以后的各圖中，為了方便說明，示出將X軸方向及與其正交的Y軸方向設為水平方向、將鉛垂方向設為Z軸方向的XYZ正交座標系。然而，所述各方向并非為限定各要素的配置關(guān)系的含義。
[0087]〈1.第一實施方式>
[0088]〈1.1.構(gòu)成及功能>
[0089]圖1是第一實施方式的涂布裝置I的俯視圖。而且，圖2是第一實施方式的涂布裝置I的正視圖。
[0090]涂布裝置I作為用以制造有機EL顯示裝置的裝置而構(gòu)成，該有機EL顯示裝置將有機EL液、空穴傳輸材料或空穴注入材料等流動性材料用作涂布液。另外，涂布裝置I中，可使用有機EL液、空穴傳輸材料、空穴注入材料等多種涂布液。
[0091]該涂布裝置I主要包括:將基板9保持為水平的平臺10，使平臺10移動的平臺移動機構(gòu)20，用以將涂布液涂布于保持于平臺10的基板9的上表面的涂布頭30，對涂布頭30供給涂布液的涂布液供給機構(gòu)40，以及使涂布頭30移動的頭移動機構(gòu)50。而且，涂布裝置I包括控制部2，該控制部2與涂布裝置I所具備的各部電連接，并對這些各部的運行進行控制。
[0092]平臺10具有平板狀的外形，在其上表面將基板9載置成水平姿勢而加以保持。而且，平臺10的尺寸比基板9小。在平臺10的上表面形成多個抽吸孔(省略圖示)。這些抽吸孔與真空泵等連接，通過使該真空泵運行，而當在平臺10上載置基板9時，利用抽吸孔的抽吸壓使基板9吸附并固定地保持于平臺10的上表面。而且，平臺10在其內(nèi)部具有由加熱器構(gòu)成的加熱機構(gòu)(省略圖示)。而且，可將載置于平臺10上的基板9加熱至規(guī)定的溫度。
[0093]平臺移動機構(gòu)20使平臺10在相對于基板9的主面(分別與基板9的長度方向及寬度方向平行的面)平行的規(guī)定的方向(即，圖1中的Y軸方向，以下稱作“副掃描方向”)上水平移動。平臺移動機構(gòu)20包括:使平臺10旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)24，可旋轉(zhuǎn)地支持平臺10的支持板23，對支持板23進行水平支持的基臺21，以及使基臺21在副掃描方向上移動的副掃描機構(gòu)22。旋轉(zhuǎn)機構(gòu)24、副掃描機構(gòu)22與控制部2電連接，并根據(jù)來自控制部2的指示使平臺10移動。
[0094]旋轉(zhuǎn)機構(gòu)24包括安裝于平臺10的內(nèi)部的包含轉(zhuǎn)子的電動機。而且，在平臺10的中央部下表面?zhèn)扰c支持板23之間設置旋轉(zhuǎn)軸承機構(gòu)。因而，如果使電動機運行，則轉(zhuǎn)子在繞Z軸的旋轉(zhuǎn)方向上驅(qū)動，平臺10以旋轉(zhuǎn)軸承機構(gòu)的旋轉(zhuǎn)軸為中心而在規(guī)定角度的范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)。
[0095]副掃描機構(gòu)22包括:安裝于從下方對支持板23進行支持的基臺21的下表面的線性電動機221，以及沿副掃描方向延伸的一對導軌222。因此，如果使線性電動機221驅(qū)動，則基臺21及平臺10沿著導軌222而在副掃描方向上移動。
[0096]涂布頭30包括多個噴嘴31。涂布頭30朝向保持于平臺10的基板9的上表面連續(xù)地噴出包含有機EL材料的涂布液。換句話說，涂布頭30為用以將涂布液以液柱的狀態(tài)(也稱作連續(xù)流體)噴出的噴出機構(gòu)。
[0097]本實施方式中，多個噴嘴31在涂布頭30上并排2列。更詳細來說，多個噴嘴31以如下方式而配置，即，形成:第一噴嘴群31A的列，在與基板9的主面平行且與副掃描方向垂直的方向(即，與圖1中的Y軸方向垂直的X軸方向，以下稱作“主掃描方向”)上隔開規(guī)定的間隔而排列；以及第二噴嘴群31B的列，相對于該第一噴嘴群31A的各噴嘴31而在副掃描方向上隔開規(guī)定的間隔排列。
[0098]本實施方式中，在第一噴嘴群31A及第二噴嘴群31B的各個中，在主掃描方向上鄰接的2根噴嘴31、噴嘴31間的關(guān)于副掃描方向的距離被調(diào)整為如下，S卩，等于預先形成于基板9的涂布區(qū)域91 (圖1中由虛線包圍而表示)上的沿主掃描方向延伸的間隔壁間的間距(以下稱作“間隔壁間距”)的3倍。另外，關(guān)于對該間距進行調(diào)整的間距調(diào)整機構(gòu)3，將在后述的涂布頭30的說明中進行詳述。
[0099]涂布液供給機構(gòu)40主要包括:積蓄包含有機EL材料的涂布液的涂布液積蓄部41,將涂布液供給至涂布頭30為止的供給管42，以及用以從涂布液積蓄部41送出涂布液的泵(省略圖示)。供給管42 —端與涂布液積蓄部41連通連接、另一端以與各噴嘴31 —對一對應的方式分支并連接于各噴嘴31。
[0100]頭移動機構(gòu)50包括:一對引導構(gòu)件51 ;滑塊52，可相對于引導構(gòu)件51滑動地配設；一對滑輪(pulley) 53，配設于一對引導構(gòu)件51的兩端部附近且能夠以朝向Z軸方向的軸為中心進行旋轉(zhuǎn)；以及環(huán)形狀的同步傳送帶(belt) 54，卷繞在滑輪53上。
[0101]滑塊52通過從氣體供給源(省略圖示)供給固定壓力的氣體，而相對于引導構(gòu)件51以非接觸狀態(tài)卡合且可在主掃描方向上移動地受到支持。而且，滑塊52的一端固定于同步傳送帶54。另一方面，在滑塊52的另一端固定涂布頭30。因此，利用電動機(省略圖示)的驅(qū)動而使同步傳送帶54順時針或逆時針旋轉(zhuǎn)，由此可使涂布頭30在(-X)方向或(+X)方向上來回移動。此時，滑塊52相對于引導構(gòu)件51以非接觸狀態(tài)而受到支持，因而可使涂布頭30高速且順暢地來回移動。
[0102]頭移動機構(gòu)50成為使涂布頭30在主掃描方向上移動的主掃描機構(gòu)。另外，頭移動機構(gòu)50與控制部2電連接，且根據(jù)來自控制部2的指示而使涂布頭30移動。
[0103]而且，每當涂布頭30的朝向主掃描方向的移動結(jié)束時，使對基板9加以保持的平臺10在副掃描方向上移動，由此對基板9的表面的涂布區(qū)域91執(zhí)行涂布液的涂布。另外，在涂布頭30的主掃描時，在受液部12的附近完成加速或減速，從而在基板9的上方，涂布頭30例如以每秒3m?5m左右的固定速度移動。
[0104]控制部2執(zhí)行各種運算處理，且控制涂布裝置I所具備的各部的運行?？刂撇?包含計算機，該計算機例如具有:進行各種運算處理的中央處理器(central processingunit, CPU),存儲引導程序(boot program)等的只讀存儲器(read-only memory, ROM),成為運算處理的作業(yè)區(qū)域的隨機訪問存儲器(Random Access Memory, RAM),存儲程序或各種數(shù)據(jù)文件等的硬盤等存儲部，進行各種顯示的顯示器，鍵盤及鼠標等輸入部，經(jīng)由局域網(wǎng)(local area network, LAN)等而具有數(shù)據(jù)通信功能的數(shù)據(jù)通信部等。計算機依據(jù)安裝于計算機的程序而運行，由此該計算機作為涂布裝置I的控制部2發(fā)揮功能。另外，控制部2中實現(xiàn)的各功能部也可通過計算機執(zhí)行規(guī)定的程序而實現(xiàn)，還可由專用的硬件(hardware)實現(xiàn)。而且，控制部2中實現(xiàn)的各功能部也可由多臺計算機實現(xiàn)。
[0105]而且，該涂布裝置I包括用以對形成于基板9上的對準標記(省略圖示)進行拍攝而進行檢測的左右一對拍攝部11。該一對拍攝部11上分別配設著電荷耦合器件(ChargeCoupled Device, (XD)相機。而且，根據(jù)由拍攝部11檢測到的對準標記的位置，來進行基板9的位置對準。
[0106]而且，在關(guān)于涂布頭30的來回移動方向(X軸方向)的平臺10的兩側(cè)，配設著接收來自涂布頭30的噴嘴31的涂布液的一對受液部12。涂布頭30在未對基板9進行涂布處理的期間(待機期間)，也連續(xù)地噴出涂布液。受液部12為用以接收在所述期間噴出的涂布液的機構(gòu)，其內(nèi)部具備多孔性構(gòu)件。因此，可防止從涂布頭30噴出的涂布液向周圍飛濺。
[0107]一邊參照圖3 —邊對涂布頭30的構(gòu)成進行詳細說明。圖3是涂布頭30所具備的噴嘴安裝部34的概略俯視圖。涂布頭30包括噴嘴安裝部34，所述噴嘴安裝部34安裝著朝向基板9連續(xù)地噴出涂布液的多個噴嘴31。
[0108]多個噴嘴31分別保持于呈大致長方體形狀的滑動格32A、滑動格32B (噴嘴保持部)。滑動格32A對第一噴嘴群31A的噴嘴31加以保持，滑動格32B對第二噴嘴群31B的噴嘴31加以保持?；瑒痈?2A、滑動格32B中，朝向Z軸方向貫通形成著用以插通并保持噴嘴31的插入孔。各滑動格32A、滑動格32B嵌入至各個形成于噴嘴安裝部34的多個引導槽3421中。各引導槽3421沿Y軸方向直線狀地延伸。滑動格32A、滑動格32B可沿著該引導槽3421的延伸方向而直線移動。
[0109]在噴嘴安裝部34，多個引導槽3421在X軸方向上隔開固定間隔而排列成2列。位于-Y側(cè)的一列多個引導槽3421中收容滑動格32A，位于+Y側(cè)的另一列多個引導槽3421中收容滑動格32B。圖3所示的例中，收容著滑動格32A的引導槽3421，關(guān)于X軸方向而配置于收容滑動格32B的2個相鄰的引導槽3421、引導槽3421的中間位置。
[0110]在引導槽3421的底面形成著沿Y軸方向延伸的開口部3422。開口部3422作為用以使噴嘴31的前端部朝向基板9突出的開口而發(fā)揮功能。而且，在引導槽3421的+Y側(cè)內(nèi)壁面，形成著朝向+Y方向貫通的貫通孔3425。貫通孔3425中插通后述的位置調(diào)整機構(gòu)35的桿352 (噴嘴抵接部)。
[0111]在噴嘴安裝部34的+Y側(cè)設置著位置調(diào)整機構(gòu)35。位置調(diào)整機構(gòu)35對收容于引導槽3421的各滑動格32A、滑動格32B的沿著引導槽3421的位置(即，Y軸方向上的位置)進行調(diào)整。位置調(diào)整機構(gòu)35包括致動器(actuator) 351 (驅(qū)動機構(gòu))、及從該致動器351延伸的多個桿352。
[0112]各桿352插通至形成于引導槽3421的+Y側(cè)的內(nèi)壁面的貫通孔3425中。各桿352的前端部固定于滑動格32A、滑動格32B的+Y側(cè)的側(cè)面部。桿352的后端部與致動器351連結(jié)。致動器351依據(jù)來自控制部2的指令而驅(qū)動，使桿352沿Y軸方向而向前方或后方移動，由此來調(diào)整滑動格32A、滑動格32B的位置。滑動格32A、滑動格32B對噴嘴31加以保持，因此通過位置調(diào)整機構(gòu)35對滑動格32A、滑動格32B的位置進行調(diào)整，而各噴嘴31的位置得到調(diào)整。
[0113]如圖3所示，與滑動格32A連接的桿352配置于滑動格32B、滑動格32B之間的位置，該滑動格32B、滑動格32B對第二噴嘴群31B中的、在X軸方向上相鄰的2個噴嘴31、噴嘴31加以保持。為了實現(xiàn)涂布頭30的小型化，鄰接的滑動格32B、滑動格32B間的距離(換句話說，收容著滑動格32B、滑動格32B的引導槽3421、引導槽3421的形成間隔)比對第一噴嘴群31A加以保持的一個滑動格32A的寬度窄。本實施方式中，在鄰接的滑動格32B、滑動格32B間配置比滑動格32A細的桿352，來傳遞致動器351的動力。由此，可有效地進行對配置于遠離致動器351的位置的第一噴嘴群31A的噴嘴31加以保持的各滑動格32A的位置調(diào)整。
[0114]在噴嘴安裝部34的-Y側(cè)設置著噴嘴賦能機構(gòu)33。噴嘴賦能機構(gòu)33包括多個桿331、及將各桿331向+Y側(cè)賦能的賦能致動器332。賦能致動器332可包含與各桿331相對應的多個氣缸(air cylinder)、以及對這些多個氣缸的壓力進行控制的調(diào)節(jié)器(regulator)
坐寸ο
[0115]利用噴嘴賦能機構(gòu)33，各噴嘴31受到向+Y側(cè)移動的力。與此相反地，位置調(diào)整機構(gòu)35將各噴嘴31向-Y側(cè)推回，由此相鄰的噴嘴31、噴嘴31的關(guān)于Y軸方向的間距受到調(diào)整。如此，本實施方式中，由噴嘴賦能機構(gòu)33、噴嘴安裝部34及位置調(diào)整機構(gòu)35構(gòu)成間距調(diào)整機構(gòu)3。
[0116]而且，雖省略圖示，但在涂布頭30上設置著鎖定機構(gòu)，該鎖定機構(gòu)用以將由間距調(diào)整機構(gòu)3調(diào)整了 Y軸方向的位置的各滑動格32A、滑動格32B加以固定。鎖定機構(gòu)例如可采用專利文獻2所記載的機構(gòu)。即，作為鎖定機構(gòu)，可采用向各滑動格32A、滑動格32B的側(cè)部推壓各滑動格32A、滑動格32B從而擠壓至噴嘴安裝部34的機構(gòu)。而且專利文獻2中也記載了解除該鎖定的鎖定解除機構(gòu)，也可將該技術(shù)應用于本申請案中。當然，鎖定機構(gòu)及鎖定解除機構(gòu)并不限定于專利文獻2所記載者，可采用與其類似的技術(shù)。
[0117]如以上般，本實施方式中，通過將副掃描方向的位置可調(diào)整的多個噴嘴31排列成2列，而比起排列成I列時，可縮短位于主掃描方向的兩端的噴嘴31、噴嘴31間的距離。由此，在使涂布頭30從受液部12到達基板9的涂布區(qū)域91之前，可有效地減少因從多個噴嘴31連續(xù)噴出涂布液而被廢棄的涂布液的量。因此，可實現(xiàn)基板制造的成本降低。并且，通過增加噴嘴31，而可減少主掃描方向的移動次數(shù)。因此，可提高涂布效率。
[0118]另外，本實施方式中，通過使滑動格32A、滑動格32B沿著引導槽3421移動，而使噴嘴31在副掃描方向上直線移動。然而，該構(gòu)成僅為一例。即，只要可使噴嘴31穩(wěn)定地在副掃描方向上移動，貝1J可米用任一構(gòu)成。而且，并非僅使噴嘴31在沿副掃描方向的方向上移動，還可在具有主掃描方向的成分的方向上移動。
[0119]〈2.第二實施方式〉
[0120]接下來，對第二實施方式進行說明。另外，以后的說明中，有時對具有與已說明的要素相同的功能的要素，附上相同符號或追加字母的符號，而省略詳細說明。
[0121]圖4是第二實施方式的涂布頭30A所具備的噴嘴安裝部34A的概略俯視圖。本實施方式的涂布頭30A在噴嘴安裝部34A中，沿Y軸方向延伸的引導槽3421A在X軸方向上隔開規(guī)定的間隔而等間隔地形成著多個。而且，在各引導槽3421A的內(nèi)部，對第一噴嘴群31A加以保持的滑動格32A及對第二噴嘴群31B加以保持的滑動格32B以由彈性構(gòu)件33A(例如螺旋彈簧(coil spring)等)連結(jié)的狀態(tài)而收容。彈性構(gòu)件33A處于被壓縮的狀態(tài)，且作為將滑動格32A及滑動格32B彼此離開的方向賦能的噴嘴賦能機構(gòu)而發(fā)揮功能。
[0122]而且，在噴嘴安裝部34A的-Y側(cè)，設置著位置調(diào)整機構(gòu)35A，該位置調(diào)整機構(gòu)35A用以對保持第一噴嘴群31A的噴嘴31的滑動格32A在副掃描方向上的位置進行調(diào)整。位置調(diào)整機構(gòu)35A具備與位置調(diào)整機構(gòu)35大致相同的構(gòu)成。詳細而言，位置調(diào)整機構(gòu)35A包括致動器351A、及一端與該致動器351A連接而另一端與滑動格32A連接的多個桿352A。
[0123]而且，在噴嘴安裝部34A的+Y側(cè)，設置著位置調(diào)整機構(gòu)35B，該位置調(diào)整機構(gòu)35B用以對保持第二噴嘴群31B的噴嘴31的滑動格32B在副掃描方向上的位置進行調(diào)整。位置調(diào)整機構(gòu)35B具備與位置調(diào)整機構(gòu)35大致相同的構(gòu)成。詳細而言，位置調(diào)整機構(gòu)35B包括致動器351B、及一端與致動器351B連接而另一端與滑動格32B連接的多個桿352B。
[0124]致動器351A、致動器351B的各個與致動器351同樣地，通過使多個桿352A、桿352B向前方或后方移動，而使滑動格32A、滑動格32B沿副掃描方向移動。
[0125]這樣，本實施方式中，使用彈性構(gòu)件33A以代替第一實施方式的噴嘴賦能機構(gòu)33，由此將滑動格32A、滑動格32B向位置調(diào)整機構(gòu)35的桿352A、桿352B賦能。即，本實施方式中，由彈性構(gòu)件33A、噴嘴安裝部34及位置調(diào)整機構(gòu)35A、位置調(diào)整機構(gòu)35B，構(gòu)成對相鄰的噴嘴31、噴嘴31間的間距進行調(diào)整的間距調(diào)整機構(gòu)3A。在采用此種構(gòu)成的涂布頭30A的情況下，也可與第一實施方式的涂布頭30同樣地，減少涂布時的涂布液的廢棄量，并增加噴嘴31的數(shù)量而提高涂布效率。
[0126]〈3.第三實施方式〉
[0127]圖5是第三實施方式的涂布頭30B所具備的噴嘴安裝部34A的概略俯視圖。而且，圖6是第三實施方式的噴嘴賦能機構(gòu)33B的概略側(cè)視圖。本實施方式的涂布頭30B的間距調(diào)整機構(gòu)3B具備與間距調(diào)整機構(gòu)3A大致類似的構(gòu)成，但在關(guān)于具備噴嘴賦能機構(gòu)33B以代替彈性構(gòu)件33A方面，與間距調(diào)整機構(gòu)3A有所不同。
[0128]噴嘴賦能機構(gòu)33B包括:楔形抵接構(gòu)件333，以夾在掃描方向上排列的滑動格32A、滑動格32B間的狀態(tài)而抵接于所述滑動格32A、滑動格32B ;桿334，前端與楔形抵接構(gòu)件333連接；以及缸體(cylinder) 335，與桿334的基端部連接。另外，圖5所示的圖中，僅圖示噴嘴賦能機構(gòu)33B中的楔形抵接構(gòu)件333，而省略了桿334及缸體335的圖示。
[0129]缸體335利用未圖示的固定單元而可配置于相對于噴嘴安裝部34A固定的位置。而且，桿334從缸體335向朝向噴嘴安裝部34A的-Z方向延伸。缸體335根據(jù)來自例如控制部2的指令而運行，由此將其動力傳遞至桿334，并將楔形抵接構(gòu)件333推向下方或向上方提拉。由此，楔形抵接構(gòu)件333朝向滑動格32A、滑動格32B間的位置移動。而且，雖省略圖示，但噴嘴賦能機構(gòu)33B包括使楔形抵接構(gòu)件333、桿334及缸體335 —體地沿Y軸方向移動的移動機構(gòu)。
[0130]楔形抵接構(gòu)件333形成為剖面觀察為大致三角形。更詳細而言，楔形抵接構(gòu)件333中如圖6所示，抵接于滑動格32A、滑動格32B的抵接面33SA、抵接面33SB間的寬度隨著朝向-Z方向而逐漸縮小，因此，傳遞缸體335的動力，而將楔形抵接構(gòu)件333向-Z方向壓下，由此滑動格32A、滑動格32B被朝向彼此離開的方向賦能。通過這樣對滑動格32A、滑動格32B賦能，而可良好地利用位置調(diào)整機構(gòu)35A、位置調(diào)整機構(gòu)35B來進行滑動格32A、滑動格32B的副掃描方向上的位置調(diào)整。
[0131]在將具備此種噴嘴賦能機構(gòu)33B的間距調(diào)整機構(gòu)3B用于涂布頭30B時，也可與第一實施方式的涂布頭30及第二實施方式的涂布頭30A同樣地，減少涂布液的廢棄量，并增加噴嘴31的數(shù)量而提高涂布效率。
[0132]另外，楔形抵接構(gòu)件333也可不必剖面觀察為三角形。楔形抵接構(gòu)件333至少具有如下部分即可，即，隨著楔形抵接構(gòu)件333朝向滑動格32A、滑動格32B而Y軸方向(副掃描方向)的寬度以減小的方式發(fā)生變化的部分。
[0133]〈4.第四實施方式〉
[0134]圖7是第四實施方式的涂布頭30C所具備的噴嘴安裝部34A的概略俯視圖。涂布頭30C具備與第二實施方式的涂布頭30A大致相同的構(gòu)成，也可采用磁體336作為噴嘴賦能機構(gòu)33C。
[0135]更詳細來說，在對第一噴嘴群31A的噴嘴31與第二噴嘴群31B的噴嘴31加以保持的2個滑動格32A、滑動格32B間，分別配設著磁體336。而且，在滑動格32A、滑動格32B中的與磁體336對向的面,安裝著具有相對于磁體336排斥的磁極的磁性體337。利用該磁性體337將滑動格32A、滑動格32B向離開的方向賦能。因此，可利用位置調(diào)整機構(gòu)35A、位置調(diào)整機構(gòu)35B，而良好地進行滑動格32A、滑動格32B的副掃描方向上的位置調(diào)整。
[0136]為采用了具備此種噴嘴賦能機構(gòu)33C的間距調(diào)整機構(gòu)3C的涂布頭30C的情況下，也可與第一實施方式的涂布頭30、第二實施方式涂布頭30A、第三實施方式的涂布頭30B同樣地，減少涂布液的廢棄量，并增加噴嘴31的數(shù)量而提高涂布效率。
[0137]〈5.第五實施方式〉
[0138]所述實施方式2的涂布頭30A中，各滑動格32A、滑動格32B受到來自賦能致動器332的賦能力，由此被朝向桿352賦能，并受到來自致動器351的推壓力而得到調(diào)整位置。然而，還考慮由與賦能致動器332不同的機構(gòu)實現(xiàn)產(chǎn)生賦能力的機構(gòu)。
[0139]圖8是第五實施方式的涂布頭30D所具備的噴嘴安裝部34B的概略俯視圖。在噴嘴安裝部34B，與噴嘴安裝部34A同樣地形成2列沿Y軸方向延伸的多個引導槽3421，在一列多個引導槽3421中收容滑動格32A，在另一列多個引導槽3421中收容滑動格32B。然而，涂布頭30D中，對滑動格32A、滑動格32B進行賦能的噴嘴賦能機構(gòu)包含彈性構(gòu)件33D而非包含賦能致動器332。
[0140]更詳細來說，滑動格32A從設置于噴嘴安裝部34B的-Y側(cè)的位置調(diào)整機構(gòu)35A的致動器351A，經(jīng)由桿352A，而受到用以調(diào)整副掃描方向的位置的推壓力。而且，由兩端固定于滑動格32A的+Y側(cè)側(cè)面與引導槽3421的+Y側(cè)內(nèi)壁面的彈性構(gòu)件33D，對滑動格32A朝向桿352A賦能。而且，滑動格32B從設置于噴嘴安裝部34B的+Y側(cè)的位置調(diào)整機構(gòu)35B的致動器351B，經(jīng)由桿352B，而受到用以調(diào)整副掃描方向的位置的推壓力。而且，由兩端固定于滑動格32B的-Y側(cè)側(cè)面與引導槽3421的-Y側(cè)側(cè)面的彈性構(gòu)件33D，對滑動格32B朝向桿352B賦能。即，本實施方式中，由彈性構(gòu)件33D、噴嘴安裝部34B及位置調(diào)整機構(gòu)35A、位置調(diào)整機構(gòu)35B，來構(gòu)成進行多個噴嘴31的副掃描方向的間距調(diào)整的間距調(diào)整機構(gòu)3D。
[0141]這樣，利用本實施方式的涂布頭30D，也可縮短位于主掃描方向的兩端的噴嘴31、噴嘴31間的距離，因而可減少連續(xù)噴出涂布液時被廢棄的涂布液的量，并增加噴嘴31的數(shù)量。而且，在為本實施方式的涂布頭30D的情況下，無須如圖4所示的涂布頭30A般，將傳遞致動器351A、致動器351B的動力的桿桿352A、桿352B配置于X軸方向上相鄰的滑動格32A、滑動格32A間或滑動格32B、滑動格32B間。因此，可進一步縮短相鄰的滑動格32A、滑動格32A或滑動格32B、滑動格間的距離。
[0142]另外，還考慮應用如噴嘴賦能機構(gòu)33B般利用楔形抵接構(gòu)件333、或者如噴嘴賦能機構(gòu)33C般利用磁鐵336來代替彈性構(gòu)件33D而形成的機構(gòu)。
[0143]而且，本實施方式中，構(gòu)成為利用各自獨立的致動器351A、致動器351B來推壓多個滑動格32A及多個滑動格32B。然而，還考慮僅利用例如致動器351A、致動器351B中的其中一個來推壓滑動格32A、滑動格32B的構(gòu)成。例如，雖省略圖示，但在設為僅利用致動器351A來推壓滑動格32A、滑動格32B的構(gòu)成的情況下，使桿以從致動器351A朝向滑動格32B，而通過在X軸方向上相鄰的滑動格32A、滑動格32A間的方式延伸即可。而且，將對滑動格32B賦能的彈性構(gòu)件33D的兩端安裝于滑動格32B的+Y側(cè)側(cè)面及引導槽3421的+Y側(cè)內(nèi)壁面即可。
[0144]〈6.第六實施方式〉
[0145]圖9是第六實施方式的涂布頭30E所具備的噴嘴安裝部34C的概略俯視圖。所述第五實施方式的涂布頭30D中，作為噴嘴賦能機構(gòu)的彈性構(gòu)件33D固定于引導槽3421的內(nèi)壁面與滑動格32A或滑動格32B的側(cè)面。與此相對，第六實施方式的涂布頭30E中，使用將滑動格32A、致動器351B間及滑動格32B、致動器351A間加以連接的彈性構(gòu)件33E。
[0146]更詳細來說，在收容著滑動格32A的引導槽3421的+Y側(cè)內(nèi)壁面，形成著在+Y方向上貫通的貫通孔3427。這些貫通孔3427中，插通著一端與滑動格32A連接而另一端與致動器35IB連接的彈性構(gòu)件33E。
[0147]而且，在收容著滑動格32B的引導槽3421的-Y側(cè)內(nèi)壁面，形成著在-Y方向上貫通的貫通孔3427。這些貫通孔3427中，插通著一端與滑動格32B連接而另一端與致動器35IA連接的彈性構(gòu)件33E。
[0148]本實施方式中，利用積蓄在彈性構(gòu)件33E的彈力，而將滑動格32A、滑動格32B分別朝向桿342A、桿342B賦能。該狀態(tài)下，滑動格32A、滑動格32B分別受到來自致動器351A、致動器351B的推壓力，由此進行副掃描方向上的位置調(diào)整(間距調(diào)整)。即，本實施方式中，由彈性構(gòu)件33E、噴嘴安裝部34C及位置調(diào)整機構(gòu)35A、位置調(diào)整機構(gòu)35B，來構(gòu)成進行多個噴嘴31的副掃描方向的間距調(diào)整的間距調(diào)整機構(gòu)3E。
[0149]另外，各彈性構(gòu)件33E為了能夠?qū)瑒痈?2A、滑動格32B分別進行賦能直至抵接于引導槽3421的+Y側(cè)端部(內(nèi)壁面)及-Y側(cè)端部(內(nèi)壁面)為止，而在副掃描方向上具有足夠的長度。
[0150]彈性構(gòu)件33E與滑動格32A或滑動格32B間的連接也可解除。該情況下，在進行間距調(diào)整后，利用省略圖示的鎖定機構(gòu)將滑動格32A、滑動格32B相對于各引導槽3421的位置加以固定，然后，致動器35IA及致動器35IB分別朝向-Y方向及+Y方向移動。由此，彈性構(gòu)件33E離開各滑動格32A、滑動格32B，從而對各滑動格32A、滑動格32B的賦能力被解除。由此，可使噴嘴31的位置變得更穩(wěn)定。
[0151]已對本發(fā)明進行了詳細說明，但所述說明在所有樣態(tài)中為例示，本發(fā)明并不限定于此。應理解為只要不超過本發(fā)明的范圍便可設想未例示的無數(shù)個變形例。而且，所述各實施方式中說明的各要素只要不相互矛盾，便可適當組合或者適當省略。
【權(quán)利要求】
1.一種涂布裝置，將涂布液涂布于基板上，所述涂布裝置的特征在于包括: 基板保持部，對基板加以保持； 多個噴嘴，朝向所述基板連續(xù)地噴出涂布液； 噴嘴安裝部，安裝著所述多個噴嘴； 主掃描機構(gòu)，在與所述基板的主面平行的主掃描方向上，使所述多個噴嘴連同所述噴嘴安裝部一起相對于所述基板相對地移動； 副掃描機構(gòu)，在與所述基板的所述主面平行、且與所述主掃描方向交叉的副掃描方向上，使所述多個噴嘴及所述噴嘴安裝部相對于所述基板相對地移動；以及 間距調(diào)整機構(gòu)，通過使所述多個噴嘴在所述副掃描方向上移動，而對關(guān)于所述副掃描方向相互鄰接的2個所述噴嘴間的距離進行調(diào)整，且 所述多個噴嘴包括:在所述主掃描方向上隔開規(guī)定的間隔而排列的第一噴嘴群，以及相對于所述第一噴嘴群而在所述副掃描方向上隔開規(guī)定的間隔排列的第二噴嘴群。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于:所述間距調(diào)整機構(gòu)包括: 噴嘴保持部，可在所述副掃描方向上移動地保持所述噴嘴； 噴嘴抵接部，從所述副掃描方向的一側(cè)抵接于所述噴嘴保持部； 噴嘴賦能機構(gòu)，從所述副掃描方向的另一側(cè)將所述噴嘴保持部向所述噴嘴抵接部賦能；以及 驅(qū)動機構(gòu)，對所述噴嘴抵接部的所述副掃描方向的位置進行調(diào)整。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于:噴嘴抵接構(gòu)件配置于對所述第二噴嘴群的噴嘴加以保持的鄰接的2個噴嘴保持部間，所述噴嘴抵接構(gòu)件抵接于對所述第一噴嘴群的噴嘴加以保持的各個所述噴嘴保持部。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于:所述噴嘴賦能機構(gòu)包括彈性構(gòu)件，所述彈性構(gòu)件將對所述第一噴嘴群及所述第二噴嘴群的所述噴嘴加以保持的2個所述噴嘴保持部之間予以連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于:所述噴嘴賦能機構(gòu)包括: 楔形抵接構(gòu)件，以被夾住的狀態(tài)抵接于對所述第一噴嘴群的所述噴嘴及所述第二噴嘴群的2個所述噴嘴分別加以保持的2個所述噴嘴保持部；以及 移動機構(gòu)，使所述楔形抵接構(gòu)件朝向所述2個噴嘴保持部之間移動。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于:所述噴嘴賦能機構(gòu)包括磁體，所述磁體配置于對所述第一噴嘴群的所述噴嘴、及所述第二噴嘴群的所述噴嘴分別加以保持的2個所述噴嘴保持部之間， 所述2個所述噴嘴保持部包括磁性部，所述磁性部具有相對于所述磁體排斥的磁極。
【文檔編號】B05B13/04GK104511396SQ201410381793
【公開日】2015年4月15日 申請日期:2014年8月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月30日
【發(fā)明者】相良秀一, 上野雅敏, 高村幸宏, 大宅宗明 申請人:斯克林集團公司