專利名稱：涂布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將涂布液涂布在玻璃基板等的基板表面上用的涂布裝置。
背景技術(shù)：
作為將涂布液涂布在基板上用的裝置，例如揭示在專利文獻(xiàn)1至4等中。 該涂布裝置通過(guò)使噴嘴對(duì)吸附保持在保持臺(tái)(載物臺(tái))上的規(guī)定位置上的基板的 表面掃描進(jìn)行。該噴嘴的掃描是使保持在與基板表面空開微小間隙的狀態(tài)的噴 嘴進(jìn)行移動(dòng)的動(dòng)作，但在該掃描時(shí)若噴嘴與基板的間隔產(chǎn)生變化，就不能進(jìn)行 涂布液的均勻涂布。因此，往往采用如下結(jié)構(gòu)將放置基板的載物臺(tái)重疊在石 臺(tái)(門形載物臺(tái))上，可調(diào)整表面的高度水平，在載物臺(tái)兩側(cè)配置噴嘴掃描用的 導(dǎo)軌。
例如，專利文獻(xiàn)1 4揭示的裝置具有圖5A那樣的結(jié)構(gòu)。該裝置的保持基 板用的吸附載物臺(tái)51配置在石臺(tái)52上，通過(guò)墊片56等進(jìn)行吸附載物臺(tái)的水 平調(diào)整。另外，為使噴嘴無(wú)擺動(dòng)、無(wú)偏移地掃描，在石臺(tái)52的表面兩端配置2 根截面為矩形的導(dǎo)軌53，并具有與該導(dǎo)軌卡合的滑塊54。在滑塊54上設(shè)置噴 嘴55，通過(guò)利用未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置使滑塊54沿導(dǎo)軌53移動(dòng)，噴嘴55在基板 表面上進(jìn)行掃描。另外，為順利地進(jìn)行滑塊54與導(dǎo)軌53間的移動(dòng)，如圖5B 所示，在滑塊54與導(dǎo)軌53相對(duì)的3個(gè)面分別設(shè)置空氣軸承57。
專利文獻(xiàn)l:日本特開2006 — 65296號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開2006—167639號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3:日本特開2006 — 49384號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)4:日本特開2003 — 275648號(hào)公報(bào)
但是，如此構(gòu)成的涂布裝置具有如下的問題。
在上述結(jié)構(gòu)的裝置中，由于具有2根導(dǎo)軌，故必須以高精度平行配置導(dǎo)軌， 若導(dǎo)軌的平行度精度低，則在滑塊移動(dòng)時(shí)會(huì)發(fā)生對(duì)2根導(dǎo)軌互相咬入或分離的 所謂振動(dòng)現(xiàn)象。因此，必須高精度調(diào)整導(dǎo)軌的平行度，在制造時(shí)需要時(shí)間。另 外，為了設(shè)置導(dǎo)軌，必須在石臺(tái)上保留敷設(shè)導(dǎo)軌用的空間，導(dǎo)致裝置的大型化。
另外，必須分別準(zhǔn)備保持基板用的載物臺(tái)和石臺(tái)，零件個(gè)數(shù)多。并且，當(dāng) 將兩者組合時(shí)，必須進(jìn)行高度的水平調(diào)整以使安裝位置及載物臺(tái)與石臺(tái)的表面
完全平行，裝置裝配的工時(shí)多。
此外，因裝置的輸送時(shí)等會(huì)發(fā)生石臺(tái)與載物臺(tái)間的水平偏移。因此，在以 往的裝置中，在輸送裝置后，在安裝到工廠等的設(shè)置部位后，要再次進(jìn)行石臺(tái) 與載物臺(tái)間的水平調(diào)整，直至實(shí)際使裝置工作，增加了所需的時(shí)間。
另外，載放在石臺(tái)上的載物臺(tái)成為重負(fù)荷而有時(shí)使石臺(tái)發(fā)生撓曲。在該場(chǎng) 合，該變形影響到安裝在石臺(tái)表面上的導(dǎo)軌。在該狀態(tài)下，在驅(qū)動(dòng)噴嘴時(shí)，噴 嘴發(fā)生移動(dòng)不良，容易使涂布工序不良。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明為解決上述問題，提供了一種可節(jié)省制造及安裝工夫、可使 滑塊順利移動(dòng)的小型輕量的涂布裝置。
本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)上述目的，提供如下結(jié)構(gòu)的涂布裝置。
本發(fā)明的涂布裝置具有
保持玻璃基板的基板保持載物臺(tái)；
噴嘴，該噴嘴比保持在所述基板保持載物臺(tái)上的玻璃基板的寬度尺寸長(zhǎng)， 且比所述基板保持載物臺(tái)的寬度尺寸短；
滑塊，該滑塊具有在所述基板保持載物臺(tái)的寬度方向并排配置的一對(duì)保持 構(gòu)件，將所述噴嘴架設(shè)在所述保持構(gòu)件之間并使所述噴嘴接近于所述載物臺(tái)上 的玻璃基板的表面而保持成非接觸的狀態(tài)，且可沿所述基板保持載物臺(tái)的長(zhǎng)度 方向移動(dòng)，其特征在于，
所述基板保持載物臺(tái)的表面具有設(shè)在中央部的基板保持區(qū)域、設(shè)在從所述 基板保持區(qū)域的寬度方向外側(cè)至側(cè)緣的位置的平滑區(qū)域，
所述滑塊的保持構(gòu)件分別在其下端的所述基板保持載物臺(tái)側(cè)緣外側(cè)位置具 有沿所述基板保持載物臺(tái)的側(cè)面方向延伸的卡合部，所述下端的所述基板保持 載物臺(tái)側(cè)緣內(nèi)側(cè)載放在所述平滑區(qū)域上，同時(shí)將所述卡合部沿側(cè)面配置，從而 能不在所述基板保持載物臺(tái)的寬度方向偏向地沿所述基板保持載物臺(tái)的長(zhǎng)度 方向滑動(dòng)。
所述保持構(gòu)件，最好在其與所述平滑區(qū)域及基板保持載物臺(tái)側(cè)面相對(duì)的2 個(gè)面上具有空氣軸承。
在上述各結(jié)構(gòu)中，所述平滑區(qū)域的表面最好構(gòu)成為由jis (日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)) B0602規(guī)定的平面度在5pm以下。
采用本發(fā)明，保持基板用的構(gòu)件為基板保持載物臺(tái)的基板保持區(qū)域，應(yīng)安 裝使滑塊滑動(dòng)的導(dǎo)向件的構(gòu)件分別相當(dāng)于平滑區(qū)域及側(cè)緣。這些都由稱為基板 保持載物臺(tái)的l個(gè)構(gòu)件構(gòu)成。另外，通過(guò)在滑塊的保持構(gòu)件的下端設(shè)置卡合部
而構(gòu)成截面為鑰匙型，不偏向該基板保持載物臺(tái)的側(cè)緣地進(jìn)行卡合。因此，可 減少零件個(gè)數(shù)、設(shè)置工時(shí)，并在裝置輸送時(shí)不會(huì)發(fā)生基板吸附載物臺(tái)的水平偏 移。另外，對(duì)于以往石臺(tái)的表面配置必要的導(dǎo)軌的區(qū)域，本發(fā)明通過(guò)利用基板 保持載物臺(tái)的側(cè)緣而可將裝置小型化和輕量化。
另外，保持基板用的構(gòu)件和使滑塊滑動(dòng)用的導(dǎo)向件，作為基板保持載物臺(tái) 而構(gòu)成一體型，不需要進(jìn)行以往裝置所需要的石臺(tái)與載物臺(tái)間的水平調(diào)整。這樣，可獲得平面精度高的載物臺(tái)。
此外，基板保持載物臺(tái)的上表面配置滑塊和噴嘴，由于載放在上表面的構(gòu) 件是輕量的，故可將負(fù)荷引起的撓曲量抑制得較小。這樣，難以發(fā)生因撓曲所 造成的移動(dòng)不良，可進(jìn)行穩(wěn)定的涂布。
另外，以往是使用2根導(dǎo)軌，但本發(fā)明通過(guò)作成像用l根導(dǎo)軌構(gòu)成的形狀， 從而消除了為不發(fā)生振動(dòng)現(xiàn)象而調(diào)整2根導(dǎo)軌平行度的時(shí)間和發(fā)生這種現(xiàn)象之 虞。
本發(fā)明的這些效果和其它目的及特征，從附圖及有關(guān)較佳實(shí)施形態(tài)的如下 描述可知。


圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)的涂布裝置的基板保持時(shí)的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖2是表示圖1的涂布裝置的基板保持載物臺(tái)與滑塊的位置關(guān)系的大致結(jié)構(gòu)圖。
圖3是表示圖1的涂布裝置的基板保持載物臺(tái)的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖4是圖1的涂布裝置的保持構(gòu)件的部分放大立體圖。
圖5A是表示以往的涂布裝置的結(jié)構(gòu)的大致結(jié)構(gòu)圖。
圖5B是圖5A的部分放大圖。
具體實(shí)施例方式
在繼續(xù)描述本發(fā)明前，在附圖中對(duì)相同零件標(biāo)上相同參照符號(hào)。下面，根 據(jù)

本發(fā)明的一實(shí)施形態(tài)的涂布裝置。
圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)的涂布裝置的結(jié)構(gòu)的立體圖，表示玻璃基板 載放在載物臺(tái)上的狀態(tài)。本實(shí)施形態(tài)的涂布裝置1具有對(duì)玻璃基板(下面簡(jiǎn)稱為 基板)100進(jìn)行保持的基板保持載物臺(tái)2和沿該基板保持載物臺(tái)2的長(zhǎng)度方向可 滑動(dòng)的滑塊3。
基板保持載物臺(tái)2具有用于涂布涂布液且比基板100面積大的上表面6， 其寬度方向相對(duì)的側(cè)緣10a成為平行，由此構(gòu)成長(zhǎng)方體形狀的構(gòu)件。本實(shí)施形
態(tài)的基板保持載物臺(tái)2是對(duì)花崗石進(jìn)行研磨作成的?；灞３州d物臺(tái)2如圖3 所示，其上表面6具有設(shè)在中央部分的基板保持區(qū)域11和在從基板保持區(qū)域 的寬度方向外側(cè)至側(cè)緣10a的區(qū)域設(shè)置的平滑區(qū)域10。
基板保持區(qū)域11是用于保持基板100的區(qū)域，通過(guò)從設(shè)在表面的吸引孔 lla(參照?qǐng)D3)進(jìn)行真空吸附而牢牢地保持基板100。基板保持區(qū)域11的寬度方 向尺寸B做得比成為處理對(duì)象的基板的寬度方向還大。對(duì)基板保持區(qū)域11也 可構(gòu)成為將多個(gè)基板并排配置。
平滑區(qū)域10是基板保持區(qū)域的外側(cè)區(qū)域，其寬度尺寸A最好約是100 500mm左右。在本實(shí)施形態(tài)中是300mm。若將基板保持區(qū)域的尺寸做得太大， 則基板保持載物臺(tái)2的尺寸變大而使裝置平白無(wú)故的大型化。而若做得太小， 則難以順利進(jìn)行后述的滑塊3的移動(dòng)。對(duì)平滑區(qū)域10作平滑研磨以使得比基 板保持區(qū)域11還要平滑。平滑區(qū)域的平滑程度最好是基于JIS B0602的平面度 為5|im以下。
在基板保持載物臺(tái)2上設(shè)置未圖示的起動(dòng)加注裝置(7°，< $ y夕"手段)。 起動(dòng)加注裝置的用途是，例如在涂布動(dòng)作后，擦去殘留在噴嘴5的排出口處的 多余的涂布液，均勻地將排出口清潔化。起動(dòng)加注裝置由以向噴嘴5的延伸方 向延伸的軸為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的滾輪等構(gòu)成，使噴嘴5的排出口與該滾輪的 表面接觸，進(jìn)行噴嘴5的清潔化。最好在基板保持載物臺(tái)2的表面設(shè)置凹部， 起動(dòng)加注裝置搭載在該凹部?jī)?nèi)。
滑塊3具有在基板保持載物臺(tái)2的寬度方向并排配置的一對(duì)保持構(gòu)件4和 架設(shè)在保持構(gòu)件間的噴嘴5。噴嘴5是線狀的噴嘴，其可向上下方向移動(dòng)，根 據(jù)所使用的基板的厚度尺寸等可調(diào)整其位置，如圖2所示，構(gòu)成為比處理對(duì)象 即基板100的寬度尺寸長(zhǎng)且比基板保持載物臺(tái)2的寬度尺寸短，并可在其延伸 方向均勻排出涂布液。該噴嘴5根據(jù)不同的涂布液種類與基板100空開80至 150(im左右的極小間隙，通過(guò)一邊排出涂布液一邊在基板IOO上掃描，從而將 涂布液涂布在基板100的表面上。此時(shí)，若噴嘴5與基板100的間隔產(chǎn)生變化， 涂布液的涂膜發(fā)生厚度不均，故盡量確保平行度地沿基板IOO的表面掃描，這 是這些涂布裝置的一般要求。
滑塊3的保持構(gòu)件4載放在基板保持載物臺(tái)2的上表面6上。各自的保持 構(gòu)件4的下端，在基板保持載物臺(tái)側(cè)緣外側(cè)位置沿基板保持載物臺(tái)2的側(cè)面設(shè) 置卡合部13。該保持構(gòu)件4的下端部分，由該卡合部13和保持構(gòu)件4的下表 面形成截面為鑰匙型的形狀。
保持構(gòu)件4配置成其下端的鑰匙型形狀與基板保持載物臺(tái)2的周緣形狀對(duì) 應(yīng)。即，保持構(gòu)件4的下端部位于基板保持載物臺(tái)2的平滑區(qū)域10的上側(cè)，.卡合部13沿基板保持載物臺(tái)2的側(cè)面配置。如此，通過(guò)將滑塊3設(shè)在基板保
持載物臺(tái)2上，滑塊3通過(guò)互相夾住基板保持載物臺(tái)2構(gòu)成為對(duì)稱的卡合部13 而與側(cè)緣10a卡合，防止滑塊3在基板保持載物臺(tái)2的寬度方向偏位。
另外，為了順利進(jìn)行后述的滑塊的移動(dòng)，如圖4所示，在保持構(gòu)件4的與 基板保持載物臺(tái)2相對(duì)的載物臺(tái)相對(duì)面14上設(shè)置空氣軸承7?？諝廨S承7，通 過(guò)將從未圖示的高壓空氣緣供給的高壓空氣排出，使互相相對(duì)配置的面稍許隔 開，減小它們之間產(chǎn)生的摩擦力，容易向沿著該相對(duì)面的方向滑動(dòng)。即，可順 利地進(jìn)行滑塊3相對(duì)基板保持載物臺(tái)2的移動(dòng)。
滑塊3與基板保持載物臺(tái)2由于配置成在夾住側(cè)緣10a的2個(gè)面相對(duì)，故 設(shè)置空氣軸承7的面即載物臺(tái)相對(duì)面14為2個(gè)面。這樣，與用截面為矩形的 導(dǎo)軌使滑塊移動(dòng)的場(chǎng)合相比，可減少空氣軸承的設(shè)置個(gè)數(shù)。
為賦予使滑塊3向基板保持載物臺(tái)2的長(zhǎng)度方向滑動(dòng)的推力，在滑塊3或 基板保持載物臺(tái)2的任一方上設(shè)置未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置。
上述結(jié)構(gòu)的涂布裝置，由于構(gòu)成為將滑塊3直接安裝在保持基板的基板保 持載物臺(tái)2上，故可使裝置的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，另外，可實(shí)現(xiàn)裝置的小型化及輕量化。 載放滑塊3的基板保持載物臺(tái)2的上表面6其側(cè)緣10a的近旁部分是被平滑處 理的平滑區(qū)域IO，在使滑塊3滑動(dòng)的場(chǎng)合，不會(huì)向基板100的厚度方向發(fā)生偏 移。
另外，通過(guò)將載放基板的面與滑塊的滑動(dòng)面配置在同一平面上，噴嘴5與 基板100的間隔可由基板100的厚度尺寸唯一地決定。艮P，若決定了基板100 的厚度尺寸，則滑塊與基板的厚度的水平整體只要調(diào)整噴嘴高度即可，保持基 板的構(gòu)件即基板保持載物臺(tái)2的調(diào)整完全不需要。
另外，在具有對(duì)滑塊進(jìn)行導(dǎo)向的面即平滑區(qū)域10的基板保持載物臺(tái)2上由 于不載放用于載放基板的構(gòu)件，故在輸送時(shí)不發(fā)生偏移，且由于不載放重量大 的構(gòu)件，故還可抑制基板保持載物臺(tái)2的撓曲，難以產(chǎn)生滑塊移動(dòng)不良。
另外，以往技術(shù)中導(dǎo)軌是2根，而本發(fā)明由于是像用1根導(dǎo)軌構(gòu)成的形狀， 故不需要調(diào)整2根導(dǎo)軌平行度的時(shí)間。
如以上說(shuō)明那樣，采用本實(shí)施形態(tài)的涂布裝置，可節(jié)省制造及安裝的工時(shí)， 并可順利地使滑塊移動(dòng)，可作成小型、輕量。
本發(fā)明不限定于上述實(shí)施形態(tài)，可用其它各種形態(tài)實(shí)施。
本發(fā)明參照附圖對(duì)較佳實(shí)施形態(tài)進(jìn)行了充分描述，對(duì)于該技術(shù)熟練的人們 來(lái)說(shuō)是明白各種變形和修改的。這種變形和修改，只要不脫離所附的權(quán)利要求 書的本發(fā)明范圍，應(yīng)被理解為包含在其中。
工業(yè)上的實(shí)用性
本發(fā)明的涂布裝置，例如在將涂布液涂布在液晶顯示器所用的玻璃基板表 面上的場(chǎng)合等中能較好地使用。
權(quán)利要求
1.一種涂布裝置，具有保持玻璃基板的基板保持載物臺(tái)；噴嘴，該噴嘴比保持在所述基板保持載物臺(tái)上的玻璃基板的寬度尺寸長(zhǎng)，且比所述基板保持載物臺(tái)的寬度尺寸短；以及滑塊，該滑塊具有在所述基板保持載物臺(tái)的寬度方向上并排配置的一對(duì)保持構(gòu)件，將所述噴嘴架設(shè)在所述保持構(gòu)件之間并使所述噴嘴接近于所述載物臺(tái)上的玻璃基板的表面而保持成非接觸的狀態(tài)，且可沿所述基板保持載物臺(tái)的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，其特征在于，所述基板保持載物臺(tái)的表面具有設(shè)在中央部的基板保持區(qū)域、以及設(shè)在從所述基板保持區(qū)域的寬度方向外側(cè)至側(cè)緣的位置的平滑區(qū)域，所述滑塊的保持構(gòu)件，分別在其下端的所述基板保持載物臺(tái)側(cè)緣外側(cè)位置具有向所述基板保持載物臺(tái)的側(cè)面方向延伸的卡合部，所述下端的所述基板保持載物臺(tái)側(cè)緣內(nèi)側(cè)載放在所述平滑區(qū)域，且將所述卡合部沿側(cè)面配置，從而能不在所述基板保持載物臺(tái)的寬度方向上偏向地沿所述基板保持載物臺(tái)的長(zhǎng)度方向滑動(dòng)。
2. 如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述保持構(gòu)件在其與所述 平滑區(qū)域及基板保持載物臺(tái)側(cè)面相對(duì)的2個(gè)面上具有空氣軸承。
3. 如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述平滑區(qū)域的表面構(gòu)成 為由JIS B0602規(guī)定的平面度在5|iim以下。
全文摘要
一種涂布裝置(1)，具有基板保持載物臺(tái)(2)和在基板保持載物臺(tái)的寬度方向并排配置并具有保持噴嘴(5)的一對(duì)保持構(gòu)件(4)的滑塊(3)，所述基板保持載物臺(tái)(2)的上表面(6)具有設(shè)在中央部的基板保持區(qū)域(11)和設(shè)在從所述基板保持區(qū)域(11)的寬度方向外側(cè)至側(cè)緣(10a)的位置的平滑區(qū)域(10)。保持構(gòu)件(4)分別在其下端的所述基板保持載物臺(tái)側(cè)緣外側(cè)位置形成沿所述基板保持載物臺(tái)的側(cè)面方向延伸的卡合部(13)，所述下端的所述基板保持載物臺(tái)側(cè)緣內(nèi)側(cè)載放在所述平滑區(qū)域(10)上，并沿側(cè)面配置所述卡合部，因而可防止滑塊(3)向所述基板保持載物臺(tái)(2)的寬度方向偏移。采用本發(fā)明，可節(jié)省制造及安裝的時(shí)間，消除噴嘴與基板的間隔竄動(dòng)，可消除導(dǎo)軌的調(diào)整。
文檔編號(hào)B05C5/02GK101204692SQ20071019980
公開日2008年6月25日 申請(qǐng)日期2007年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月15日
發(fā)明者橫山雅樹, 甲田正紀(jì) 申請(qǐng)人:中外爐工業(yè)株式會(huì)社