專利名稱：涂布組件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是關于ー種涂布組件，特別是一種用于薄膜涂布裝置的涂頭。
背景技術：
隨著有機發(fā)光二極管的發(fā)光效率及壽命可靠度不斷提升，加上價格顯著降低，有機發(fā)光二極管照明設備在市場的比重將不斷的上升。其中，在機發(fā)光二極管面板的制造過程中，超薄薄膜的涂膜技術的優(yōu)劣對于產(chǎn)品的生產(chǎn)成本的影響是非常的顯著。因此，如何使涂膜裝置的涂頭將光阻液以納米級的膜厚均勻地涂布上一基材，將是工程人員重要的設計目標。一般涂頭是具有一出液ロ以及連接出液ロ的ー狹縫，光阻液是經(jīng)由狹縫而由出液ロ流出。其中，狹縫將涂頭分為上、下兩涂唇，而基材相對于涂頭的位移方向是由上涂唇至 下涂唇的方向。由于光阻液在由出液ロ流出而涂布于基材的過程中，基材是不斷地相對涂頭位移。在基材的運動過程中，光阻液由于受到基材位移牽引的影響以及材料本身表面能(Surface Energy)的作用，因此也同時造成光阻液在出液ロ處形成一回流區(qū)而構成一光阻液珠。若光阻液珠在基材涂布的過程中，光阻液珠大量地由出液ロ朝下涂唇方向(下游端)而移動，將使得涂布的效果變差，例如造成膜厚不均或是膜厚過厚的問題。因此，如何穩(wěn)定光阻液珠保持于出液ロ處，以確保涂布過程中的質量，將是涂頭設計的重要考慮因素之一?，F(xiàn)有的涂頭設計，是可利用其下涂唇較上涂唇凸出，以避免光阻液珠朝下涂唇方向移動。如此ー來，即可確保涂布過程的質量，避免光阻液珠朝下涂唇方位移而造成涂布不良的現(xiàn)象發(fā)生。然而，現(xiàn)有涂頭的設計并無法同時避免光阻液珠朝上涂唇或下涂唇方向移動，僅能單單限制光阻液珠不朝下涂唇的方向移動。因此，目前現(xiàn)有涂頭的設計手段僅能適用于基材相對涂頭朝単一方向位移加工，如此對于涂布加工過程將是ー種不便。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上的問題，本發(fā)明在于提供ー種涂布組件，藉以解決習知涂布設備的涂頭僅能維持單向涂布的穩(wěn)定性，造成涂布加工過程的不便的問題。本發(fā)明所揭露的涂布組件，適于導引一涂料而將涂料涂布于一基材表面。涂布組件包含一第一狹縫段及一第二狹縫段。第一狹縫段具有一第一壁體及一第二壁體，第一壁體與第二壁體之間具有一第一狹縫。第二狹縫段具有一第一涂唇、一第二涂唇及一涂料出ロ，第一涂唇連接第一壁體，第二涂唇連接第二壁體，第一涂唇與第二涂唇間具有一第二狹縫。第二狹縫之兩端分別連接涂料出ロ及第ー狹縫，第二狹縫的寬度大于第一狹縫的寬度，第二狹縫的寬度比上第一狹縫的寬度介于I. 2至3. 8之間。第一涂唇至第一狹縫的一中線的距離比上第二涂唇至第一狹縫的中線的距離的比例介于O. 5至I. 5之間。根據(jù)上述本發(fā)明所揭露的涂布組件，第二狹縫的寬度是大于第一狹縫的寬度，且第一涂唇至第一狹縫的一中線的距離比上第二涂唇至第一狹縫的中線的距離的比例介于O. 5至I. 5之間。是以這樣的涂布組件的尺寸設計，可提供涂布組件具有良好地雙向超薄薄膜涂布質量的功效，以提供涂布加工過程中的便利性。有關本發(fā)明的特征、實作與功效，茲配合附圖作最佳實施例詳細說明如下。


圖IA為根據(jù)本發(fā)明ー實施例的涂布組件的結構圖；圖IB為根據(jù)本發(fā)明ー實施例的涂布組件的結構剖視圖；圖IC為根據(jù)圖IB的涂布組件的局部結構剖視圖；圖2A為根據(jù)本發(fā)明ー實施例的涂料由涂布組件涂布于基材的示意圖；圖2B為根據(jù)本發(fā)明ー實施例的涂料由涂布組件涂布于基材的另一示意圖；圖3為根據(jù)本發(fā)明ー實施例的涂料于涂布過程中的流場分析
圖4為根據(jù)本發(fā)明另一實施例的涂布組件的結構剖視圖；圖5為根據(jù)本發(fā)明再一實施例的涂布組件的結構剖視圖；圖6為根據(jù)本發(fā)明再一實施例的涂布組件的結構剖視圖。主要組件符號說明10涂布組件100第一狹縫段101第一狹縫110第一壁體111第一壁面112第一側壁面113第一弧面120第二壁體121第二壁面122第二側壁面123第二弧面200第二狹縫段201第二狹縫210第一涂唇211第一唇面212第一表面220第二涂唇221第二唇面222第二表面230涂料出 ロ240涂料入 ロ400基材500涂料510回流區(qū)520氣液交界面
530氣液交界面
具體實施例方式請參照圖IA至圖IC并搭配圖2A，圖IA為根據(jù)本發(fā)明ー實施例的涂布組件的結構圖，圖IB為根據(jù)本發(fā)明ー實施例的涂布組件的結構剖視圖，圖IC為根據(jù)圖IB的涂布組件的局部結構剖視圖，圖2A為根據(jù)本發(fā)明ー實施例的涂料由涂布組件涂布于基材的示意圖。本實施例的涂布組件10，其為ー超薄薄膜的涂布設備的涂頭，涂布組件10具有相對的ー涂料出口 230及ー涂料入口 240。涂布組件10用以導引ー涂料而將涂料以超薄薄膜的型態(tài)涂布于一基材400表面。涂布組件10包含一第一狹縫段100及一第二狹縫段200。其中，第一狹縫段100具有相対的一第一壁體110及一第二壁體120，第一壁體110與第二壁體120之間具有一第一狹縫101。此外，第一壁體110具有相鄰的ー第一壁面111及一第一側壁面112，第二壁體120具有相鄰的ー第二壁面121及一第二側壁面122。第一壁體110的第一壁面111面對第二壁體120的第二壁面121，第一狹縫101即形成于第一壁面111與第二壁面121之間。并且，第一狹縫101具有ー寬度D1，寬度Dl即為第一壁 面111與第二壁面121之間的距離。其中，寬度Dl可以為100 μ m。第二狹縫段200具有一第一涂唇210、一第二涂唇220及上述的涂料出ロ 230。第ー涂唇210連接于第一壁體110具有第一側壁面112之ー側，第二涂唇220連接第二壁體120具有第二側壁面122之ー側，第一涂唇210與第二涂唇220之間具有一第二狹縫201。第二狹縫201的兩端分別連接涂料出ロ 230及第ー狹縫101，且第二狹縫201具有ー寬度D2，第二狹縫201的寬度D2大于第一狹縫101的寬度Dl。第二狹縫201的寬度D2比上第ー狹縫101的寬度Dl介于I. 2至3. 8之間。此外，第一涂唇210具有相鄰的ー第一唇面211及一第一表面212,第二涂唇220具有相鄰的ー第二唇面221及一第二表面222。第一涂唇210的第一唇面211面對第二涂唇220的第二唇面221，第二狹縫201即形成于第一唇面211與第二唇面221之間。并且，第二狹縫201的寬度D2即為第一唇面211與第二唇面221之間的距離。此外,第一表面212、第二表面222與涂料出ロ 230是朝向同一方向，且第一表面212與第二表面222共一平面。更進一歩來說，當涂布組件10對一基材400進行涂部加工時，第一表面212、第二表面222與涂料出ロ 230是同時面向基材400。并且，第一涂唇210面對基材400的距離與第二涂唇220面對基材400的距離相同。此外，第一表面212與第ニ表面222至基材400的適當距離可為50μπι到IOOym之間。需注意的是，上述的第一表面212與第二表面222共平面的特征非用以限定本發(fā)明，在本發(fā)明另一實施例當中，第一表面212與第二表面222也可以不共平面。更進ー步來說，第一表面212至基材400的距離可以大于或是小于第二表面222至基材400的距離。并且，第一狹縫101具有一中線Μ，第一唇面211至第一狹縫101的中線M有一第ー距離a，第二唇面221至第一狹縫101的中線M有一第二距離b。其中，第一距離a大于第二距離b，且第一距離a比上第二距離b的比例介于O. 5至I. 5之間。此外，在另ー實施例當中，第一距離a比上第二距離b的比值更可介于O. 8至I. 2之間。此外，第二狹縫201具有一深度H2，深度H2由涂料出ロ 230至第一狹縫101之間的距離。深度H2的尺寸可以是20 110 μ m。并且，在另ー較佳實施例當中，深度H2的尺寸可以是40 90μπι。或者，在又一更佳實施例當中，深度Η2的尺寸可以是60 70 μ m。在本實施例中，第一涂唇210的第一唇面211連接第一壁體110的第一側壁面112，且第一唇面211與第一側壁面112之間概略呈現(xiàn)垂直夾角。并且，第二涂唇220的第ニ唇面221連接第二壁體120的第二側壁面122，第二唇面221與第二側壁面122之間概略呈現(xiàn)垂直夾角。需注意的事，上述第一唇面211與第一側壁面112之間概略呈現(xiàn)垂直夾角以及第二唇面221與第二側壁面122之間概略呈現(xiàn)垂直夾角的特征非用以限定本發(fā)明。舉例來說，在本發(fā)明另一實施例當中，第一唇面211與第一側壁面112之間也可夾ー鈍角Θ 1，第二唇面221與第二側壁面122之間也可夾ー鈍角Θ 2，如圖4所示。鈍角Θ I與鈍角Θ2介于90°至150°之間?；蛘?，在本發(fā)明又一實施例當中，第一唇面211可通過ー第一弧面113而與第一側壁面112相連，第二唇面221可通過ー第二弧面123而與第二側壁面122相連,如圖5所示。此外，在本發(fā)明再一實施例當中，第一唇面211與第一表面212之間更可夾ー銳角Θ 3，第二唇面221與第二表面222之間更可夾ー銳角Θ4。其中，鋭角Θ 3與鋭角Θ 4介于 86°至90°之間，如圖6所示。接著請同時參照圖2A及圖3，其中圖3為根據(jù)本發(fā)明ー實施例的涂料于涂布過程中的流場分析圖。其中，圖2A中的基材400相對涂料出ロ 230而由第一涂唇210朝向第二涂唇220移動。此時，位于涂料出ロ 230與基材400間的涂料500與外界空氣之間的氣液交界面520、530，是皆呈現(xiàn)出朝涂料出ロ 230內(nèi)凹的弧面。這種現(xiàn)象代表著涂料出ロ 230處并無涂料500積料的現(xiàn)象發(fā)生，如此可確保涂布組件10將涂料500以超薄薄膜型態(tài)涂布于基材400的過程中，能夠具有穩(wěn)定良好的涂布加工質量，而不會因積料所造成薄膜膜厚過厚或不均的問題發(fā)生。請接著參照圖3，在涂布組件10于涂布涂料500于基材400的過程中，涂料500會因受基材400的移動影響，而于涂料出ロ 230處形成一順時針旋轉的回流區(qū)510而構成一涂料液珠。藉由本實施例的涂布組件10的結構設計，可使涂料500所形成的涂料液珠被局限于第一唇面211與第二唇面221之間，如此ー來也可確保涂布加工過程的穩(wěn)定度，避免基材400上的涂料500所形成的膜厚的厚度不均，進而使膜厚的規(guī)格超出預設的膜厚范圍。上述實施例中，基材400相對涂料出ロ 230而由第一涂唇210朝向第二涂唇220移動，然而此特征非用以限定本發(fā)明。更進ー步來說，本發(fā)明的涂布組件10具有穩(wěn)定的雙向超薄薄膜涂布功效。請參照圖2B，在圖2B中，基材400是相對涂料出ロ 230而由第二涂唇220朝向第ー涂唇210移動。其中位于涂料出ロ 230與基材400間的涂料500與外界空氣之間的氣液交界面520、530，是皆呈現(xiàn)出朝涂料出ロ 230內(nèi)凹的弧面。這種現(xiàn)象代表著涂料出ロ 230處并無涂料500積料于第一涂唇210或第二涂唇220的現(xiàn)象發(fā)生，如此可確保涂布組件10于涂布涂料500于基材400的過程中，能夠具有穩(wěn)定良好的加工質量。因此，由圖2A與圖2B的涂料500與外界空氣之間的氣液交界面520、530的形狀，可證明本發(fā)明的涂布組件10可具有穩(wěn)定的雙向超薄薄膜涂布功效。相較于現(xiàn)有涂布設備的涂頭僅能維持基材400単一向的加工方向的涂布質量，本實施例的涂布組件10具有更佳的加工實用性。并且，根據(jù)本實施例的涂布組件10的結構設計于實際涂布過程當中，無論基材400相對涂料出ロ 230是由第二涂唇220朝向第一涂唇210移動，或是由第一涂唇210朝向第二涂唇220移動，涂料500涂布于基材400上的液態(tài)模厚均可達到10 μ m以下的均勻膜厚。并且，當基材400上的液態(tài)模厚干燥為固態(tài)模厚吋，固態(tài)模厚更可達到I μ m以下的納米等級膜厚。根據(jù)上述實施例的涂布組件，其中第二狹縫的寬度大于第一狹縫的寬度，且第一涂唇至第一狹縫的一中線的距離比上第二涂唇至第一狹縫的中線的距離的比例介于O. 5至I. 5之間。是以這樣的涂布組件的尺寸設計，可有效地將回流區(qū)所構成的涂料液珠穩(wěn)定地局限于第一涂唇與第二涂唇之間。因此，本實施例的涂布組件具有良好地雙向超薄薄膜涂布質量的功效，以提供涂布加工過程中的便利性。雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，在不背離本發(fā)明精神及其實質的情況下，熟悉本領域的技術人員當可根據(jù)本發(fā)明作出 各種相應的改變和變形，但這些相應的改變和變形都應屬于本發(fā)明所附的權利要求的保護范圍。
權利要求
1.ー種涂布組件，適于導引一涂料而將該涂料涂布于一基材表面，其特征在于，該涂布組件包含 一第一狹縫段，具有一第一壁體及一第二壁體，該第一壁體與該第二壁體之間具有一第一狹縫； 一第二狹縫段，具有一第一涂唇、一第二涂唇及一涂料出ロ，該第一涂唇連接該第一壁體，該第二涂唇連接該第二壁體，該第一涂唇與該第二涂唇之間具有一第二狹縫，該第二狹縫的兩端分別連接該涂料出口及該第一狹縫，該第二狹縫的寬度大于該第一狹縫的寬度，該第二狹縫的寬度比上該第一狹縫的寬度介于I. 2至3. 8之間。該第一涂唇至該第一狹縫的一中線的距離比上該第二涂唇至該第一狹縫的該中線的距離的比例介于O. 5至I. 5之間。
2.如權利要求I所述的涂布組件，其特征在于，該第一涂唇具有一第一表面，該第二涂唇具有一第二表面，該第一表面、該第二表面與該涂料出ロ朝同一方向，且該第一表面與該第二表面共平面。
3.如權利要求I所述的涂布組件，其特征在于，該第二狹縫具有一第二狹縫深度，該第ニ狹縫深度的范圍為20 110 μ m。
4.如權利要求3所述的涂布組件，其特征在干，該第二狹縫深度的范圍為40 90μ m。
5.如權利要求4所述的涂布組件，其特征在干，該第二狹縫深度的較佳范圍為60 70 μ m0
6.如權利要求I所述的涂布組件，其特征在于，該第一涂唇至該第一狹縫的該中線的距離比上該第二涂唇至該第一狹縫的該中線的距離的比例介于O. 8至I. 2之間。
7.如權利要求I所述的涂布組件，其特征在于，該第一壁體具有一第一側壁面，該第二壁體具有一第二側壁面，該第一涂唇連接該第一側壁面，該第二涂唇連接該第二側壁面，且該第一側壁面與該第一涂唇之間或該第二側壁面與該第二涂唇之間夾ー鈍角，該鈍角介于90。至150。之間。
8.如權利要求I所述的涂布組件，其特征在于，該第一壁體具有一第一側壁面，該第二壁體具有一第二側壁面，該第一涂唇連接該第一側壁面，該第二涂唇連接該第二側壁面，且該第一側壁面與該第一涂唇之間或該第二側壁面與該第二涂唇之間通過一弧面而相連接。
9.如權利要求I所述的涂布組件，其特征在于，該第一涂唇具有相連的ー第一表面及一第一唇面，該第二涂唇具有相連的ー第二表面及一第二唇面，該第一唇面面對該第二唇面，該第一表面與該第一唇面之間或該第二表面與該第二唇面之間夾一鋭角，該銳角介于86。至90。之間。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種涂布組件，包含第一狹縫段及第二狹縫段。第一狹縫段具有第一壁體及第二壁體，第一壁體與第二壁體之間具有第一狹縫。第二狹縫段具有第一涂唇及第二涂唇，第一涂唇連接第一壁體，第二涂唇連接第二壁體，第一涂唇與第二涂唇間具有第二狹縫。第二狹縫的寬度比上第一狹縫的寬度介于1.2至3.8之間。第二狹縫的寬度大于第一狹縫的寬度，第一涂唇至第一狹縫的一中線的距離比上第二涂唇至第一狹縫的中線的距離的比例介于0.5至1.5之間。藉此，使涂布組件具有穩(wěn)定的雙向超薄薄膜涂布功效。
文檔編號B05C11/02GK102671820SQ20111011254
公開日2012年9月19日 申請日期2011年4月26日 優(yōu)先權日2011年3月18日
發(fā)明者周大鑫, 張幼珍, 楊文賢, 鄭貴元 申請人:財團法人工業(yè)技術研究院